（文章來(lái)源：科技風(fēng)景線(xiàn)）

在現(xiàn)在的芯片設(shè)計(jì)制造領(lǐng)域，無(wú)論是IDM企業(yè)還是代工企業(yè)，能夠突破14納米制造工藝的企業(yè)沒(méi)幾家，而能夠達(dá)到10納米的更是少之又少，也就是三星和臺(tái)積電了，至于英特爾，這種擠牙膏的企業(yè)，不說(shuō)也罷！現(xiàn)在一般認(rèn)為，在10納米以上的工藝制程方面，將出現(xiàn)三星與臺(tái)積電雙雄爭(zhēng)霸的局面，不過(guò)，以現(xiàn)在的情況來(lái)看，事實(shí)并非如此，很有可能會(huì)出現(xiàn)一家獨(dú)大的局面，而這個(gè)獨(dú)大的一方就是臺(tái)積電。

原因是因?yàn)榕_(tái)積電的制程工藝已經(jīng)接二連三的獲得突破，7納米的量產(chǎn)，5納米的試產(chǎn)，讓臺(tái)積電一時(shí)成為了半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)關(guān)注的焦點(diǎn)，而三星是越來(lái)越跟不上趟了，即便是在5納米和3納米上都喊得震天響，不爭(zhēng)的事實(shí)是還在7納米工藝方面掙扎。

而就在近日，臺(tái)積電在5納米工藝方面，再次獲得了巨大突破，良品率得到了大幅提升，距離商業(yè)量產(chǎn)的時(shí)間是越來(lái)越近了。

在近日舉行的國(guó)際電子設(shè)備會(huì)議上，臺(tái)積電對(duì)外公布了該公司正在全力研制的5nm工藝情況。據(jù)介紹，現(xiàn)在臺(tái)積電的5納米工藝已經(jīng)開(kāi)始風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn)，其中，測(cè)試芯片的良品率平均達(dá)到80％，最高良品率超過(guò)了90％，雖然都是簡(jiǎn)單的測(cè)試芯片，但是這也意味著臺(tái)積電的5納米工藝正在向越來(lái)越成熟邁進(jìn)。

作為臺(tái)積電未來(lái)工藝發(fā)展的關(guān)鍵節(jié)點(diǎn)，5納米工藝將為臺(tái)積電贏(yíng)得更多的客戶(hù)訂單，而按照目前的計(jì)劃，臺(tái)積電的5納米工藝將在明年上半年正式大規(guī)模量產(chǎn)，而先期客戶(hù)就是華為、蘋(píng)果等大客戶(hù)了！現(xiàn)在的臺(tái)積電在芯片制造領(lǐng)域所獲得的巨大成就，一方面是由于人才與資金的不斷投入，加上技術(shù)的不斷積累，使得在工藝技術(shù)方面越走越順，加上廣大需求廠(chǎng)商的訂單支持。

（責(zé)任編輯：fqj）