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5G芯片大戰(zhàn),臺積電緣何成為四方角力背后的重要推手?

章鷹觀察 ? 來源:電子發(fā)燒友原創(chuàng) ? 作者:章鷹 ? 2020-02-28 07:35 ? 次閱讀
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近日,5G智能手機和5G芯片掀開大戰(zhàn)。2月25日上午,小米CEO雷軍在微博上宣布,小米10 Pro發(fā)布并開放購買后的12天,現(xiàn)貨加上全款預訂已接近10萬臺,非常驚人。

2月24日,華為5G智能折疊屏手機MateXs在西班牙巴塞羅那發(fā)布,2月26日中午10點開啟線上預售。華為商城上現(xiàn)實369233人預約。在疫情還沒有散去的當下,5G手機掀起了節(jié)后復工的第一個線上銷售高點。

不管是使用驍龍865芯片的小米,還是使用麒麟990 5G芯片的華為,5G快速上量背后都是臺積電代工5G芯片的身影。

2月26日下午2點,紫光展銳發(fā)布的5G Soc虎賁T7520也是采用臺積電最新在第一季度量產(chǎn)的6nm工藝。我們來梳理一下,臺積電是如何卡準5G芯片上市前布局的時機。

5G芯片對三大特性的要求,7nm制程工藝爆單

臺積電中國區(qū)業(yè)務發(fā)展副總經(jīng)理陳平博士對媒體表示,5G配置于AI等大數(shù)據(jù)技術,將在今后的數(shù)年內(nèi)帶來很多新的應用,產(chǎn)生新的生活模式、生產(chǎn)模式和商業(yè)模式。5G需要的是高性能的芯片。5G芯片產(chǎn)品和先進工藝是密不可分的。

圖:臺積電中國業(yè)務發(fā)展副總經(jīng)理 陳平

5G的三大指標來看,超寬帶、低時延、海量連接,這些如果我們把它轉化成工藝的語言,就是高速、低功耗、高集成,能夠同時滿足這三大指標的工藝,就是我們現(xiàn)在所說的先進供應,5G的產(chǎn)品和先進工藝是密不可分的。

在過去的十幾年里頭,摩爾定律在微縮的方面遇到了一些技術上的困難和瓶頸,在最近十年,在全球科學家、工程師的努力下,取得了重大突破,主要集中三個方面:1、新材料(HK MG材料);2、新的晶體管架構(Fin-FET),也就是鰭形場效應管;3、新光刻技術上,EUV的出現(xiàn)打開了光刻技術上瓶頸。

以7nm為例,臺積電2017年上半年推出,在2018年4月宣布7nm工藝生產(chǎn)線投入量產(chǎn),在同年10月完成了7nmEUV流片。陳平表示,7nm技術是采用了新材料和新的晶體管架構, 相對于之前的16nm技術節(jié)點,7nm在速度上提升了40%,功耗降低了65%以上,在單位集成晶體管個數(shù)上,提高了3.3倍。7nm的誕生對于5G技術正是應運而生,因為5G技術需要的高密度、低功耗和高集成。臺積電7nm制程良率、產(chǎn)能配置在業(yè)界領先。

據(jù)臺積電財報顯示,2019年第四季度實現(xiàn)合并營收約新臺幣3172.4億元,同比增長9.5%、環(huán)比增長8.3%;7nm制程出貨占臺積電2019年第四季晶圓銷售金額的35%;10nm制程出貨占全季晶圓銷售金額的1%;16nm制程出貨占全季晶圓銷售金額的20%??傮w而言,先進制程(包含16nm及更先進制程)的營收達到全季晶圓銷售金額的56%,較上一季度的51%有所成長。

2019年,臺積電在7nm基礎上結合了EUV的技術,創(chuàng)造了一個新的工藝節(jié)點,叫6nm,是7nm工藝的延伸和擴展。6nm工藝也有EUV極紫外光刻技術,相比7nm+(N7+)增加了一個極紫外光刻層,同時相比7nm(N7)可將晶體管密度提升18%,而且設計規(guī)則完全兼容7nm(N7),便于升級遷移,降低成本。

先進制程工藝三大關鍵因素

陳平博士表示,6nm制程,在邏輯密度比較7nm有20%以上的改善,在生態(tài)環(huán)境上, 6nm和7nm是兼容的,所以很多在7nm上已經(jīng)設計的IP也可以復用,上市時間更快。據(jù)***方面的消息,6nm工藝制程技術將在2020年第一季度投產(chǎn),若這樣推測,紫光展銳虎賁T7520產(chǎn)品,最快的量產(chǎn)時間是2020年第四季度。

2020年,6nm工藝成為熱門選項,為全球很多客戶選用。陳平指出,2020年,臺積電5nm工藝將會推出,在第二季度進入量產(chǎn)。據(jù)業(yè)者消息,下半年臺積電5nm接單已滿,除了蘋果新一代A14應用處理器,還包括華為海思新款5G規(guī)格麒麟手機芯片,以及高通5G數(shù)據(jù)機芯片X60及新一代Snapdragon 875手機芯片。

關于先進工藝方向,陳平指出有三個關鍵因素:第一、傳統(tǒng)的工藝萎縮,臺積電今年要推出5nm,在今后要推出3nm、2nm,我們會沿著摩爾定律的方向繼續(xù)前行。第二、3D異構集成,用不同的工藝技術做成的芯片,通過先進的封裝技術整合在一起。第三、軟硬件的共同優(yōu)化,包括設計與工藝的共同優(yōu)化,三軸一起發(fā)展,未來芯片工藝發(fā)展大有前景。

臺積電先前曾公開強調(diào),旗下5nm效能已超越三星的3nm;與7nm相較,晶體管密度多1.8倍,速度增快15%,功耗省30%,同時也是全球第一家提供5nm晶圓代工服務的晶圓廠。

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