chinese直男口爆体育生外卖, 99久久er热在这里只有精品99, 又色又爽又黄18禁美女裸身无遮挡, gogogo高清免费观看日本电视,私密按摩师高清版在线,人妻视频毛茸茸,91论坛 兴趣闲谈,欧美 亚洲 精品 8区,国产精品久久久久精品免费

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

ASML去年交付26臺極紫外光刻機,其中兩款可用于生產(chǎn)7nm和5nm芯片

牽手一起夢 ? 來源:TechWeb ? 作者:辣椒客 ? 2020-03-07 14:39 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

據(jù)國外媒體報道,在芯片的制造過程中,光刻機是必不可少的設(shè)備,在芯片工藝提升到7nm EUV、5nm之后,極紫外光刻機也就至關(guān)重要。

荷蘭的阿斯麥(ASML)公司,是目前全球唯一能制造極紫外光刻機的廠商,他們的報告顯示,在2019年,他們共向用戶交付了26臺極紫外光刻機。

阿斯麥?zhǔn)窃?019年的年報中,披露他們向用戶交付了26臺極紫外光刻機的,較2018年的18臺增加了8臺。從阿斯麥的財報來看,他們在去年四季度交付了8臺極紫外光刻機,這也就意味著他們在去年的前三個季度,就已完成了2018年的交付量。

阿斯麥目前的極紫外光刻機,包括TWINSCAN NXE:3400B和TWINSCAN NXE:3400C,這兩款極紫外光刻機,可用于生產(chǎn)7nm和5nm的芯片,后者是最新推出的,去年共交付了9臺。

年報還披露,極紫外光刻機去年共為阿斯麥帶來了27.997億歐元(折合約31.43億美元)的營收。

責(zé)任編輯:gt

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 芯片
    +關(guān)注

    關(guān)注

    462

    文章

    53623

    瀏覽量

    460164
  • 光刻機
    +關(guān)注

    關(guān)注

    31

    文章

    1197

    瀏覽量

    48766
  • 7nm
    7nm
    +關(guān)注

    關(guān)注

    0

    文章

    267

    瀏覽量

    36230
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點推薦

    俄羅斯亮劍:公布EUV光刻機路線圖,挑戰(zhàn)ASML霸主地位?

    ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/吳子鵬)?在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)格局中,光刻機被譽為 “半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”,而紫外(EUV)光刻技術(shù)更是先進(jìn)制程芯片
    的頭像 發(fā)表于 10-04 03:18 ?9499次閱讀
    俄羅斯亮劍:公布EUV<b class='flag-5'>光刻機</b>路線圖,挑戰(zhàn)<b class='flag-5'>ASML</b>霸主地位?

    AI需求飆升!ASML光刻機直擊2nm芯片制造,尼康新品獲重大突破

    *1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板級封裝(FOPLP)技術(shù)為何會獲得積電、三星等代工大廠的青睞?比較傳統(tǒng)的光刻機設(shè)備,尼康DSP-100的技術(shù)原理有何不同?能解決AI芯片生產(chǎn)當(dāng)中
    的頭像 發(fā)表于 07-24 09:29 ?7360次閱讀
    AI需求飆升!<b class='flag-5'>ASML</b>新<b class='flag-5'>光刻機</b>直擊2<b class='flag-5'>nm</b><b class='flag-5'>芯片</b>制造,尼康新品獲重大突破

    白光干涉儀在EUV光刻后的3D輪廓測量

    EUV(紫外光刻技術(shù)憑借 13.5nm 的短波長,成為 7nm 及以下節(jié)點集成電路制造的核心工藝,其
    的頭像 發(fā)表于 09-20 09:16 ?566次閱讀

    【「AI芯片:科技探索與AGI愿景」閱讀體驗】+半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的前沿技術(shù)

    %。至少將GAA納米片提升幾個工藝節(jié)點。 2、晶背供電技術(shù) 3、EUV光刻機與其他競爭技術(shù) 光刻技術(shù)是制造3nm、5nm等工藝節(jié)點的高端半導(dǎo)體芯片
    發(fā)表于 09-15 14:50

    全球市占率35%,國內(nèi)90%!芯上微裝第500步進(jìn)光刻機交付

    ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道,近日,上海芯上微裝科技股份有限公司(簡稱:芯上微裝,英文簡稱:AMIES)第500步進(jìn)光刻機成功交付,并舉辦了第500 步進(jìn)
    發(fā)表于 08-13 09:41 ?1854次閱讀
    全球市占率35%,國內(nèi)90%!芯上微裝第500<b class='flag-5'>臺</b>步進(jìn)<b class='flag-5'>光刻機</b><b class='flag-5'>交付</b>

    ASML官宣:更先進(jìn)的Hyper NA光刻機開發(fā)已經(jīng)啟動

    電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道,日前,ASML 技術(shù)高級副總裁 Jos Benschop 表示,ASML 已攜手光學(xué)組件獨家合作伙伴蔡司,啟動了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機開發(fā)。
    發(fā)表于 06-29 06:39 ?1867次閱讀

    電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極

    電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極 隨著科技進(jìn)步,對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點直徑有關(guān),電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長,而電子束聚焦后
    發(fā)表于 05-07 06:03

    成都匯陽投資關(guān)于光刻機概念大漲,后市迎來機會

    進(jìn)制程領(lǐng)域,曝光波長逐漸縮短至13.5nm,光刻技術(shù)逐步完善成熟。2024年光刻機市場的規(guī)模為230億美元。2025年光刻機市場的規(guī)模預(yù)計為252億美元。 【
    的頭像 發(fā)表于 04-07 09:24 ?1187次閱讀

    365nm紫外點光源固化燈的特點、優(yōu)勢與應(yīng)用

    在現(xiàn)代制造業(yè)中,紫外光固化技術(shù)已成為一種高效、環(huán)保的固化方式,廣泛應(yīng)用于涂料、油墨、膠水等多個領(lǐng)域。紫外點光源固化燈,尤其是365nm波長的紫外
    的頭像 發(fā)表于 02-13 15:44 ?2279次閱讀

    飛利浦將旗下MEMS代工廠Xiver出售,該廠為ASML光刻機提供組件

    Cees Meeuwis 旗下的 Orange Mills Ventures 領(lǐng)銜的私人投資者財團(tuán)收購。 除了為 ASML紫外光刻設(shè)備提供組件外,Xiver 還為汽車領(lǐng)域提供紅外探測器,并擁有
    的頭像 發(fā)表于 01-16 18:29 ?2531次閱讀

    光刻機的分類與原理

    本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類,光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機包括
    的頭像 發(fā)表于 01-16 09:29 ?5963次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機</b>的分類與原理

    納米壓印光刻技術(shù)旨在與紫外光刻(EUV)競爭

    芯片制造、價值1.5億美元的紫外(EUV,https://spectrum.ieee.org/tag/euv)光刻掃描
    的頭像 發(fā)表于 01-09 11:31 ?1210次閱讀

    組成光刻機的各個分系統(tǒng)介紹

    納米級別的分辨率。本文將詳細(xì)介紹光刻機的主要組成部分及其功能。 光源系統(tǒng) ? 光源系統(tǒng)是光刻機的心臟,負(fù)責(zé)提供曝光所需的能量。早期的光刻機使用汞燈作為光源,但隨著技術(shù)的進(jìn)步,目前多采用深紫外
    的頭像 發(fā)表于 01-07 10:02 ?4303次閱讀
    組成<b class='flag-5'>光刻機</b>的各個分系統(tǒng)介紹

    消息稱積電3nm、5nm和CoWoS工藝漲價,即日起效!

    )計劃從2025年1月起對3nm、5nm先進(jìn)制程和CoWoS封裝工藝進(jìn)行價格調(diào)整。 先進(jìn)制程2025年喊漲,最高漲幅20% 其中,對3nm、5nm
    的頭像 發(fā)表于 01-03 10:35 ?1051次閱讀

    日本首臺EUV光刻機就位

    據(jù)日經(jīng)亞洲 12 月 19 日報道,Rapidus 成為日本首家獲得紫外 (EUV) 光刻設(shè)備的半導(dǎo)體公司,已經(jīng)開始在北海道芯片制造廠內(nèi)安裝
    的頭像 發(fā)表于 12-20 13:48 ?1453次閱讀
    日本首臺EUV<b class='flag-5'>光刻機</b>就位