chinese直男口爆体育生外卖, 99久久er热在这里只有精品99, 又色又爽又黄18禁美女裸身无遮挡, gogogo高清免费观看日本电视,私密按摩师高清版在线,人妻视频毛茸茸,91论坛 兴趣闲谈,欧美 亚洲 精品 8区,国产精品久久久久精品免费

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

光刻膠為何要謀求國產(chǎn)替代

lPCU_elecfans ? 來源:電子發(fā)燒友網(wǎng) ? 作者:電子發(fā)燒友網(wǎng) ? 2022-08-31 09:47 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/章鷹)近日,全球半導體市場規(guī)模增長帶動了上游半導體材料旺盛需求,“光刻膠”的突破也成為國內(nèi)關注焦點。正當日本光刻膠企業(yè)JSR、東京應化和美國Lam Research在EUV光刻膠領域進行激烈競爭的時候,中國國產(chǎn)光刻膠企業(yè)在國內(nèi)晶圓廠布局的成熟制程領域,展開了新產(chǎn)品上市和量產(chǎn)的爭奪戰(zhàn)。

南大光電最新消息顯示,國產(chǎn)193nm(ArF)光刻膠研發(fā)成功,這家公司成為通過國家“02專項”驗收的ArF光刻膠項目實施主體;徐州博康宣布,該公司已開發(fā)出數(shù)十種高端光刻膠產(chǎn)品系列,包括193nmArF濕法光刻膠、ArF干法光刻膠,248nmKrF正負型光刻膠、KrF厚膜光刻膠、365nmi線光刻膠以及電子束膠等。

今年8月以來,多家光刻膠企業(yè)發(fā)布財報。彤程新材旗下北京科華的半導體光刻膠業(yè)務2022年上半年實現(xiàn)營業(yè)收入8543.16萬元,同比增長51.3%;南大光電發(fā)布業(yè)績預告,預計2022年上半年盈利1.4億元至1.52億元,同比上年增63.7%至77.74%,國內(nèi)光刻膠企業(yè)在業(yè)務增長方面都有了積極的進展。

光刻膠為何要謀求國產(chǎn)替代?中國國產(chǎn)光刻膠企業(yè)的市場發(fā)展機會和挑戰(zhàn)如何?光刻膠企業(yè)發(fā)展要具備哪些核心競爭力?在南京半導體大會期間,徐州博康公司董事長傅志偉和研發(fā)總監(jiān)潘新剛給我們帶來前沿觀點和獨家分析。

逼出來的“光刻膠國產(chǎn)替代”,企業(yè)要跨越資金、技術和客戶三大壁壘

與半導體設計、半導體封測甚至晶圓產(chǎn)業(yè)相比,光刻膠是一個“小眾”產(chǎn)業(yè),而且光刻膠還分為顯示面板用光刻膠和半導體用光刻膠,半導體用光刻膠的規(guī)模遠小于面板用光刻膠。據(jù)SEMI統(tǒng)計,2021年全球半導體光刻膠市場規(guī)模達24.71億美元,較上年同期增長19.49%,2015-2021年復合增長率為12.03%;2021年中國大陸半導體光刻膠市場規(guī)模達4.93億美元,較上年同期增長43.69%,遠超全球增速。

為什么徐州博康主攻光刻膠?徐州博康董事長傅志偉表示,一是中國半導體市場蓬勃發(fā)展,市場需求帶動;二是日本對韓國禁售光刻膠事件,提醒了中國晶圓制造企業(yè)隨時可能遭遇光刻膠“卡脖子”。日本經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)省在2019年7月1日宣布,將對用于智能手機及電視機的半導體等制造過程中需要的三種材料加強面向韓國的出口管制。加強出口管制的是用于半導體清洗的氟化氫、用于智能手機顯示屏等的氟化聚酰亞胺和涂覆在半導體基板上的感光劑“光刻膠”這三種材料。

徐州博康研發(fā)總監(jiān)潘新剛指出,光刻膠是微電子技術中微細圖形加工的關鍵材料之一,是光刻技術中涉及到最關鍵的功能性化學材料,如果說集成電路是電子信息發(fā)展的皇冠,那么光刻膠便是皇冠上的明珠。光刻工藝作為芯片制造的關鍵流程,耗時占晶圓制造過程的30-40%,光刻膠在半導體晶圓制造中成本占比僅5%,但四兩撥千斤,是需要被重點關注的“卡脖子”材料。

相對于PCB、面板使用的光刻膠,半導體光刻膠壁最高,目前市場以海外企業(yè)為主。高端光刻膠市場高度集中。以ArF光刻膠為例,日本的JSR、信越化學、東京應化、住友化學四家企業(yè)就占據(jù)了82%的市場份額,KrF光刻膠市場中,東京應化、信越化學、JSR和杜邦占據(jù)了85%的市場份額。

“光刻膠是一種特殊的半導體材料,用于一家晶圓代工廠的一條產(chǎn)線或者多條產(chǎn)線,國際晶圓大廠傾向于選擇一家質量優(yōu)異、產(chǎn)能穩(wěn)定的供應商,沒有第二家做備選,主要考慮更換供應商的周期長。光刻膠是客制化產(chǎn)品,技術含量高,驗證周期通常需要18個月甚至更長時間?!?傅志偉強調(diào),“此外,光刻膠保質期短則三個月,最長的只有1年,這意味著廠商不可能大量備貨。所以,光刻膠品類多,行業(yè)壁壘高就成為主要的門檻?!?/p>

潘新剛進一步分析,制造合格的光刻膠有多重壁壘——技術壁壘、資金壁壘、客戶壁壘。光刻膠行業(yè)長年被日本和美國專業(yè)公司壟斷,其中,日本 JSR、東京應化、日本信越與富士電子材料市占率總計達到72%?;诠饪棠z的極高的行業(yè)壁壘,光刻膠必須從單體到樹脂,到光致產(chǎn)酸劑等各個方面和建立完整的供應體系。

國產(chǎn)替代突破,徐州博康布局半導體光刻膠兩大關鍵點

目前國內(nèi)主流光刻膠企業(yè)已取得一定進展,可實現(xiàn)量產(chǎn)g線/i線/KrF光刻膠,而ArF光刻膠仍主要處于認證或研發(fā)階段。

比較國內(nèi)其他光刻膠公司,徐州博康的優(yōu)勢是什么?傅志偉認為有三大優(yōu)勢:一是徐州博康構建了光刻膠全產(chǎn)業(yè)鏈模式。國內(nèi)光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈不完整,原料的供應商非常少,國產(chǎn)化替代需要從上游的樹脂、光酸等就要做到供應鏈安全的合理把控。徐州博康在2012年成為了國際光刻膠巨頭JSR(日本合成橡膠公司)唯一非日本本土的單體供應商,目前覆蓋80%以上的單體品種,具備全產(chǎn)業(yè)鏈模式的能力。

二是產(chǎn)品布局半導體光刻膠的全品類,目前,徐州博康擁有ArF/KrF光刻膠單體、ArF/KrF光刻膠、G線/I線光刻膠、電子束光刻膠全產(chǎn)業(yè)鏈全品類等產(chǎn)品,成功開發(fā)出20余個高端光刻膠產(chǎn)品系列,包括多種電子束膠、 ArF干法和浸沒式光刻膠、KrF正負型光刻膠、 I線正負型光刻膠及GHI超厚負膠,覆蓋IC集成電路制造、IC后段封裝、化合物半導體、分立器件、電子束等市場應用,服務客戶超過40家。

三是面對客戶端提供定制化服務。特別是因為博康具備上游單體、樹脂等光刻膠原材料,可以快速響應客戶新的工藝需求。傅志偉透露,為了應對半導體客戶的旺盛需求,博康研發(fā)人員也在快速擴充,預計年底將達到200人。

傅志偉透露,半導體光刻膠行業(yè)毛利率較高,由于整體市場規(guī)模不大,技術和資本壁壘高,各細分領域競爭并不激烈。光刻膠作為高端材料其價格是包含了原材料成本、研發(fā)人力成本及驗證測試成本,驗證測試成本主要指買光刻機等設備來進行性能測試,包含了開發(fā)初期的光刻性能測試及保證量產(chǎn)產(chǎn)品穩(wěn)定供應的常規(guī)測試。最近臺積電代工漲價20%,主要原因就是上游光刻膠漲價造成的。

近期,國外光刻膠公司的專家認為,在中高端光刻膠領域,中國公司除了研發(fā)出新品外,在純度、精度和可重復性制造方面還有很大差距。就這一觀點,傅志偉進行了反駁。他分析說:“十年前,他們這么說有一定依據(jù),但是今天博康已經(jīng)在這個行業(yè)打磨了十多年,2014年光刻膠已經(jīng)量產(chǎn)發(fā)貨,生產(chǎn)體系也經(jīng)過7-8年的磨合,光刻膠的批次和穩(wěn)定性都已經(jīng)有了很大的進展。” 他強調(diào),博康現(xiàn)在光刻膠品種30+,今年年底會發(fā)展到60+,未來經(jīng)過3-5年還會更多的光刻膠品種推出,全品類的光刻膠發(fā)展需要時間和經(jīng)驗。

傅志偉介紹,考慮全產(chǎn)業(yè)鏈布局,光刻膠從建設到投產(chǎn)周期需要2-3年。博康邳州新廠從2021年下半年開始試產(chǎn),今年1月份正式拿到正式生產(chǎn)許可,產(chǎn)能持續(xù)爬坡。徐州博康的發(fā)展也吸引了產(chǎn)業(yè)資本競相追逐。工商信息顯示,去年8月,華為通過旗下投資公司哈勃科技成為徐州博康第四大股東,持股9.8%。據(jù)媒體報道,哈勃投資金額達3億元,系其布局半導體材料領域中最大的一單筆投資。

光刻膠國產(chǎn)化迫在眉睫。對于EUV光刻膠等高端產(chǎn)品,傅志偉表示公司時刻都準備著,一旦國內(nèi)有晶圓廠有相關制程工藝的能力時,博康一定會配合做單體和光刻膠產(chǎn)品的研發(fā)。

審核編輯:彭靜

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內(nèi)容侵權或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 半導體
    +關注

    關注

    336

    文章

    29935

    瀏覽量

    257578
  • 晶圓
    +關注

    關注

    53

    文章

    5342

    瀏覽量

    131632
  • 光刻膠
    +關注

    關注

    10

    文章

    348

    瀏覽量

    31532

原文標題:半導體光刻膠企業(yè)營收靚麗!打造光刻膠全產(chǎn)業(yè)鏈 博康欲成國產(chǎn)光刻膠的中流砥柱

文章出處:【微信號:elecfans,微信公眾號:電子發(fā)燒友網(wǎng)】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關推薦
    熱點推薦

    中國打造自己的EUV光刻膠標準!

    電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/黃山明)芯片,一直被譽為 人類智慧、工程協(xié)作與精密制造的集大成者 ,而制造芯片的重要設備光刻機就是 雕刻這個結晶的 “ 神之手 ”。但僅有光刻機還不夠,還需要光刻膠、掩膜版以及
    的頭像 發(fā)表于 10-28 08:53 ?5802次閱讀

    光刻膠剝離工藝

    光刻膠剝離工藝是半導體制造和微納加工中的關鍵步驟,其核心目標是高效、精準地去除光刻膠而不損傷基底材料或已形成的結構。以下是該工藝的主要類型及實施要點:濕法剝離技術有機溶劑溶解法原理:使用丙酮、NMP
    的頭像 發(fā)表于 09-17 11:01 ?933次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離工藝

    光刻膠旋涂的重要性及厚度監(jiān)測方法

    在芯片制造領域的光刻工藝中,光刻膠旋涂是不可或缺的基石環(huán)節(jié),而保障光刻膠旋涂的厚度是電路圖案精度的前提。優(yōu)可測薄膜厚度測量儀AF系列憑借高精度、高速度的特點,為光刻膠厚度監(jiān)測提供了可靠
    的頭像 發(fā)表于 08-22 17:52 ?1352次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>旋涂的重要性及厚度監(jiān)測方法

    從光固化到半導體材料:久日新材的光刻膠國產(chǎn)替代之路

    當您尋找可靠的國產(chǎn)半導體材料供應商時,一家在光刻膠領域實現(xiàn)全產(chǎn)業(yè)鏈突破的企業(yè)正脫穎而出——久日新材(688199.SH)。這家光引發(fā)劑巨頭,正以令人矚目的速度在半導體核心材料國產(chǎn)化浪潮中嶄露頭角
    的頭像 發(fā)表于 08-12 16:45 ?895次閱讀

    國產(chǎn)百噸級KrF光刻膠樹脂產(chǎn)線正式投產(chǎn)

    ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道 近日,八億時空宣布其KrF光刻膠萬噸級半導體制程高自動化研發(fā)/量產(chǎn)雙產(chǎn)線順利建成,標志著我國在中高端光刻膠領域的自主化進程邁出關鍵一步。 ? 此次建成的KrF光刻膠產(chǎn)線采用
    的頭像 發(fā)表于 08-10 03:26 ?8645次閱讀

    國產(chǎn)光刻膠突圍,日企壟斷終松動

    ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道 光刻膠作為芯片制造光刻環(huán)節(jié)的核心耗材,尤其高端材料長期被日美巨頭壟斷,國外企業(yè)對原料和配方高度保密,我國九成以上光刻膠依賴進口。不過近期,國產(chǎn)
    的頭像 發(fā)表于 07-13 07:22 ?5597次閱讀

    行業(yè)案例|膜厚儀應用測量之光刻膠厚度測量

    光刻膠生產(chǎn)技術復雜、品種規(guī)格多樣,在電子工業(yè)集成電路制造中,對其有著極為嚴格的要求,而保證光刻膠產(chǎn)品的厚度便是其中至關重要的一環(huán)。 項目需求? 本次項目旨在測量光刻膠厚度,光刻膠本身厚
    的頭像 發(fā)表于 07-11 15:53 ?345次閱讀
    行業(yè)案例|膜厚儀應用測量之<b class='flag-5'>光刻膠</b>厚度測量

    針對晶圓上芯片工藝的光刻膠剝離方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在晶圓上芯片制造工藝中,光刻膠剝離是承上啟下的關鍵環(huán)節(jié),其效果直接影響芯片性能與良率。同時,光刻圖形的精確測量是保障工藝精度的重要手段。本文將介紹適用于晶圓芯片工藝的光刻膠剝離方法,并探討白光
    的頭像 發(fā)表于 06-25 10:19 ?705次閱讀
    針對晶圓上芯片工藝的<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕光刻膠剝離液及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在顯示面板制造的 ARRAY 制程工藝中,光刻膠剝離是關鍵環(huán)節(jié)。銅布線在制程中廣泛應用,但傳統(tǒng)光刻膠剝離液易對銅產(chǎn)生腐蝕,影響器件性能。同時,光刻圖形的精準測量對確保 ARRAY 制程工藝精度
    的頭像 發(fā)表于 06-18 09:56 ?603次閱讀
    用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    低含量 NMF 光刻膠剝離液和制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在半導體制造過程中,光刻膠剝離液是不可或缺的材料。N - 甲基 - 2 - 吡咯烷酮(NMF)雖在光刻膠剝離方面表現(xiàn)出色,但因其高含量使用帶來的成本、環(huán)保等問題備受關注。同時,光刻圖形的精準
    的頭像 發(fā)表于 06-17 10:01 ?590次閱讀
    低含量 NMF <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液和制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    減少光刻膠剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    ? ? 引言 ? 在半導體制造領域,光刻膠剝離工藝是關鍵環(huán)節(jié),但其可能對器件性能產(chǎn)生負面影響。同時,光刻圖形的精確測量對于保證芯片制造質量至關重要。本文將探討減少光刻膠剝離工藝影響的方法,并介紹白光
    的頭像 發(fā)表于 06-14 09:42 ?639次閱讀
    減少<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    光刻膠產(chǎn)業(yè)國內(nèi)發(fā)展現(xiàn)狀

    如果說最終制造出來的芯片是一道美食,那么光刻膠就是最初的重要原材料之一,而且是那種看起來可能不起眼,但卻能決定一道菜味道的關鍵輔料。 光刻膠(photoresist),在業(yè)內(nèi)又被稱為光阻或光阻劑
    的頭像 發(fā)表于 06-04 13:22 ?609次閱讀

    光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在半導體制造與微納加工領域,光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料,其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質量。同時,精準測量光刻圖形對把控工藝質量意義重大,白光干涉儀為此提供了
    的頭像 發(fā)表于 05-29 09:38 ?949次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及其制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    光刻膠的類型及特性

    光刻膠類型及特性光刻膠(Photoresist),又稱光致抗蝕劑,是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類型和
    的頭像 發(fā)表于 04-29 13:59 ?6755次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的類型及特性

    光刻膠成為半導體產(chǎn)業(yè)的關鍵材料

    光刻膠是半導體制造等領域的一種重要材料,在整個電子元器件加工產(chǎn)業(yè)有著舉足輕重的地位。 它主要由感光樹脂、增感劑和溶劑等成分組成。其中,感光樹脂決定了光刻膠的感光度和分辨率等關鍵性能,增感劑有助于提高
    的頭像 發(fā)表于 12-19 13:57 ?1742次閱讀