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半導體的3nm工藝研發(fā)制作為什么提前啟動了

Wildesbeast ? 來源:未知 ? 作者:多多說事兒 ? 2019-10-26 11:13 ? 次閱讀
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過去幾年,半導體產業(yè)風起云涌。一方面,中國半導體異軍突起。另一方面,全球產業(yè)面臨超級周期,加上人工智能等新興應用的崛起,全球半導體行業(yè)競爭激烈。而在芯片代工市場,我們不得不說到臺積電、三星聯(lián)發(fā)科。但目前,臺積電占據(jù)全球晶圓代工市場大約60%的份額,在7nm工藝節(jié)點幾乎壟斷了目前所有芯片代工訂單。

這要歸根于臺積電的積極政策,近兩年,臺積電動作相當迅速,此前有媒體透露,臺積電將于2020年第2季初量產的5納米制程,已經(jīng)獲得蘋果、華為、高通等企業(yè)的訂單。近日更是傳出其即將提前啟動3納米制程,令業(yè)界驚訝。

據(jù)悉,臺積電3納米晶圓廠原計劃于明年7月啟動,近日臺積電已經(jīng)向當局發(fā)出提前啟動的訊號,預計將于年底前完成交割事宜。據(jù)TPU報道,臺積電已在中國***南部科技園獲得了30公頃土地,來加快3納米晶圓廠的建設,預計在2023年開始大規(guī)模生產3nm制程的芯片。但這一消息沒有得到臺積電方面證實。

目前來看,臺積電在7納米制程技術與良率一直領先對手。據(jù)悉,6納米制程計劃在2020年第1季進入試產,第2季初量產5納米制程,而在市場預期看好5G手機AI等需求的帶動下,高需求的態(tài)勢將持續(xù)到2021年甚至更長。

目前,盡管3nm工藝并非正式啟動,但臺積電表示,3nm絕不僅僅是5nm簡單的更新?lián)Q代,而是會采取一種全新的工藝,同時也會使用深紫外(DUV)和極紫外(EUV)光刻設備,并且采用更多的EUV層。

目前,智能手機中芯片的主要代工都是在臺積電上,因為目前臺積電在7nm工藝上比較成熟。三星方面雖然在7nm節(jié)點上落后了臺積電,但三星表態(tài)他們的3nm工藝要早于臺積電。三星晶圓代工業(yè)務負責人Eun Seung Jung此前也表示,三星已經(jīng)完成了3nm工藝技術的性能驗證,并且在進一步完善該工藝,目標是在2020年大規(guī)模量產。

那么,芯片工藝從目前的7nm升級到3nm后,到底有多大提升呢?我們知道,芯片是由很多的晶體管組成的,制程多少則是代表晶體管的尺寸,比如7nm工藝則代表晶體管是7nm長的,一般來說,制程越先進,晶體管越小。

具體情況就是:當芯片面積大小相同時,制造越先進,芯片中塞進去的晶體管就越多,性能變強;而如果在同樣數(shù)量的晶體管前提下,制程越先進,則芯片面積會變小,能耗變小。但一般而言,芯片制程越先進時,芯片會朝以上兩個方向同時發(fā)展,即晶體管數(shù)會變多,同時芯片面積也會適當變小一點點,然后性能變強,能耗變小。

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