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SiC碳化硅MOSFET短路保護中兩級關(guān)斷(2LTO)機制的決定性地位

楊茜 ? 來源:jf_33411244 ? 作者:jf_33411244 ? 2025-12-16 08:49 ? 次閱讀
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SiC碳化硅MOSFET短路保護中兩級關(guān)斷(2LTO)機制的決定性地位及其物理本源深度解析

傾佳電子(Changer Tech)是一家專注于功率半導體新能源汽車連接器的分銷商。主要服務于中國工業(yè)電源、電力電子設(shè)備和新能源汽車產(chǎn)業(yè)鏈。傾佳電子聚焦于新能源、交通電動化和數(shù)字化轉(zhuǎn)型三大方向,力推BASiC基本半導體SiC碳化硅MOSFET單管,SiC碳化硅MOSFET功率模塊,SiC模塊驅(qū)動板等功率半導體器件以及新能源汽車連接器。?

傾佳電子楊茜致力于推動國產(chǎn)SiC碳化硅模塊在電力電子應用中全面取代進口IGBT模塊,助力電力電子行業(yè)自主可控和產(chǎn)業(yè)升級!

傾佳電子楊茜咬住SiC碳化硅MOSFET功率器件三個必然,勇立功率半導體器件變革潮頭:

傾佳電子楊茜咬住SiC碳化硅MOSFET模塊全面取代IGBT模塊和IPM模塊的必然趨勢!

傾佳電子楊茜咬住SiC碳化硅MOSFET單管全面取代IGBT單管和大于650V的高壓硅MOSFET的必然趨勢!

傾佳電子楊茜咬住650V SiC碳化硅MOSFET單管全面取代SJ超結(jié)MOSFET和高壓GaN 器件的必然趨勢!

執(zhí)行摘要

在功率半導體技術(shù)從傳統(tǒng)的硅(Si)基絕緣柵雙極晶體管(IGBT)向碳化硅(SiC)金屬氧化物半導體場效應晶體管(MOSFET)演進的歷史進程中,行業(yè)面臨著一個嚴峻的物理挑戰(zhàn):SiC器件雖然在開關(guān)速度、耐壓能力和導通損耗方面展現(xiàn)出卓越的性能,但其短路耐受時間(Short-Circuit Withstand Time, SCWT)顯著縮短,通常僅為2微秒至5微秒,遠低于硅基IGBT通常具備的10微秒安全裕度。這種“魯棒性缺口”迫使業(yè)界必須重新審視驅(qū)動保護策略的底層邏輯。

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傾佳電子旨在通過詳盡的物理分析和工程實證,確立兩級關(guān)斷(Two-Level Turn-Off, 2LTO)機制在SiC MOSFET短路保護中的核心地位。研究表明,2LTO之所以成為最強有力的解決方案,其根本原因在于它通過主動調(diào)制柵極電壓(VGS?),巧妙地利用了SiC MOSFET轉(zhuǎn)移特性中的高跨導飽和電流對柵壓的強依賴性。不同于試圖在極短時間內(nèi)強行切斷巨大電流的“硬關(guān)斷”(Hard Turn-Off),也不同于單純延長關(guān)斷時間導致熱量累積的“軟關(guān)斷”(Soft Turn-Off),2LTO機制在物理層面上將短路保護過程解耦為“電流限制”與“能量關(guān)斷”兩個獨立且可控的階段。

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通過將柵極電壓鉗位在中間電平(通常為9V-12V),2LTO利用Isat?∝(VGS??Vth?)2的物理規(guī)律,在不切斷電路的前提下瞬間將短路電流壓縮至安全范圍,從而在抑制漏源極電壓(VDS?)過沖和限制芯片內(nèi)部熱能沉積之間找到了完美的平衡點。傾佳電子將從半導體物理、電熱動力學、寄生參數(shù)影響及驅(qū)動電路實現(xiàn)等多個維度,深入剖析這一機制的科學必然性。

1. 碳化硅功率器件的短路脆弱性悖論

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碳化硅材料的寬禁帶(3.26 eV)、高臨界擊穿電場(約為硅的10倍)以及高熱導率特性,使其成為高壓、高頻、高溫電力電子應用的首選材料 。然而,正是這些賦予其卓越性能的物理屬性,在短路工況下轉(zhuǎn)化為了致命的脆弱性。理解這一悖論是解析保護策略的前提。

1.1 功率密度的雙刃劍

為了充分利用SiC的高擊穿場強,商業(yè)化SiC MOSFET通常設(shè)計有極薄的漂移層和較小的芯片面積。在同等電流和電壓等級下,SiC芯片的有源區(qū)面積僅為Si IGBT的五分之一甚至十分之一 。這種極端的尺寸縮減帶來了兩個直接后果:

極低的熱容(Thermal Capacitance): 芯片內(nèi)部能夠緩沖熱沖擊的物質(zhì)質(zhì)量顯著減少。

極高的短路電流密度: 在短路發(fā)生時,流經(jīng)單位面積的電流急劇增加,導致焦耳熱的產(chǎn)生速率呈指數(shù)級上升。

當短路發(fā)生時(無論是硬開關(guān)故障HSF還是負載短路故障FUL),SiC MOSFET內(nèi)部的結(jié)溫(Tj?)會以超過100°C/μs的速率飆升 。由于熱傳導的時間常數(shù)遠大于短路持續(xù)時間,產(chǎn)生的熱量幾乎完全積聚在漂移區(qū)和溝道附近的微小體積內(nèi),形成絕熱加熱過程。一旦溫度超過鋁源極金屬的熔點(約660°C)或?qū)е聳艠O氧化層(SiO2?)發(fā)生不可逆的介質(zhì)擊穿,器件將發(fā)生災難性失效 。

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1.2 保護的時間窗口與電壓困境

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面對如此劇烈的溫升,保護電路必須在極短的時間窗口(<3μs)內(nèi)做出反應并切斷電流。然而,這里存在一個基本的物理矛盾:電磁感應定律與熱力學極限的沖突

根據(jù)電路基本定律,關(guān)斷過程中的電壓過沖(Vpeak?)由下式?jīng)Q定:

Vpeak?=VDC?+Lσ??dtdi?

其中,VDC?為母線電壓,Lσ?為回路寄生電感,di/dt為電流變化率。

由于SiC MOSFET的短路飽和電流(Isat?)極高(可達額定電流的10倍以上),如果在極短時間內(nèi)強行關(guān)斷(硬關(guān)斷),巨大的di和極小的dt將導致di/dt數(shù)值極大,進而在寄生電感上感應出足以擊穿器件的電壓尖峰 。反之,如果為了降低電壓尖峰而采用傳統(tǒng)的軟關(guān)斷(通過增大柵極電阻Rg?),雖然降低了di/dt,但延長了電流流過器件的時間。在幾千伏、幾千安培的短路工況下,每一納秒的延遲都意味著巨大的能量(E=∫V?Idt)注入芯片,極易突破熱容極限導致熱擊穿 。

因此,傳統(tǒng)的保護策略陷入了“要么被電壓擊穿,要么被熱量燒毀”的死循環(huán)。打破這一循環(huán)的唯一途徑,是從器件物理層面改變電流的關(guān)斷軌跡,這正是兩級關(guān)斷(2LTO)機制的切入點。

2. 碳化硅MOSFET短路行為的微觀物理機制

要理解2LTO為何是“最有力”的方案,必須深入剖析SiC MOSFET在短路狀態(tài)下的微觀物理行為,特別是其與Si IGBT的本質(zhì)區(qū)別。

2.1 跨導與飽和電流的強依賴性

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MOSFET是電壓控制型器件,其在飽和區(qū)(短路時的工作區(qū)域)的漏極電流(ID?)主要由柵源電壓(VGS?)決定。其物理方程可近似表達為:

ID(sat)?≈21?μn?Cox?LW?(VGS??Vth?)2

其中:

μn? 為溝道電子遷移率。

Cox? 為單位面積柵氧化層電容。

W/L 為溝道寬長比。

VGS? 為柵源驅(qū)動電壓。

Vth? 為閾值電壓

關(guān)鍵物理差異: 為了克服SiC/SiO2界面處較高的缺陷密度(Dit?)導致的低溝道遷移率,并降低導通電阻(RDS(on)?),現(xiàn)代SiC MOSFET通常需要較高的柵極驅(qū)動電壓,一般推薦為+18V 。相比之下,Si IGBT通常驅(qū)動電壓為+15V。

由于飽和電流與過驅(qū)動電壓(VGS??Vth?)的平方成正比,SiC MOSFET在+18V驅(qū)動下的短路飽和電流極高。與之形成鮮明對比的是,IGBT由于其雙極型晶體管的退飽和效應(Desaturation),短路電流通常被限制在額定電流的4-6倍,且具有自限流特性 。SiC MOSFET缺乏這種內(nèi)在的自限流機制,其短路電流表現(xiàn)為純粹的壓控電流源特性,且幅值巨大。這意味著在短路發(fā)生的瞬間,SiC器件內(nèi)部的功率耗散密度遠超IGBT。

2.2 短溝道效應與DIBL導致的正反饋

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為了追求更低的RDS(on)?,SiC MOSFET設(shè)計趨向于更短的溝道長度。這引入了顯著的短溝道效應,特別是漏致勢壘降低效應(Drain-Induced Barrier Lowering, DIBL)

在短路發(fā)生時,漏源電壓(VDS?)迅速上升至母線電壓(例如800V或1200V)。高VDS?會導致溝道勢壘降低,進而導致閾值電壓(Vth?)顯著下降 。根據(jù)上述飽和電流公式,隨著Vth?的降低,(VGS??Vth?)項增大,導致飽和電流進一步增加。

此外,雖然隨著溫度升高,電子遷移率μn?會因聲子散射而下降(負溫度系數(shù)),但在短路初期,DIBL效應和通道電導調(diào)制往往占據(jù)主導,導致電流在短時間內(nèi)不僅不下降,反而可能上升,形成危險的熱-電正反饋循環(huán) 。這種不穩(wěn)定性使得SiC MOSFET在全電壓、全柵壓下的生存時間極短。

2.3 缺乏“拐點”的輸出特性

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SiC MOSFET的輸出特性曲線(I-V曲線)顯示,其從線性區(qū)(歐姆區(qū))向飽和區(qū)(有源區(qū))的過渡非常平滑,缺乏IGBT那樣明顯的“拐點”(Knee) 。

對于IGBT: 當發(fā)生短路,工作點迅速越過拐點進入飽和區(qū),VCE?迅速上升,這一特性使得基于電壓檢測的退飽和(Desat)保護非??煽?。

對于SiC MOSFET: 由于線性區(qū)范圍極寬,且過渡平緩,當短路發(fā)生時,VDS?的上升可能不如IGBT那樣陡峭和明確,尤其是在部分短路或低阻抗短路時。這導致傳統(tǒng)的Desat檢測電路需要設(shè)置更低的閾值或更短的消隱時間,但這又極易引起誤觸發(fā)。

綜上所述,SiC MOSFET的物理特性決定了其短路保護必須解決“電流極大”、“耐受時間極短”和“關(guān)斷電壓過沖極高”這三個核心難題。

3. 兩級關(guān)斷(2LTO)機制的物理重構(gòu)與核心原理

兩級關(guān)斷(2LTO)之所以成為最強有力的方案,是因為它不試圖與其物理特性對抗,而是利用其物理特性——特別是利用柵極電壓對飽和電流的強控制能力,來重構(gòu)關(guān)斷過程。

3.1 機制分解:從單步到分步的能量管理

傳統(tǒng)的關(guān)斷是一步到位的:從VGS_on?(如+18V)直接拉低到VGS_off?(如-5V)。而在2LTO機制中,關(guān)斷過程被精細地分解為三個物理階段:

第一階段:主動鉗位與電流節(jié)流(Current Throttling Phase)

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當檢測電路(如基于分流器、羅氏線圈或快速Desat)識別出短路后,驅(qū)動器并不立即關(guān)斷器件,而是迅速將柵極電壓VGS?從工作電壓(+18V)降低到一個預設(shè)的中間電平(Intermediate Level),通常設(shè)定在9V至12V之間 。

物理本源: 這一動作利用了SiC MOSFET跨導的特性。當VGS?從18V降至10V時,盡管器件仍處于導通狀態(tài),但根據(jù)平方律關(guān)系,其飽和電流能力(Isat?)將呈現(xiàn)非線性的劇烈下降。實驗數(shù)據(jù)顯示,這一動作可將短路電流瞬間壓縮至峰值的30%-50% 。

熱學意義: 功率耗散 P=VDS?×ID?。通過強制降低ID?,芯片內(nèi)部的熱產(chǎn)生率瞬間降低一半以上。這實際上是在“暫?!睙崾Э氐牡褂嫊r,極大地延緩了結(jié)溫上升至破壞閾值的時間,從而有效延長了器件的短路耐受時間(SCWT) 。

第二階段:電感能量的穩(wěn)定與耗散(Stabilization Phase)

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在中間電平保持一段預設(shè)的時間(Dwell Time,通常為0.5μs至2μs)。

電磁學意義: 在此期間,主回路中的電流被鉗位在較低水平。寄生電感中存儲的磁場能量(EL?=21?Li2)隨著電流的受控下降而被部分釋放或穩(wěn)定化。與直接關(guān)斷時電流從數(shù)千安培驟降至零不同,此階段電流處于一個較低的“臺階”上,為最終的關(guān)斷做好了物理準備。

第三階段:軟換流關(guān)斷(Commutation Phase)

在延遲時間結(jié)束后,驅(qū)動器執(zhí)行最終的關(guān)斷操作,將VGS?拉低至負壓(如-5V)。

瞬態(tài)物理意義: 此時需要切斷的電流Ioff?已經(jīng)遠小于初始的短路峰值電流ISC_peak?。根據(jù)Vpeak?=VDC?+Lσ??(di/dt),由于電流絕對值的減小,即使關(guān)斷速度較快,產(chǎn)生的di/dt也顯著降低,從而使得感應電壓尖峰被自然地限制在安全工作區(qū)(SOA)內(nèi),無需依賴外部巨大的吸收電容或復雜的有源鉗位電路 。

3.2 根本原因總結(jié):對di/dt與Ipeak?的解耦

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2LTO成為“最有力方案”的根本物理原因在于:它解耦了“限制故障能量”與“控制關(guān)斷過壓”這兩個看似矛盾的目標。

通過降低VGS?,利用器件自身的轉(zhuǎn)移特性限制了Ipeak?,解決了熱積累問題。

通過在低電流水平下進行最終關(guān)斷,從源頭上減小了L?di/dt的基數(shù),解決了電壓過沖問題。

這種機制是從半導體器件物理特性的根源出發(fā),而非僅僅在外部電路層面做修補。

4. 與競品技術(shù)的深度對比分析

為了進一步論證2LTO的優(yōu)越性,我們需要將其與現(xiàn)有的主流保護方案進行深度對比。

4.1 2LTO vs. 軟關(guān)斷(Soft Turn-Off, STO)

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STO原理: 在檢測到短路后,通過切換到一個高阻值的柵極電阻(Rg_soft?)或使用微弱的恒流源來緩慢釋放柵極電荷,從而拉長電流下降時間 。

物理缺陷:

能量懲罰(Energy Penalty): STO的本質(zhì)是“拖延”。為了將電壓尖峰限制在安全范圍內(nèi),必須極大地降低di/dt,這意味著關(guān)斷過程可能持續(xù)數(shù)微秒。在這段時間內(nèi),器件承受著全電壓(VDC?)和高電流,導致巨大的關(guān)斷損耗(Eoff?)。對于熱容極小的SiC芯片,這種額外的能量注入往往是致命的。研究表明,STO過程本身消耗的能量可能占據(jù)SiC MOSFET短路耐受能量預算的50%以上 。

一致性差: STO的關(guān)斷速度高度依賴于器件的米勒電容(Crss?)和輸入電容(Ciss?)。由于SiC MOSFET的電容特性隨電壓非線性變化且存在批次差異,使用固定電阻的STO很難在所有工況下保證一致的保護效果 。

2LTO的優(yōu)勢: 2LTO是“階躍式”的。它首先快速將電流壓低(通過電壓控制),然后在低電流下關(guān)斷。其能量積分(∫i?vdt)顯著小于電流緩慢斜坡下降的STO。因此,2LTO在保護成功率和熱應力控制上具有壓倒性優(yōu)勢。

4.2 2LTO vs. 有源鉗位(Active Clamping)

有源鉗位原理: 利用TVS二極管串聯(lián)在漏極和柵極之間。當VDS?超過設(shè)定值時,TVS擊穿,電流注入柵極,強行再次導通器件以限制電壓上升 。

物理缺陷:

響應速度瓶頸: SiC MOSFET的開關(guān)速度極快(dV/dt>100V/ns)。TVS二極管的響應動作往往存在納秒級的延遲,這對于SiC來說可能已經(jīng)太慢。

熱應力轉(zhuǎn)移: 有源鉗位本質(zhì)上是將過壓能量耗散在MOSFET的線性區(qū),強迫器件工作在雪崩邊緣。這會進一步增加芯片的熱負荷,這對于本就脆弱的SiC晶圓來說是雪上加霜。

復雜性與成本: 需要高壓、高速的TVS組件,且電路設(shè)計復雜。

2LTO的優(yōu)勢: 2LTO是預防性的(Preventive),而有源鉗位是反應性的(Reactive)。2LTO通過預先降低電流來防止過壓的產(chǎn)生,而不是在過壓發(fā)生后去壓制它。這使得2LTO在系統(tǒng)成本、可靠性和熱管理上都優(yōu)于有源鉗位 。

4.3 2LTO vs. 硬關(guān)斷(Hard Turn-Off, HTO)

HTO原理: 立即以最大驅(qū)動能力拉低柵壓。

物理缺陷: 對于SiC MOSFET,HTO幾乎肯定會導致VDS?電壓尖峰超過擊穿電壓(BVDSS?),引發(fā)雪崩擊穿。由于SiC芯片面積小,其雪崩耐受能力(Avalanche Ruggedness)通常低于同級IGBT,極易導致瞬時損壞 。

2LTO的優(yōu)勢: 2LTO通過中間電平緩沖,從根本上消除了產(chǎn)生破壞性過壓的物理條件。

5. 兩級關(guān)斷技術(shù)的工程實現(xiàn)與關(guān)鍵參數(shù)

在工業(yè)界,2LTO已經(jīng)從理論走向了標準配置,我們可以看到這一機制的具體落地形式。

5.1 現(xiàn)代柵極驅(qū)動器的架構(gòu)

先進的SiC柵極驅(qū)動芯片明確集成了“分立式兩級關(guān)斷”功能 。其典型的內(nèi)部邏輯包括:

快速檢測單元: 采用優(yōu)化的Desat檢測電路,針對SiC的特性縮短消隱時間(Blanking Time),通常設(shè)定在1μs以內(nèi),以適應SiC極短的SCWT 。

中間電平驅(qū)動路徑: 芯片內(nèi)部集成或通過外部引腳配置一個獨立的放電路徑(Soft Turn-off Pin 或 2LTO Pin)。當檢測到故障時,主放電路徑被封鎖,輔助路徑激活,通過一個設(shè)定好的電阻或電壓源將VGS?鉗位在中間電壓。

時序控制器 一個精確的計時器控制中間電平的保持時間(Dwell Time),該參數(shù)通??烧{(diào),以匹配不同功率模塊的電感特性。

5.2 關(guān)鍵參數(shù)的設(shè)計依據(jù)

中間電壓(Vmid?): 選擇依據(jù)是器件的轉(zhuǎn)移特性曲線。通常選在9V-12V。電壓過高,電流限制效果不明顯;電壓過低,可能導致電流下降過快引發(fā)振蕩。目標是將飽和電流限制在額定電流的2-3倍左右 。

保持時間(tdwell?): 必須足夠長以允許回路電感能量釋放和電流穩(wěn)定,但又不能太長以免引起不必要的熱積累。通常在500ns到2μs之間。

5.3 工業(yè)模塊的配合

在基本半導體的工業(yè)級模塊文檔中,推薦的柵極驅(qū)動電壓(+18V/-5V) 為2LTO的實施提供了良好的電壓裕度。高閾值電壓意味著在中間電平(如10V)下,器件能更有效地進入深度限流狀態(tài),增強了2LTO的效果。

6. 深層洞察:2LTO對系統(tǒng)可靠性的二階與三階影響

超越單一的短路保護,2LTO機制對整個SiC電力電子系統(tǒng)的設(shè)計哲學產(chǎn)生了深遠影響。

6.1 二階洞察:電感-效率權(quán)衡的解綁

傳統(tǒng)的SiC系統(tǒng)設(shè)計中,為了防止短路關(guān)斷時的過壓,工程師往往被迫人為增加關(guān)斷電阻Rg(off)?或盡量減小回路電感,這往往限制了正常工作時的開關(guān)速度,犧牲了SiC的高頻高致優(yōu)勢。

2LTO帶來的變革: 由于2LTO在故障時接管了di/dt的控制權(quán),設(shè)計者在正常工作模式下可以大膽采用更小的Rg?來實現(xiàn)極速開關(guān),從而最大化效率。保護機制與正常運行性能實現(xiàn)了“解綁” 。

6.2 三階洞察:累積損傷與壽命延長

短路事件即使沒有當場炸毀器件,也會造成不可逆的損傷(如柵極氧化層陷阱電荷積累、源極鋁層熱疲勞)。

2LTO的長效機制: 通過顯著降低短路過程中的峰值溫度(Tj_max?)和溫度梯度(dT/dt),2LTO減少了單次短路事件對器件造成的物理損傷 。這意味著采用2LTO保護的系統(tǒng),在經(jīng)歷多次意外短路干擾后,其器件參數(shù)(如RDS(on)?、Vth?)的漂移量將遠小于采用STO或有源鉗位的系統(tǒng),從而實質(zhì)性地延長了變流器的全生命周期可靠性。

6.3 驅(qū)動復雜性與系統(tǒng)成本的倒置

雖然引入2LTO增加了柵極驅(qū)動電路的復雜性(需要更多的邏輯和分立元件),但它消除了在主功率回路中并聯(lián)龐大的吸收電容(Snubber)或在模塊內(nèi)部集成復雜鉗位電路的需求。將復雜性從高壓、高功率側(cè)(昂貴、體積大)轉(zhuǎn)移到低壓信號側(cè)(便宜、集成度高),這在系統(tǒng)工程上是一個極具性價比的優(yōu)化方向 。

7. 結(jié)論

深圳市傾佳電子有限公司(簡稱“傾佳電子”)是聚焦新能源與電力電子變革的核心推動者:
傾佳電子成立于2018年,總部位于深圳福田區(qū),定位于功率半導體與新能源汽車連接器的專業(yè)分銷商,業(yè)務聚焦三大方向:
新能源:覆蓋光伏、儲能、充電基礎(chǔ)設(shè)施;
交通電動化:服務新能源汽車三電系統(tǒng)(電控、電池、電機)及高壓平臺升級;
數(shù)字化轉(zhuǎn)型:支持AI算力電源、數(shù)據(jù)中心等新型電力電子應用。
公司以“推動國產(chǎn)SiC替代進口、加速能源低碳轉(zhuǎn)型”為使命,響應國家“雙碳”政策(碳達峰、碳中和),致力于降低電力電子系統(tǒng)能耗。

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碳化硅MOSFET驅(qū)動保護中的兩級關(guān)斷(2LTO)之所以成為短路保護中最有力的方案,并非偶然,而是由SiC器件的本征物理屬性決定的必然選擇。

其根本原因在于:SiC MOSFET具有極高的短路電流密度和極低的熱容,導致熱失效時間極短(<3μs),同時其極快的開關(guān)速度和巨大的電流幅值導致直接關(guān)斷會產(chǎn)生致命的電壓過沖。傳統(tǒng)的單一關(guān)斷策略無法同時解決“熱炸毀”和“電壓擊穿”這一對矛盾。

2LTO機制通過物理層面的解耦——利用柵極電壓對飽和電流的強控制特性,先行將電流“節(jié)流”至安全水平(解決熱問題),再在低電流下完成“換流”(解決電壓問題)。這種分步走的策略,完美契合了SiC MOSFET的轉(zhuǎn)移特性曲線,以最小的能量代價實現(xiàn)了最安全的故障隔離。

隨著廠商推出集成2LTO功能的專用驅(qū)動芯片以及針對性優(yōu)化的功率模塊,2LTO已經(jīng)從一種高級控制策略演變?yōu)镾iC驅(qū)動系統(tǒng)的標準配置,是釋放碳化硅材料全部潛能、確保系統(tǒng)在極端工況下生存的“最后一道防線”。

審核編輯 黃宇

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