為了不斷滿足新一代系統(tǒng)單晶片(SoC) 的嚴格設(shè)計目標,新思科技在臺積電最先進的 N2 製程中提供數(shù)位與客製化設(shè)計 EDA 流程。相較於N3E 製程,臺積公司N2 製程採用奈米片(nanosheet)電晶體結(jié)構(gòu),在相同功耗下可提升速度達 15% ,或在相同速度下可減少30%的功率,同時還能提高晶片密度。新思科技對整體 EDA技術(shù)的大量投入讓設(shè)計人員能夠快速啟動N2製程設(shè)計,不僅為SoC帶來差異化同時也能縮短上市時程。
臺積公司設(shè)計基礎(chǔ)架構(gòu)管理部負責(zé)人Dan Kochpatcharin表示:「臺積公司與新思科技協(xié)助雙方客戶在臺積公司最先進的 N2 製程中透過新思科技完整的EDA 解決方案,實現(xiàn)一流的設(shè)計結(jié)果。雙方長期的合作幫助創(chuàng)新者在各式應(yīng)用中滿足或超越最嚴苛的產(chǎn)品設(shè)計目標;這些應(yīng)用包括高效能運算、行動和人工智慧等。」
新思科技 EDA事業(yè)群策略與產(chǎn)品管理副總裁Sanjay Bali說道:「新思科技和臺積公司持續(xù)推進半導(dǎo)體技術(shù),在最新的 N2 製程上挑戰(zhàn)設(shè)計物理的極限。在臺積公司N2 製程中運用新思科技數(shù)位與客製化設(shè)計流程能讓設(shè)計人員大大受益於臺積公司N2製程的先進功能,并縮短上市時程?!?/p>
新思科技獲認證的EDA和 IP 解決方案在臺積電3奈米製程技術(shù)的成功,建立了雙方在N2上的合作基礎(chǔ),迄今已有數(shù)十家業(yè)界領(lǐng)先公司藉此成功實現(xiàn)投片(tape-out)。新思科技的客戶可仰賴經(jīng)認證的數(shù)位與客製化設(shè)計流程、新思科技基礎(chǔ)IP和介面 IP以及新思科技晶片生命週期管理 (SLM) 的晶片內(nèi)(in-chip)製程、電壓和溫度 (PVT) 監(jiān)控 IP 來提升N3 設(shè)計。 而有意將 N4 和 N5 設(shè)計轉(zhuǎn)移到 N3E 的設(shè)計人員則可利用新思科技 EDA 類比遷移流程,有效率地在不同製程節(jié)點中重復(fù)使用同一設(shè)計。
新思科技 (Synopsys)
新思科技是專為開發(fā)電子產(chǎn)品及軟體應(yīng)用創(chuàng)新公司提供「硅晶到軟體(Silicon to Software?)」解決方案的最佳合作伙伴。新思科技名列美國標普500指數(shù)成分股,長期以來是全球電子設(shè)計自動化(EDA)和半導(dǎo)體IP領(lǐng)域的領(lǐng)導(dǎo)者,并發(fā)展成為提供軟體品質(zhì)及安全測試的領(lǐng)導(dǎo)廠商。不論是針對開發(fā)先進半導(dǎo)體系統(tǒng)單晶片(SoC)的設(shè)計工程師,或正在撰寫應(yīng)用程式且要求高品質(zhì)及安全性的軟體開發(fā)工程師,新思科技都能提供所需的解決方案,以協(xié)助工程師完成創(chuàng)新、高品質(zhì)并兼具安全性的產(chǎn)品。
-
臺積電
+關(guān)注
關(guān)注
44文章
5732瀏覽量
168642 -
eda
+關(guān)注
關(guān)注
71文章
2857瀏覽量
175957 -
Synopsys
+關(guān)注
關(guān)注
2文章
158瀏覽量
90538 -
新思科技
+關(guān)注
關(guān)注
5文章
844瀏覽量
51025
發(fā)布評論請先 登錄
西門子與臺積電合作推動半導(dǎo)體設(shè)計與集成創(chuàng)新 包括臺積電N3P N3C A14技術(shù)
英特爾18A與臺積電N2工藝各有千秋
臺積電2納米制程啟動試產(chǎn),預(yù)計2026年底月產(chǎn)能大增
臺積電2納米制程技術(shù)細節(jié)公布:性能功耗雙提升
臺積電2nm制成細節(jié)公布:性能提升15%,功耗降低35%
臺積電2納米制程技術(shù)細節(jié)公布
臺積電分享 2nm 工藝深入細節(jié):功耗降低 35% 或性能提升15%!

概倫電子亮相臺積電中國OIP生態(tài)系統(tǒng)論壇
聯(lián)發(fā)科攜手臺積電、新思科技邁向2nm芯片時代
臺積電2nm制程近況佳,N3X、N2P以及A16節(jié)點已在規(guī)劃中
新思科技物理驗證解決方案已獲得臺積公司N3P和N2工藝技術(shù)認證

評論