據(jù)外媒報道，臺積電作為全球晶圓代工領軍企業(yè)，已經(jīng)開始開發(fā)2納米制程，拉大了與競爭對手的差距。最近，臺積電還準備為蘋果和英偉達試產(chǎn)2納米產(chǎn)品，并計劃派遣約1000名研發(fā)人員前往其正在建設中的Fab 20晶圓廠工作。與此同時，三星電子在2022年6月率先采用GAA技術開始量產(chǎn)3納米制程芯片，比臺積電提前6個月，成為全球首家量產(chǎn)該制程技術的企業(yè)。受到三星的沖擊，臺積電高層多次公開表態(tài)加速2納米制程技術的發(fā)展，并形成了先進制程的競賽態(tài)勢。

除了臺積電，曾宣布重新進入晶圓代工業(yè)務的處理器巨頭英特爾也加入了先進制程的研發(fā)競賽。英特爾在6月1日的線上活動中公布了其芯片背面電源解決方案PowerVia的技術發(fā)展、測試數(shù)據(jù)和路線圖，擴大了其在晶圓代工產(chǎn)業(yè)的影響力。據(jù)報道，目前臺積電也在開發(fā)芯片背面供電技術，并計劃在2026年實現(xiàn)商業(yè)應用。

此外，英特爾設定了一個目標，即在2024年下半年將其代工技術推進到1.8納米的節(jié)點，并與ARM建立合作伙伴關系，以實現(xiàn)1.8納米制程技術的量產(chǎn)。然而，市場人士對于英特爾未來的挑戰(zhàn)有一些不確定性，即使按照路線圖取得成功，達到收支平衡仍然是一個巨大的挑戰(zhàn)。整體而言，全球芯片代工行業(yè)正迎來先進制程的競爭和發(fā)展。

報道還說明了臺積電另一競爭對手三星的情況，就是三星DS部門總裁Kyung Kye-hyun于5月初的一次演講中表示，三星計劃超越臺積電，目標就是從比臺積電更早使用GAA技術的2納米制程開始。

事實上，臺積電除了先進制程之外，也透過先進封裝技術來維持技術的領先。不久前，臺積電就宣布先進封測六廠啟用正式啟用，成為臺積電首家達成前后端制程 3DFabric 整合一體化自動化先進封測廠和測試服務工廠。同時，也為TSMC-SoIC（系統(tǒng)整合芯片）制程技術的量產(chǎn)做準備。先進封測六廠的啟用，將使臺積電對SoIC、InFO、CoWoS、先進測試等各項TSMC 3DFabric先進封裝與硅堆疊技術，擁有更完整及靈活的產(chǎn)能規(guī)劃之外，也帶來更高的生產(chǎn)良率與效能協(xié)同效應。

臺積電營運/先進封裝技術暨服務、品質(zhì)暨可靠性副總經(jīng)理何軍表示，微晶片堆棧是提升芯片效能與成本效益的關鍵技術，因應強勁的三度集成電路市場需求，臺積電已完成先進封裝及矽堆疊技術產(chǎn)能的提前部署，透過3DFabric平臺提供技術領先與滿足客戶需求產(chǎn)能，共同實現(xiàn)跨時代科技創(chuàng)新，成為客戶長期信賴的重要伙伴。

據(jù)報道，三星也在迎頭趕上臺積電，計劃從2納米制程開始超越對手。臺積電除了在先進制程方面保持領先地位外，還通過先進封裝技術來增強競爭力。最近，臺積電啟用了先進封測六廠，實現(xiàn)了前后端制程的整合，為TSMC-SoIC制程技術的量產(chǎn)做好準備。這將使得臺積電在SoIC、InFO、CoWoS以及先進測試等方面具備更完整和靈活的產(chǎn)能規(guī)劃，并提高生產(chǎn)良率和效能。

臺積電的營運/先進封裝技術副總經(jīng)理何軍表示，微晶片堆棧是提升芯片性能和成本效益的關鍵技術。為滿足市場需求，臺積電提前部署了先進封裝和硅堆疊技術產(chǎn)能，并通過3DFabric平臺提供技術領先和滿足客戶需求的產(chǎn)能，成為客戶長期信賴的重要合作伙伴。全球芯片代工行業(yè)正在競爭和發(fā)展先進制程和封裝技術。

編輯：黃飛