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傳臺積電第二代5nm工藝表現(xiàn)超預期,性能提升到7%

如意 ? 來源:快科技 ? 作者:憲瑞 ? 2020-11-06 16:46 ? 次閱讀
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臺積電今年量產(chǎn)了5nm工藝,蘋果的A14、華為麒麟9000系列都是臺積電最早的5nm工藝產(chǎn)品,明年則會有第二大5nm工藝N5P,日前有消息稱N5P工藝性能及能效都超過了預期。

根據(jù)臺積電之前的說法,5nm工藝會是他們大面積使用EUV光刻的工藝,光罩層數(shù)從7nm EUV的4層提升到14層,制造難度及成本都會提升的。

今年量產(chǎn)的是第一代5nm工藝N5,2021年還會有升級版的二代5nm工藝N5P,臺積電之前稱N5P的性能提升5%,能效提升10%。

不過日前有消息稱臺積電的N5P工藝表現(xiàn)超過預期,性能提升可提升到7%,能效提升可達到15%,超過宣稱指標。

對于今年的兩款5nm芯片,特別是最早的A14來說,雖然性能很強大,但是有一種觀點認為A14翻車了,提升不如預期,能效表現(xiàn)不太好看,iPhone 12就有過熱的問題。

如今N5P工藝表現(xiàn)超過預期,那對iPhone 13使用的A15處理器來說是個大好事了,明年希望不要在翻車了。
責編AJX

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