我國(guó)在芯片領(lǐng)域確實(shí)在不斷的進(jìn)步，但這是這種進(jìn)步和國(guó)際的最好水平，還是存在一定的差異。特別是在光刻機(jī)領(lǐng)域，我們的光刻機(jī)目前主要是90nm的光刻機(jī)，而上海微電子雖然可能突破28nm的光刻機(jī)，但是目前并沒(méi)有任何的消息或者任何的官方內(nèi)容，我們所有的猜測(cè)都是一些只言片語(yǔ)的新聞所堆積出來(lái)的材料。

中國(guó)在半導(dǎo)體領(lǐng)域的劣勢(shì)被無(wú)限放大，缺乏核心技術(shù)的支持，也讓國(guó)內(nèi)芯片企業(yè)走得越來(lái)越乏力，為了解決這樣的困境，目前國(guó)家不斷加大半導(dǎo)體領(lǐng)域的扶持力度，也制定了2025年實(shí)現(xiàn)70%芯片國(guó)產(chǎn)化的目標(biāo)。

目前國(guó)內(nèi)很多科技企業(yè)也開(kāi)始從事半導(dǎo)體領(lǐng)域技術(shù)的研發(fā)，僅僅在2020年新增的半導(dǎo)體企業(yè)就多達(dá)兩萬(wàn)家，高端的芯片直接決定著未來(lái)科技的走向，在眾多企業(yè)和研究所的努力之下，目前已經(jīng)取得了很多技術(shù)的突破，在最重要的光刻機(jī)的研發(fā)上，也有了重大的突破。

中國(guó)半導(dǎo)體的三個(gè)好消息接連傳來(lái)：

清華大學(xué)研發(fā)出了可用于EUV光刻機(jī)的光源

可編程硅基光量子計(jì)算芯片

科技部強(qiáng)調(diào)聚焦半導(dǎo)體技術(shù)、強(qiáng)化人才的培養(yǎng)

繼華為公司之后，中國(guó)芯片取得了重大突破：在安全芯片領(lǐng)域取得了全球領(lǐng)先地位。

中國(guó)質(zhì)量萬(wàn)里行，圈聊科技，LeoGo科技綜合整理

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