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襯底

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襯底技術(shù)

一文詳解襯底偏壓技術(shù)

一文詳解襯底偏壓技術(shù)

隨著集成電路工藝尺寸的不斷降低,靜態(tài)功耗在總功耗中所占的比例越來(lái)越大,甚至是主要位置(65nm工藝下,某些情況下靜態(tài)功耗占總功耗的50%)。 在實(shí)際的電...

2023-01-19 標(biāo)簽:集成電路CMOS工藝 9078 0

碳化硅技術(shù)壁壘分析:碳化硅技術(shù)壁壘是什么 碳化硅技術(shù)壁壘有哪些

碳化硅技術(shù)壁壘分析:碳化硅技術(shù)壁壘是什么 碳化硅技術(shù)壁壘有哪些

碳化硅技術(shù)壁壘分析:碳化硅技術(shù)壁壘是什么 碳化硅技術(shù)壁壘有哪些 碳化硅芯片不僅是一個(gè)新風(fēng)口,也是一個(gè)很大的挑戰(zhàn),那么我們來(lái)碳化硅技術(shù)壁壘分析下碳化硅技術(shù)...

2023-02-03 標(biāo)簽:SiC襯底碳化硅 4810 0

碳化硅晶體的生長(zhǎng)原理

碳化硅晶體的生長(zhǎng)原理

碳化硅晶體的生長(zhǎng)原理 在自然界中,晶體不勝枚舉,其分布及應(yīng)用都十分廣泛。例如日常生活中隨處可見(jiàn)的鹽、糖、鉆石、雪花都是晶體;此外,半導(dǎo)體晶體、激光晶體、...

2024-08-03 標(biāo)簽:晶體SiC襯底 3947 0

GaN襯底制造過(guò)程中N面氮化鎵清洗工藝的研究報(bào)告

GaN襯底制造過(guò)程中N面氮化鎵清洗工藝的研究報(bào)告

氮化鎵由于其寬的直接帶隙、高熱和化學(xué)穩(wěn)定性,已成為短波長(zhǎng)發(fā)射器(發(fā)光二極管和二極管激光器)和探測(cè)器等許多光電應(yīng)用的誘人半導(dǎo)體,以及高功率和高溫電子器件。...

2022-02-08 標(biāo)簽:氮化鎵CMPGaN 3858 0

淺談薄膜沉積

薄膜沉積工藝技術(shù)介紹 薄膜沉積是在半導(dǎo)體的主要襯底材料上鍍一層膜。這層膜可以有各種各樣的材料,比如絕緣化合物二氧化硅,半導(dǎo)體多晶硅、金屬銅等。從半導(dǎo)體芯...

2024-11-01 標(biāo)簽:半導(dǎo)體封裝襯底 2666 0

蝕刻工藝關(guān)于濕化學(xué)處理后InP表面的研究

蝕刻工藝關(guān)于濕化學(xué)處理后InP表面的研究

引言 本文將討論在不同的濕化學(xué)溶液中浸泡后對(duì)InP表面的氧化物的去除。本文將討論接收襯底的各種表面成分,并將有助于理解不同的外原位濕化學(xué)處理的影響。這項(xiàng)...

2022-01-12 標(biāo)簽:InP技術(shù)化學(xué)蝕刻 2252 0

半導(dǎo)體襯底材料的選擇

電子科技領(lǐng)域中,半導(dǎo)體襯底作為基礎(chǔ)材料,承載著整個(gè)電路的運(yùn)行。隨著技術(shù)的不斷發(fā)展,對(duì)半導(dǎo)體襯底材料的選擇和應(yīng)用要求也越來(lái)越高。本文將為您詳細(xì)介紹半導(dǎo)體襯...

2024-01-20 標(biāo)簽:半導(dǎo)體襯底碳化硅 2221 0

碳化硅單晶襯底加工技術(shù)現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢(shì)

摘 要: 碳化硅單晶具有極高的硬度和脆性,傳統(tǒng)加工方式已經(jīng)不能有效地獲得具有超高光滑表面的碳化硅晶片。針對(duì)碳化硅單晶襯底加工技術(shù),本文綜述了碳化硅單晶切...

2023-01-11 標(biāo)簽:單晶襯底加工技術(shù) 2107 0

研究碳化硅襯底和外延的實(shí)驗(yàn)報(bào)告

研究碳化硅襯底和外延的實(shí)驗(yàn)報(bào)告

摘要 本發(fā)明提供一種能夠提供低位錯(cuò)缺陷的高質(zhì)量襯底的單晶碳化硅錠,和由此獲得的襯底和外延晶片。 它是一種包含單晶碳化硅的單晶碳化硅錠,該單晶碳化硅含有濃...

2022-02-15 標(biāo)簽:晶圓襯底鍍膜 2036 0

ZnO上ZnCdO的選擇性濕法刻蝕 南通華林科納

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最近在外延膜的導(dǎo)電率控制和高質(zhì)量塊狀氧化鋅襯底的可用性方面的進(jìn)展重新引起了我們對(duì)用于紫外光發(fā)射器和透明電子器件的氧化鋅/氧化鋅/氧化鋅異質(zhì)結(jié)構(gòu)系統(tǒng)的興趣。

2021-12-13 標(biāo)簽:半導(dǎo)體襯底光刻膠 1651 0

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襯底資訊

5G、AI、汽車加持,半導(dǎo)體用量驟增,聽(tīng)聽(tīng)材料廠商怎么說(shuō)

電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/黃晶晶)5G、人工智能以及能源效率對(duì)半導(dǎo)體芯片的需求增長(zhǎng)已經(jīng)是趨勢(shì),現(xiàn)時(shí)出現(xiàn)的芯片缺貨現(xiàn)象也離不開(kāi)這些新興應(yīng)用需求的影響。追溯到芯...

2021-03-12 標(biāo)簽:襯底FD-SOISoitec 5744 0

2023年國(guó)內(nèi)主要碳化硅襯底供應(yīng)商產(chǎn)能現(xiàn)狀

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電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/梁浩斌)在過(guò)去的2023年里,國(guó)內(nèi)碳化硅產(chǎn)業(yè)經(jīng)歷了可能是發(fā)展速度最快的一年。首先是碳化硅襯底取得突破,8英寸進(jìn)展神速,同時(shí)三安和天...

2024-01-08 標(biāo)簽:SiC襯底碳化硅 4257 0

碳化硅降本關(guān)鍵:晶體制備技術(shù)

電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/梁浩斌)在碳化硅產(chǎn)業(yè)鏈中,襯底是價(jià)值量最大的部分,在碳化硅器件成本構(gòu)成中襯底甚至能夠占近50%,相比之下,硅基半導(dǎo)體器件的成本構(gòu)成...

2024-01-21 標(biāo)簽:襯底碳化硅第三代半導(dǎo)體 3152 0

Soitec成立30年,優(yōu)化襯底煥發(fā)新生,迎通信、汽車、智能設(shè)備強(qiáng)勁增長(zhǎng)

Soitec成立30年,優(yōu)化襯底煥發(fā)新生,迎通信、汽車、智能設(shè)備強(qiáng)勁增長(zhǎng)

電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/黃晶晶)襯底是具有特定晶面和適當(dāng)電學(xué),光學(xué)和機(jī)械特性的用于生長(zhǎng)外延層的潔凈單晶薄片。法國(guó)Soitec公司就是設(shè)計(jì)和生產(chǎn)優(yōu)化襯底的半...

2022-12-28 標(biāo)簽:襯底FD-SOISOITEC 2980 0

國(guó)內(nèi)碳化硅襯底生產(chǎn)企業(yè)盤點(diǎn)

在碳化硅產(chǎn)業(yè)鏈中,碳化硅襯底制造是碳化硅產(chǎn)業(yè)鏈技術(shù)壁壘最高、價(jià)值量最大的環(huán)節(jié),是未來(lái)碳化硅大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化推進(jìn)的核心環(huán)節(jié)。 碳化硅襯底的生產(chǎn)流程包括長(zhǎng)晶、...

2023-10-27 標(biāo)簽:SiC襯底碳化硅 2623 0

江蘇丹陽(yáng)延陵鎮(zhèn)與博藍(lán)特半導(dǎo)體達(dá)成碳化硅襯底布局戰(zhàn)略合作

在這次考察中,考察團(tuán)主要針對(duì)博藍(lán)特公司計(jì)劃將其第三代半導(dǎo)體碳化硅襯底項(xiàng)目引入到延陵鎮(zhèn),這筆交易總預(yù)算高達(dá)十億元人民幣,其中包括兩年內(nèi)生產(chǎn) 25 萬(wàn)片六至...

2024-01-19 標(biāo)簽:半導(dǎo)體襯底碳化硅 2417 0

國(guó)內(nèi)首家10英寸藍(lán)寶石襯底問(wèn)世

國(guó)內(nèi)首家10英寸藍(lán)寶石襯底問(wèn)世

繼2月份宣布量產(chǎn)4英寸和6英寸藍(lán)寶石襯底后,蘇州海鉑晶體有限公司(以下簡(jiǎn)稱“海鉑晶體”)再次宣布:公司已于近期順利生產(chǎn)出10英寸晶錠,良品率達(dá)80%以上...

2012-08-03 標(biāo)簽:襯底藍(lán)寶石襯底 2396 0

二維半導(dǎo)體薄膜在任意表面的異質(zhì)外延技術(shù)

二維半導(dǎo)體薄膜在任意表面的異質(zhì)外延技術(shù)

二維半導(dǎo)體薄膜在任意表面的異質(zhì)外延技術(shù) 上海超級(jí)計(jì)算中心用戶北京大學(xué)陳基研究員與合作者提出了一種在不同晶體對(duì)稱性、不同晶格常數(shù)和三維架構(gòu)基底上異質(zhì)外延生...

2022-10-19 標(biāo)簽:半導(dǎo)體超級(jí)計(jì)算襯底 2001 0

合肥世紀(jì)金芯簽下2億美元SiC襯底片大單,產(chǎn)能將大幅提升

據(jù)了解,世紀(jì)金芯近期在8英寸SiC襯底片領(lǐng)域取得重要突破,成功開(kāi)發(fā)出可重復(fù)生長(zhǎng)出4H晶型、直徑大于200mm、厚度超過(guò)10mm的晶體的8寸SiC單晶生長(zhǎng)技術(shù)。

2024-04-23 標(biāo)簽:晶體SiC襯底 1507 0

碳化硅賽道持續(xù)火熱 三安光電聯(lián)合ST加大碳化硅賽道投資超200億

碳化硅賽道持續(xù)火熱 三安光電聯(lián)合ST加大碳化硅賽道投資超200億 在新能源汽車、充電樁、光伏發(fā)電、高壓輸電市場(chǎng)如火如荼之際,三安光電正持續(xù)加大投入;這次...

2023-06-08 標(biāo)簽:晶圓ST襯底 1422 0

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