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中科院半導(dǎo)體所

文章:1441 被閱讀:476.6w 粉絲數(shù):293 關(guān)注數(shù):0 點(diǎn)贊數(shù):46

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頻率濾波的原理、傅立葉變換與頻域濾波以及濾波應(yīng)用介紹

干涉圖是光學(xué)實(shí)驗中常見的現(xiàn)象,它反映了光波相互疊加形成的干涉條紋,展現(xiàn)了光的波動性質(zhì)。
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 03-20 11:05 ?3612次閱讀
頻率濾波的原理、傅立葉變換與頻域濾波以及濾波應(yīng)用介紹

什么是溝道通孔?溝道通孔刻蝕需要考慮哪些方面?

溝道通孔(Channel Hole)指的是從頂層到底層垂直于晶圓表面,穿過多層存儲單元的細(xì)長孔洞。
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 03-20 10:19 ?2450次閱讀
什么是溝道通孔?溝道通孔刻蝕需要考慮哪些方面?

探討三種超構(gòu)器件表面的加工方法

超構(gòu)表面是近年來出現(xiàn)一種新型的光學(xué)器件,也被稱為超構(gòu)器件。
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 03-19 15:23 ?1798次閱讀
探討三種超構(gòu)器件表面的加工方法

MEMS工藝中快速退火的應(yīng)用范圍和優(yōu)勢介紹

在MEMS工藝中,常用的退火方法,如高溫爐管退火和快速熱退火(RTP)。RTP (Rapid The....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 03-19 15:21 ?4197次閱讀
MEMS工藝中快速退火的應(yīng)用范圍和優(yōu)勢介紹

有了2D NAND,為什么要升級到3D呢?

2D NAND和3D NAND都是非易失性存儲技術(shù)(NVM Non-VolatileMemory),....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 03-17 15:31 ?1983次閱讀
有了2D NAND,為什么要升級到3D呢?

電子束光刻的參數(shù)優(yōu)化及常見問題介紹

本文從光刻圖案設(shè)計、特征尺寸、電鏡參數(shù)優(yōu)化等方面介紹電子束光刻的參數(shù)優(yōu)化,最后介紹了一些常見問題。
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 03-17 14:33 ?2484次閱讀
電子束光刻的參數(shù)優(yōu)化及常見問題介紹

波長與波數(shù)相互轉(zhuǎn)換的方法介紹

光的“顏色”通常通過作為波長 λ 函數(shù)的功率或強(qiáng)度分布來識別??梢姽獾牟ㄩL范圍為約 400 nm 至....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 03-17 14:23 ?3129次閱讀
波長與波數(shù)相互轉(zhuǎn)換的方法介紹

FD-SOI與PD-SOI他們的區(qū)別在哪?

本文簡單介紹了兩種常用的SOI晶圓——FD-SOI與PD-SOI。
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 03-17 10:10 ?4589次閱讀
FD-SOI與PD-SOI他們的區(qū)別在哪?

可以用鋁或多晶硅做柵極材料,是什么原因呢?

柵(Gate)是一種控制元件,通常用于場效應(yīng)晶體管(FET)中,比如金屬-氧化物-半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 03-13 11:41 ?3329次閱讀
可以用鋁或多晶硅做柵極材料,是什么原因呢?

芯片內(nèi)部有多小呢?芯片內(nèi)部為什么能這么小?

芯片藏身于城市中隨處可見的電子設(shè)備,智能手機(jī)、電腦、家電等都離不開它的控制。
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 03-12 10:25 ?1389次閱讀
芯片內(nèi)部有多小呢?芯片內(nèi)部為什么能這么?。? />    </a>
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CMOS工藝技術(shù)的概念、發(fā)展歷程、優(yōu)點(diǎn)以及應(yīng)用場景介紹

CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor, 互補(bǔ)金屬....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 03-12 10:20 ?12514次閱讀
CMOS工藝技術(shù)的概念、發(fā)展歷程、優(yōu)點(diǎn)以及應(yīng)用場景介紹

什么是超快激光?超快激光的應(yīng)用有哪些呢?

激光的原理早在 1916 年已經(jīng)由著名物理學(xué)家愛因斯坦(Albert Einstein)的受激輻射理....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 03-11 14:36 ?3018次閱讀
什么是超快激光?超快激光的應(yīng)用有哪些呢?

集成電路基礎(chǔ)知識介紹:從原子結(jié)構(gòu)到晶體管

在19世紀(jì)末期,消費(fèi)類產(chǎn)品包括照明、加熱、電話和電報等一些簡單的電路。但是無線電的發(fā)明和對于能夠整流....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 03-11 14:32 ?3041次閱讀
集成電路基礎(chǔ)知識介紹:從原子結(jié)構(gòu)到晶體管

噪聲對相位解包裹的影響及其抑制方法研究

當(dāng)光學(xué)粗糙表面被擴(kuò)展的激光束照射時,形成的圖像是斑點(diǎn)圖案(亮斑和暗斑)。噪聲對相位展開過程產(chǎn)生了災(zāi)難....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 03-11 10:04 ?1350次閱讀
噪聲對相位解包裹的影響及其抑制方法研究

半導(dǎo)體所研制出室溫連續(xù)功率4.6W的GaN基大功率紫外激光器

氮化鎵(GaN)基材料被稱為第三代半導(dǎo)體,其光譜范圍覆蓋了近紅外、可見光和紫外全波段,在光電子學(xué)領(lǐng)域....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 03-08 10:32 ?1595次閱讀
半導(dǎo)體所研制出室溫連續(xù)功率4.6W的GaN基大功率紫外激光器

在SPICE模擬器中應(yīng)該調(diào)諧優(yōu)化哪些模型參數(shù)?需要全部調(diào)優(yōu)嗎?

在SPICE模擬器中有幾十種標(biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體器件模型,例如,用于GaN器件的最新ASM-HEMT模型有近....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 03-06 10:37 ?2038次閱讀
在SPICE模擬器中應(yīng)該調(diào)諧優(yōu)化哪些模型參數(shù)?需要全部調(diào)優(yōu)嗎?

MCU、DSP、PLC三者的比較和分析

PLC廣泛應(yīng)用于工業(yè)自動化控制系統(tǒng)中,包括機(jī)床控制、流水線控制、機(jī)器人控制、電力系統(tǒng)控制等領(lǐng)域。PL....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 03-04 14:51 ?4175次閱讀

如何在芯片中減少光刻膠的使用量

光刻膠不能太厚或太薄,需要按制程需求來定。比如對于需要長時間蝕刻以形成深孔的應(yīng)用場景,較厚的光刻膠層....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 03-04 10:49 ?1731次閱讀
如何在芯片中減少光刻膠的使用量

基于SEM的電子束光刻技術(shù)開發(fā)及研究

電子束光刻(e-beam lithography,EBL)是無掩膜光刻的一種,它利用波長極短的聚焦電....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 03-04 10:19 ?3785次閱讀
基于SEM的電子束光刻技術(shù)開發(fā)及研究

光學(xué)巴比涅原理及應(yīng)用

巴比涅原理???,也譯作巴俾涅原理,指在點(diǎn)光源照射下,一個不透光物體產(chǎn)生的衍射圖樣和一個帶有與該物體....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-29 14:39 ?3842次閱讀
光學(xué)巴比涅原理及應(yīng)用

在芯片級的薄膜電阻和板級的厚膜電阻都是如何進(jìn)行修調(diào)呢?

在MEMS某些器件設(shè)計中,常常需要用到可調(diào)電阻,在板級電路上可以通過電位器對貼片電阻進(jìn)行調(diào)阻,但在芯....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-29 10:44 ?2078次閱讀
在芯片級的薄膜電阻和板級的厚膜電阻都是如何進(jìn)行修調(diào)呢?

雙頻激光干涉測量的原理是什么?

雙頻激光干涉儀是在單頻激光干涉儀的基礎(chǔ)上發(fā)展的一種外差式干涉儀。
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-28 11:10 ?2888次閱讀
雙頻激光干涉測量的原理是什么?

薄膜和厚膜的區(qū)別以及不同的制備工藝介紹

相對于塊體材料,膜一般為二維材料。薄膜和厚膜從字面上區(qū)分,主要是厚度。薄膜一般厚度為5nm至2.5μ....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-28 11:08 ?5397次閱讀

提拉法生長晶體的概念和應(yīng)用

在外加電場作用下折射率發(fā)生變化,從而使通過晶體的一束激光分解為兩束偏振方向相互垂直的偏振光,并產(chǎn)生一....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-27 11:09 ?2911次閱讀
提拉法生長晶體的概念和應(yīng)用

多晶硅的塊狀破碎過程解析

人工破碎就是工人用碳化鎢錘多晶硅棒進(jìn)行錘擊達(dá)到粉碎的目的。碳化鎢的硬度僅次于鉆石,能夠保持鋒利的邊緣....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-27 10:17 ?2253次閱讀
多晶硅的塊狀破碎過程解析

多層石墨烯中的分?jǐn)?shù)量子霍爾效應(yīng)解析

霍爾效應(yīng)在普通的導(dǎo)體中是線性的,即霍爾電阻和磁場強(qiáng)度成正比。但是,在一些特殊的材料中,當(dāng)磁場很強(qiáng)時,....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-26 09:54 ?1340次閱讀

腦機(jī)接口的物理原理與技術(shù)探索

在電磁波譜中,近紅外光(NIR)的波長在700—1400 nm之間,只要功率密度控制在每平方厘米毫瓦....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-25 11:48 ?1853次閱讀

如何調(diào)控BOSCH工藝深硅刻蝕?影響深硅刻蝕的關(guān)鍵參數(shù)有哪些?

影響深硅刻蝕的關(guān)鍵參數(shù)有:氣體流量、上電極功率、下電極功率、腔體壓力和冷卻器。
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-25 10:44 ?5331次閱讀
如何調(diào)控BOSCH工藝深硅刻蝕?影響深硅刻蝕的關(guān)鍵參數(shù)有哪些?

什么是薄膜與厚膜?薄膜與厚膜有什么區(qū)別?

在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,我們經(jīng)常聽到“薄膜制備技術(shù)”,“薄膜區(qū)”,“薄膜工藝”等詞匯,那么有厚膜嗎?答案是....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-25 09:47 ?9844次閱讀
什么是薄膜與厚膜?薄膜與厚膜有什么區(qū)別?

die,device和chip的定義和區(qū)別

在半導(dǎo)體行業(yè)中,“die”,“device”,和“chip”這三個術(shù)語都可以用來指代芯片。
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-23 18:26 ?13805次閱讀