10月10日晚間消息，著名半導(dǎo)體制造公司臺(tái)積電宣布了有關(guān)極紫外光刻(EUV)技術(shù)的兩項(xiàng)重磅突破，一是首次使用7nm EUV工藝完成了客戶芯片的流片工作，二是5nm工藝將在六個(gè)月后開(kāi)始試產(chǎn)！

這對(duì)于下游產(chǎn)業(yè)將是非常大的利好消息！

今年4月開(kāi)始，臺(tái)積電第一代7nm工藝投入量產(chǎn)，iPhone XS、iPhone XS Max以及iPhone XR的A12處理器和華為Mate 20系列與榮耀Magic 2的華為麒麟980處理器都是基于臺(tái)積電的7nm工藝生產(chǎn)。

不過(guò)目前的7nm都是傳統(tǒng)的深紫外光刻(DUV)技術(shù)，而全新突破的EUV工藝對(duì)比DUV將會(huì)有不小的進(jìn)步。

目前，臺(tái)積電尚未透露7nm EUV流片成功的是哪家廠商的芯片。不過(guò)，外界有很多人都猜測(cè)是蘋(píng)果。A12處理器使用的是第一代的7nm工藝，作為臺(tái)積電最重要的客戶，蘋(píng)果自然極有可能率先享受到臺(tái)積電的最新技術(shù)。

另一項(xiàng)突破是5nm工藝將在6個(gè)月后開(kāi)始試產(chǎn)。關(guān)于5nm工藝，現(xiàn)在能得到的信息還不是很多。不過(guò)據(jù)AnandTech稱，和初代7nm工藝相比，5nm制程可以縮小晶體管體積45%，性能提升15%，功耗降低20%。

有消息稱，5nm工藝EDA設(shè)計(jì)工具將會(huì)在今年11月提供，因此部分客戶應(yīng)該已經(jīng)開(kāi)始基于新工藝開(kāi)發(fā)芯片了，屆時(shí)與臺(tái)積電緊密合作的幾大廠商也將會(huì)適時(shí)推出自家基于5nm工藝的旗艦芯片，可以說(shuō)是相當(dāng)值得期待。

本文來(lái)源：中國(guó)半導(dǎo)體論壇