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行業(yè) | 華虹半導體宣布其第三代90nm eFlash工藝平臺量產!

集成電路應用雜志 ? 來源:YXQ ? 2019-07-29 10:53 ? 次閱讀
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全球領先的特色工藝純晶圓代工企業(yè)——華虹半導體有限公司(“華虹半導體”或“公司”,股份代號:1347.HK)宣布其第三代90 納米嵌入式閃存(90nm eFlash)工藝平臺已成功實現(xiàn)量產。

華虹半導體一直深耕嵌入式非揮發(fā)性存儲器技術領域,通過不斷的技術創(chuàng)新,第三代90納米嵌入式閃存工藝平臺的Flash元胞尺寸較第二代工藝縮小近40%,再創(chuàng)全球晶圓代工廠90納米工藝節(jié)點嵌入式閃存技術的最小尺寸紀錄。Flash IP具有更明顯的面積優(yōu)勢,使得芯片整體面積進一步減小,從而在單片晶圓上獲得更多裸芯片數量。與此同時,光罩層數也隨之進一步減少,有效縮短了流片周期。而可靠性指標繼續(xù)保持著高水準,可達到10萬次擦寫及25年數據保持能力。近年來,華虹半導體在90納米工藝節(jié)點連續(xù)成功推出三代閃存工藝平臺,在保持技術優(yōu)勢的同時,不斷探求更高性價比的解決方案。第三代工藝平臺的大規(guī)模穩(wěn)定量產,為電信卡、Ukey、交通卡等智能卡和安全芯片產品以及微控制器MCU)等多元化產品提供持續(xù)穩(wěn)定的支持和解決方案。

華虹半導體執(zhí)行副總裁孔蔚然博士表示:“華虹半導體是嵌入式非易失性存儲器技術的領航者,未來將繼續(xù)聚焦200mm差異化技術的研發(fā)創(chuàng)新,面向高密度智能卡與高端微控制器市場,同時不斷致力于在功耗和面積方面提供顯著的優(yōu)化,將200mm現(xiàn)有的技術優(yōu)勢向300mm延伸,更好地服務國內外半導體芯片設計公司,滿足市場需求?!?/p>

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原文標題:華虹半導體第三代90納米嵌入式閃存工藝平臺成功量產

文章出處:【微信號:appic-cn,微信公眾號:集成電路應用雜志】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

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