chinese直男口爆体育生外卖, 99久久er热在这里只有精品99, 又色又爽又黄18禁美女裸身无遮挡, gogogo高清免费观看日本电视,私密按摩师高清版在线,人妻视频毛茸茸,91论坛 兴趣闲谈,欧美 亚洲 精品 8区,国产精品久久久久精品免费

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

國(guó)產(chǎn)“光刻膠”被啪啪打臉,“光刻機(jī)”第一股暫緩上市,熱炒作下的冷思考

Carol Li ? 來(lái)源:電子發(fā)燒友網(wǎng) ? 作者:李彎彎 ? 2021-08-03 07:28 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

電子發(fā)燒友網(wǎng)(文/李彎彎)近日,半導(dǎo)體行業(yè)上演金融專家怒懟行業(yè)專家的戲碼,在一個(gè)半導(dǎo)體行業(yè)交流群里,中芯國(guó)際光刻膠負(fù)責(zé)人楊曉松稱“別扯ArF,沒一家能看的,各個(gè)都不敢來(lái)見我”,方正證券首席電子分析師陳杭怒懟“你算老幾”。

相對(duì)于晶圓制造,陳杭似乎更看好半導(dǎo)體設(shè)備和材料,他在該群公開表示,中芯國(guó)際進(jìn)入實(shí)體名單后,完全基于美系設(shè)備的7nm其現(xiàn)實(shí)意義遠(yuǎn)小于基于國(guó)產(chǎn)設(shè)備的成熟工藝,晶圓代工廠并不是半導(dǎo)體的最底層技術(shù),只是芯片設(shè)備、材料、工藝的集成商。中國(guó)半導(dǎo)體的主要矛盾已經(jīng)從缺少先進(jìn)工藝調(diào)教,轉(zhuǎn)移到缺少估產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備、材料。

針對(duì)此言論,楊曉松直言道,“你知道得太少了”。有報(bào)道顯示,楊曉松代表中芯國(guó)際擁有4項(xiàng)光刻膠方面的專利,是這個(gè)行業(yè)的專家。

當(dāng)下在國(guó)產(chǎn)替代背景下,光刻膠概念股似乎存在爆炒的嫌疑,從陳杭和楊曉松的爭(zhēng)論來(lái)看,光刻膠實(shí)體發(fā)展情況似乎與股票市場(chǎng)的火熱程度相去甚遠(yuǎn)。

8月2日上午開盤,光刻膠概念股集體下跌,彤程新材、容大感光、雅克科技、南大光電、晶瑞股份等個(gè)股一度跌超5%,不過(guò)到下午開始反彈,收盤之時(shí),容大感光、雅克科技、南大光電、上海新陽(yáng)跌幅回升到2%、3%左右,晶瑞股份和彤程新材還上升了6.14%、2.30%。

國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體光刻膠ArF 還沒有量產(chǎn)產(chǎn)品

根據(jù)曝光波長(zhǎng)不同,半導(dǎo)體光刻膠可分為g線(436nm)、i線(365nm)、KrF(248nm),ArF(193nm)以及EUV光刻膠,其中KrF、ArF和EUV光刻膠被認(rèn)為是高端光刻膠,目前國(guó)內(nèi)幾乎空白。

當(dāng)前光刻膠市場(chǎng)幾乎被日本壟斷,全球排名前四的光刻膠廠商都來(lái)自日本,包括合成橡膠、信越化學(xué)、東京應(yīng)化、住友化學(xué),大概占據(jù)全球市場(chǎng)份額的70%,在EUV、ArF、KrF市場(chǎng)的占比依次是99.9%、93%、80%。

目前國(guó)內(nèi)在EUV方面還未涉足,ArF基本還在研發(fā)測(cè)試階段,KrF有小批量訂單,涉足的廠商主要有晶瑞股份、南大光電、上海新陽(yáng)。

晶瑞股份在g線光刻膠產(chǎn)品上規(guī)模供應(yīng)數(shù)十年,i線光刻膠近年已經(jīng)向中芯國(guó)際、合肥長(zhǎng)鑫、士蘭微、揚(yáng)杰科技等企業(yè)供應(yīng),KrF光刻膠完成中試建成了中試示范線,已進(jìn)入客戶測(cè)試階段,達(dá)到0.15μm的分辨率,測(cè)試通過(guò)后即可進(jìn)入量產(chǎn)階段,ArF高端光刻膠研發(fā)工作已正式啟動(dòng)。

南大光電的ArF光刻膠產(chǎn)品在邏輯芯片制造企業(yè)55nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)的產(chǎn)品上已經(jīng)取得認(rèn)證突破,在一家存儲(chǔ)芯片制造企業(yè)的50nm閃存平臺(tái)上也已經(jīng)通過(guò)認(rèn)證,南大光電與認(rèn)證通過(guò)客戶還在就ArF 光刻膠產(chǎn)品的銷售和服務(wù)在協(xié)商中,目前還未正式應(yīng)用。

上海新陽(yáng)KrF(248nm)厚膜光刻膠產(chǎn)品通過(guò)客戶認(rèn)證,并成功取得第一筆訂單。半導(dǎo)體制造用ArF干法工藝使用的光刻膠和面向3D NAND臺(tái)階刻蝕的KrF厚膜光刻膠產(chǎn)品及配套試劑項(xiàng)目已啟動(dòng),預(yù)計(jì)KrF厚膜光刻膠2021年實(shí)現(xiàn)少量銷售,2022年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),ArF(干式)光刻膠2022實(shí)現(xiàn)少量銷售,2023年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。

從這幾家公司的進(jìn)展情況來(lái)看,國(guó)產(chǎn)廠商在g/i線上有部分商用,不過(guò)在KrF、ArF和EUV光刻膠方面幾乎空白,這也正如楊曉松所言,ArF沒一家能看的。

光刻膠概念爆炒過(guò)度 盈利水平支撐不起當(dāng)前市值

從市場(chǎng)規(guī)模來(lái)看,國(guó)產(chǎn)光刻膠市場(chǎng)約為22億美元,不過(guò)從供應(yīng)端來(lái)看,這部分市場(chǎng)重點(diǎn)還是被日本、美國(guó)等企業(yè)包攬,近些年國(guó)產(chǎn)光刻膠企業(yè)確實(shí)在積極研發(fā),然而從上文可以看到,實(shí)際應(yīng)用量產(chǎn)情況極少。

而近來(lái)光刻膠概念被熱潮,光刻膠板塊總市值達(dá)到2500億元,遠(yuǎn)遠(yuǎn)超出國(guó)內(nèi)光刻膠的市場(chǎng)需求。而且光刻膠企業(yè)并沒有多大的出貨,而且從目前的研發(fā)進(jìn)展來(lái)看,未來(lái)幾年可見的量產(chǎn)出貨也是相當(dāng)少的,也就是說(shuō),如果從投資價(jià)值的角度考慮,似乎也沒有足夠的銷售獲得盈利來(lái)支撐。


然而近段時(shí)間,半導(dǎo)體光刻膠企業(yè)股價(jià)卻集體攀升,南大光電在不到一個(gè)月的時(shí)間股價(jià)從35元/股左右漲到現(xiàn)在的80元/股,晶瑞股份從5月份的不到20元/股,漲到現(xiàn)在64元/股,翻了三倍,上海新陽(yáng)5月份股價(jià)大概在30元/股,現(xiàn)在已經(jīng)漲到大約60元/股,也是翻倍增長(zhǎng)。

光刻機(jī)第一股被暫緩上市 上交所:說(shuō)明產(chǎn)業(yè)化前景


日前,華卓精科科創(chuàng)板IPO暫緩上市,該公司主營(yíng)業(yè)務(wù)為光刻機(jī)雙工件臺(tái)、超精密測(cè)控裝備整機(jī)以及關(guān)鍵部件等衍生產(chǎn)品的研發(fā)、生產(chǎn)以及銷售和技術(shù)服務(wù)。


根據(jù)招股書,2018年、2019年,2020年公司銷售收入分別為8,570.92 萬(wàn)元、12,096.58 萬(wàn)元和 15,234.06 萬(wàn)元,其中光刻機(jī)雙工件臺(tái)模塊及技術(shù)開發(fā)報(bào)告期各期收入 795.00 萬(wàn)元、0.00 萬(wàn)元和 1,737.74 萬(wàn)元。可以看到公司光刻機(jī)雙工件臺(tái)產(chǎn)品的銷售收入不穩(wěn)定。

上交所要求華卓精科代表說(shuō)明光刻機(jī)雙工件臺(tái)業(yè)務(wù)產(chǎn)業(yè)化前景。如下游客戶未能按計(jì)劃實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化,公司光刻機(jī)雙工件臺(tái)業(yè)務(wù)是否存在可持續(xù)性風(fēng)險(xiǎn),同時(shí)要求華卓精科代表進(jìn)一步說(shuō)明公司技術(shù)研發(fā)是否對(duì)清華大學(xué)構(gòu)成重大依賴,是否具備持續(xù)的自主研發(fā)能力。

事實(shí)上,華卓精科光刻機(jī)雙工件臺(tái)產(chǎn)品客戶單一,光刻機(jī)雙工件臺(tái)模塊及技術(shù)開發(fā)客戶僅有上海微電子,且目前國(guó)內(nèi)客戶僅有上海微電子有該類產(chǎn)品采購(gòu)需求,公司光刻機(jī)雙工件臺(tái)模塊及技術(shù)開發(fā)銷售對(duì)其具有依賴性,這必然會(huì)影響該產(chǎn)品未來(lái)的規(guī)模化應(yīng)用。

小結(jié)

今年來(lái)半導(dǎo)體資本市場(chǎng)異?;钴S,諸多半導(dǎo)體企業(yè)股價(jià)成倍增長(zhǎng),半導(dǎo)體企業(yè)密集在科創(chuàng)板推進(jìn)上市,雖然在國(guó)產(chǎn)替代浪潮下,國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體企業(yè)存在較大市場(chǎng)機(jī)會(huì),然而真實(shí)發(fā)展情況及對(duì)未來(lái)的預(yù)期,是否過(guò)高了,就如上文談到的光刻膠,實(shí)際可用的產(chǎn)品少之又少,而光刻膠概念股卻暴漲,再如光刻機(jī)雙工件臺(tái)產(chǎn)廠商華卓精科暫緩上市,因?yàn)樵谝欢〞r(shí)間內(nèi)規(guī)?;瘧?yīng)用存在局限。在當(dāng)前市場(chǎng)火熱的情況下,還需要一部分人能夠冷靜下來(lái)思考半導(dǎo)體發(fā)展中存在的現(xiàn)實(shí)問(wèn)題。

本文為原創(chuàng)文章,作者李彎彎,微信號(hào)Li1015071271,轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明以上來(lái)源。如需入群交流,請(qǐng)?zhí)砑游⑿舉lecfans999,投稿發(fā)郵件到huangjingjing@elecfans.com。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 光刻膠
    +關(guān)注

    關(guān)注

    10

    文章

    345

    瀏覽量

    31381
  • 南大光電
    +關(guān)注

    關(guān)注

    0

    文章

    20

    瀏覽量

    5081
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評(píng)論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    光刻膠剝離工藝

    光刻膠剝離工藝是半導(dǎo)體制造和微納加工中的關(guān)鍵步驟,其核心目標(biāo)是高效、精準(zhǔn)地去除光刻膠而不損傷基底材料或已形成的結(jié)構(gòu)。以下是該工藝的主要類型及實(shí)施要點(diǎn):濕法剝離技術(shù)有機(jī)溶劑溶解法原理:使用丙酮、NMP
    的頭像 發(fā)表于 09-17 11:01 ?503次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離工藝

    從光固化到半導(dǎo)體材料:久日新材的光刻膠國(guó)產(chǎn)替代之路

    當(dāng)您尋找可靠的國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體材料供應(yīng)商時(shí),家在光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)全產(chǎn)業(yè)鏈突破的企業(yè)正脫穎而出——久日新材(688199.SH)。這家光引發(fā)劑巨頭,正以令人矚目的速度在半導(dǎo)體核心材料國(guó)產(chǎn)化浪潮
    的頭像 發(fā)表于 08-12 16:45 ?721次閱讀

    國(guó)產(chǎn)光刻膠突圍,日企壟斷終松動(dòng)

    ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道 光刻膠作為芯片制造光刻環(huán)節(jié)的核心耗材,尤其高端材料長(zhǎng)期日美巨頭壟斷,國(guó)外企業(yè)對(duì)原料和配方高度保密,我國(guó)九成以上光刻膠依賴進(jìn)口。不過(guò)近期,
    的頭像 發(fā)表于 07-13 07:22 ?5067次閱讀

    針對(duì)晶圓上芯片工藝的光刻膠剝離方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

    引言 在晶圓上芯片制造工藝中,光刻膠剝離是承上啟下的關(guān)鍵環(huán)節(jié),其效果直接影響芯片性能與良率。同時(shí),光刻圖形的精確測(cè)量是保障工藝精度的重要手段。本文將介紹適用于晶圓芯片工藝的光刻膠剝離方法,并探討白光
    的頭像 發(fā)表于 06-25 10:19 ?519次閱讀
    針對(duì)晶圓上芯片工藝的<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測(cè)量

    用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕光刻膠剝離液及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

    引言 在顯示面板制造的 ARRAY 制程工藝中,光刻膠剝離是關(guān)鍵環(huán)節(jié)。銅布線在制程中廣泛應(yīng)用,但傳統(tǒng)光刻膠剝離液易對(duì)銅產(chǎn)生腐蝕,影響器件性能。同時(shí),光刻圖形的精準(zhǔn)測(cè)量對(duì)確保 ARRAY 制程工藝精度
    的頭像 發(fā)表于 06-18 09:56 ?480次閱讀
    用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測(cè)量

    減少光刻膠剝離工藝對(duì)器件性能影響的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

    ? ? 引言 ? 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,光刻膠剝離工藝是關(guān)鍵環(huán)節(jié),但其可能對(duì)器件性能產(chǎn)生負(fù)面影響。同時(shí),光刻圖形的精確測(cè)量對(duì)于保證芯片制造質(zhì)量至關(guān)重要。本文將探討減少光刻膠剝離工藝影響的方法,并介紹白光
    的頭像 發(fā)表于 06-14 09:42 ?519次閱讀
    減少<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離工藝對(duì)器件性能影響的方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測(cè)量

    光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

    引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料,其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質(zhì)量。同時(shí),精準(zhǔn)測(cè)量光刻圖形對(duì)把控工藝質(zhì)量意義重大,白光干涉儀為此提供了
    的頭像 發(fā)表于 05-29 09:38 ?681次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及其制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測(cè)量

    光刻膠的類型及特性

    光刻膠類型及特性光刻膠(Photoresist),又稱光致抗蝕劑,是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類型和
    的頭像 發(fā)表于 04-29 13:59 ?5075次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的類型及特性

    芯片制造:光刻工藝原理與流程

    光刻膠: ? 光掩膜:如同芯片的藍(lán)圖,上面印有每層結(jié)構(gòu)的圖案。 ? ? ?光刻機(jī):像把精確的畫筆,能夠引導(dǎo)光線在光刻膠上刻畫出圖案。
    的頭像 發(fā)表于 01-28 16:36 ?2230次閱讀
    芯片制造:<b class='flag-5'>光刻</b>工藝原理與流程

    光刻機(jī)的分類與原理

    本文主要介紹光刻機(jī)的分類與原理。 ? 光刻機(jī)分類 光刻機(jī)的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類,光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機(jī)包括芯片
    的頭像 發(fā)表于 01-16 09:29 ?4976次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的分類與原理

    光刻膠成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料

    對(duì)光的敏感度。在半導(dǎo)體制造過(guò)程中,光刻膠通過(guò)光化學(xué)反應(yīng),將掩膜版上的圖案精確地轉(zhuǎn)移到硅片表面。 光刻工藝是半導(dǎo)體制造的核心步驟之。在硅片表面涂上光刻膠(負(fù)
    的頭像 發(fā)表于 12-19 13:57 ?1439次閱讀

    光刻膠清洗去除方法

    光刻膠作為掩模進(jìn)行干法刻蝕或是濕法腐蝕后,般都是需要及時(shí)的去除清洗,而些高溫或者其他操作往往會(huì)導(dǎo)致光刻膠碳化難以去除。
    的頭像 發(fā)表于 11-11 17:06 ?2009次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>清洗去除方法

    文解讀光刻膠的原理、應(yīng)用及市場(chǎng)前景展望

    光刻技術(shù)是現(xiàn)代微電子和納米技術(shù)的研發(fā)中的關(guān)鍵環(huán),而光刻膠,又是光刻技術(shù)中的關(guān)鍵組成部分。隨著技術(shù)的發(fā)展,對(duì)微小、精密的結(jié)構(gòu)的需求日益增強(qiáng),光刻膠
    的頭像 發(fā)表于 11-11 10:08 ?3238次閱讀
    <b class='flag-5'>一</b>文解讀<b class='flag-5'>光刻膠</b>的原理、應(yīng)用及市場(chǎng)前景展望

    文看懂光刻膠的堅(jiān)膜工藝及物理特性和常見光刻膠

    原文標(biāo)題:文看懂光刻膠的堅(jiān)膜工藝及物理特性和常見光刻膠
    的頭像 發(fā)表于 11-01 11:08 ?2824次閱讀

    光刻膠的使用過(guò)程與原理

    本文介紹了光刻膠的使用過(guò)程與原理。
    的頭像 發(fā)表于 10-31 15:59 ?2213次閱讀