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工藝

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工藝資訊

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中頻直流點焊機工藝的簡單介紹

深圳市斯特科技有限公司是專業(yè)從事自動化裝配、焊接、檢測設(shè)備和生產(chǎn)流水線的研制企業(yè),主要應(yīng)用于家電五金、汽車制造、鈑金、3C電子行業(yè)等??筛鶕?jù)客戶需求,研...

2022-03-28 標簽:工藝設(shè)備焊接 2.5k 0

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本文章將對表面組織工藝優(yōu)化進行研究,多晶硅晶片表面組織化工藝主要分為干法和濕法,其中利用酸或堿性溶液的濕法蝕刻工藝在時間和成本上都比較優(yōu)秀,主要適用于太...

2022-03-25 標簽:工藝蝕刻晶片 936 0

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本研究考察了這些HF最終工藝對干燥后南水標記的生成有何影響。 通過對Teflon、SiO2、Silicon分別進行適當?shù)那逑床襟E,制備了具有親水性和疏水...

2022-03-25 標簽:工藝測量 526 0

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本文提出了一種新型的雙層光阻劑方法來減少負光阻劑浮渣。選擇正光刻膠作為底層抗蝕劑,選擇負光刻膠作為頂層抗蝕膠。研究了底層抗蝕劑的粘度和厚度對浮渣平均數(shù)量...

2022-03-24 標簽:工藝參數(shù)光刻 1.3k 0

利用臭氧去離子水開發(fā)成本低的新型清洗工藝

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2022-03-24 標簽:半導(dǎo)體工藝晶片 804 0

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2022-03-23 標簽:半導(dǎo)體晶圓工藝 1.1k 0

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利用異丙醇(IPA)和氮載氣開發(fā)了一種創(chuàng)新的晶片干燥系統(tǒng),取代了傳統(tǒng)的非環(huán)保晶片干燥系統(tǒng)。研究了IPA濃度是運行該系統(tǒng)的最重要因素,為了防止IPA和熱量...

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幾乎所有的直接晶圓鍵合都是在化學(xué)機械拋光的基板之間或在拋光基板頂部的薄膜之間進行的。在晶圓鍵合中引入化學(xué)機械拋光將使大量材料適用于直接晶圓鍵合,這些材料...

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在襯底溫度、壓力和紫外暴露等不同工藝條件下,在200?C下使用紫外增強O2GPC去除聚乙EG的實驗,通過在200?C的襯底溫度下,在150秒內(nèi)去除約20...

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鋁合金壓鑄是常用的一種金屬成形方式。常用的壓力為數(shù)十兆帕,填充速度(內(nèi)澆口速度)約為16~80米/秒,金屬液填充模具型腔的時間極短,約為0.01~0.2秒。

2022-03-20 標簽:工藝參數(shù)測量 1.2萬 0

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VK1640B 是一款 LED(發(fā)光二極管顯示器)驅(qū)動控制專用電路,內(nèi)部集成有 MCU 數(shù)字接口、數(shù)據(jù)鎖存器、LED 高壓驅(qū)動。本產(chǎn)品采用 CMOS 工...

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在本文中,我們?nèi)A林科納半導(dǎo)體將專注于一種新的化學(xué)變薄技術(shù),該技術(shù)允許晶圓變薄到50μm或更少,均勻性更好,比傳統(tǒng)的變薄成本更低。我們還將討論處理無任何類...

2022-03-18 標簽:半導(dǎo)體晶圓工藝 1.5k 0

氮化鎵的大面積光電化學(xué)蝕刻技術(shù)

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2022-03-17 標簽:工藝氮化鎵刻蝕 1.7k 0

三種先進晶圓清潔工藝介紹

為了滿足更嚴格的晶圓清潔度要求、新出現(xiàn)的環(huán)境問題和更嚴格的成本效益標準,晶圓清潔技術(shù)正慢慢遠離傳統(tǒng)的基于RCA的工藝。本文比較了在同一個濕式臺架上進行的...

2022-03-17 標簽:晶圓工藝生產(chǎn)線 2.1k 0

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