除了僅由ASML提供的EUV（極紫外光）光刻系統之外，三星電子和臺積電之間在爭奪超微加工工藝所需設備的安全方面的競爭也越來越激烈。APMI（光化圖案掩膜檢查）系統和制造掩膜的寫入器就是最好的例子。這些是芯片制造的關鍵工具，當芯片制程小于5納米時，它們將決定生產率和質量。像EUV光刻系統一樣，這兩種儀器也僅由單個制造商提供。

業(yè)內人士稱，三星電子和臺積電等全球主要芯片制造商正展開激烈的競爭，以確保超微制造工藝所需的先進設備比其他競爭者更好。

隨著EUV光刻工藝成為全球半導體行業(yè)制造下一代微芯片的關鍵工具，確保盡快拿到ASML的EUV光刻系統的競爭已成為一個巨大的話題。ASML是世界上唯一提供每臺價格超過1.37億美元（1500億韓元）的EUV光刻系統的公司。

但是，除了EUV光刻系統以外，還有其他先進的系統，由于缺乏供應商而難以購買。主要包括基于電子束的寫入器，該寫入器將電路布局打印到EUV掩模上，并且檢查系統可檢查EUV掩模是否可用。

電子束寫入器扮演“畫筆”角色，將集成電路布圖印刷到掩模上，這對于在光刻過程中將集成電路布圖印刷到晶圓上是絕對必要的。由日本的NuFlare制造的電子束寫入器目前用于基于ArF的光刻工藝。

但是，NuFlare的電子束編寫器很難在EUV環(huán)境下充分發(fā)揮其潛力。EUV光刻工藝要求在單個掩模中快速印刷各種精細的集成電路，而NuFlare的具有單個E束以印刷掩模圖形的單束方法會大大降低生產率。

目前，出現了一種基于多光束的新解決方案，該方法在240，000個密集排列的電子束同時移動時繪制圖案。據報道，該方法的生產率比單束方法快得多，該方法被認為非常先進。

EUV掩模的高科技檢查系統也吸引了人們的注意力，因為它能夠檢查基于復雜結構的EUV掩模，比目前使用ArF光源的檢查系統更精確，更緊密。這個新的檢查系統在將掩模引入生產線之前和之后進行檢查。業(yè)界將此系統稱為APMI系統。

問題在于，像EUV光刻系統一樣，多光束寫入器和APMI系統也都是由單個公司制造的。奧地利的IMS和日本的Lasertec是世界上唯一分別提供多光束記錄器和EUV掩模檢測系統的公司。

據報道，他們的年生產能力甚至沒有達到10個單位。這種能力遠遠低于ASML的能力，后者每年生產35至40臺EUV***。

結果，對于半導體制造商而言，要為基于EUV的工藝（低于5納米）建立大規(guī)模生產系統，以確保生產率和質量，但又很可能無法及時確保這些系統正常運行，成為了一個困擾它們的難題。

三星電子和臺積電正在尋求實施超微制造工藝，因此它們有望成為首家購買此類系統的公司，并展開激烈的競爭。據報道，臺積電近來一直在積極提高其與基于EUV的5納米工藝相關的生產能力，在嘗試提前購買此類系統方面非常積極。

“最近，ASML的EUV光刻系統的生產能力已經優(yōu)于寫入器和APMI系統?！?一位業(yè)內專家說。“就像日本政府早就開始投資Lasertec，并在幫助Lasertec開發(fā)下一代半導體設備中發(fā)揮了重要作用一樣，韓國政府也必須積極推動下一代半導體設備技術的發(fā)展?！?/p>

責任編輯：haq