TSMC最近宣布其第四代主要16納米工藝，即16FFC（16納米FinFET緊湊版）, 進(jìn)入批量生產(chǎn)。該工藝提供了一種簡單的從28納米工藝進(jìn)行轉(zhuǎn)移的方式，它具有優(yōu)異的性能、功耗和面積方面的優(yōu)點。為了在該工藝上開發(fā)最具競爭力的片上系統(tǒng)（SOC），設(shè)計人員必須選擇優(yōu)化的基礎(chǔ)IP構(gòu)件（嵌入式存儲器和標(biāo)準(zhǔn)單元庫），以實現(xiàn)最高的SOC性能，以及最低的功耗和面積。通過將16FFC工藝和正確基礎(chǔ)IP組合，設(shè)計人員能夠為多種應(yīng)用開發(fā)SOC，從高端綠色服務(wù)器和網(wǎng)絡(luò)處理器到超低功耗移動裝置、消費產(chǎn)品、可穿戴產(chǎn)品，以及介于中間的任何產(chǎn)品。

在本文中，介紹了設(shè)計人員可采取的七種方式，采用它們，設(shè)計人員能夠利用這一新工藝的優(yōu)點，以及最先進(jìn)的邏輯庫和存儲器編譯器技術(shù)，對其SOC的性能、功耗和面積進(jìn)行優(yōu)化。

1、與28納米技術(shù)相比，利用16納米技術(shù)的摩爾定律縮小比例，設(shè)計人員能夠改善SOC的面積。
2、FinFET提供了較高的每單位面積飽和電流，這意味著可以通過不同的電路拓?fù)鋪砀纳菩阅?，從而使用較小的邏輯單元來收斂關(guān)鍵定時路徑。
3、與28納米相比，F(xiàn)inFET的漏電流更低，但是，由于fin的輸入電容增加，消耗的動態(tài)功耗相對較高。
4、標(biāo)準(zhǔn)單元架構(gòu)能夠利用創(chuàng)新的工藝技術(shù)（continuous poly），借助于使用與邏輯庫共同優(yōu)化的物理設(shè)計工具，產(chǎn)生最密集的布圖，以節(jié)省面積和功耗。
5、布線性好的高扇入標(biāo)準(zhǔn)單元，和具有多種延遲時間、多種建立時間和多位觸發(fā)器（MBFF）的時序單元，使得設(shè)計人員能夠優(yōu)化其處理器核的性能和功耗。
6、具有多種位元、多種外圍VT和創(chuàng)新的功耗管理特性的多種存儲器編譯器。
7、將創(chuàng)新的工藝技術(shù)、庫設(shè)計能力、最新的EDA工具創(chuàng)新和流程結(jié)合在一起，SOC設(shè)計人員能夠利用自己的設(shè)計技能，開發(fā)出具有最高性能、最低硅片成本和最低功耗的設(shè)計。

工藝縮放
作為摩爾定律和經(jīng)典Dennard縮放的一部分，16FFC工藝提供了更小的晶體管間距（contacted poly pitch或CPP）和更小的互連金屬間距（線到線，過孔到線，以及過孔到過孔）以利于布線，提供了更小的位單元以減少面積。優(yōu)化的IP布圖創(chuàng)新能利用這些更小設(shè)計規(guī)則，同時還能處理16納米技術(shù)帶來的挑戰(zhàn)，包括因更細(xì)導(dǎo)線而致的較高線電阻，以及信號線和電網(wǎng)的電遷移。必須在IP架構(gòu)和IP驗證方面解決這些挑戰(zhàn)。如圖1所示，與28納米技術(shù)相比，使用優(yōu)化的基礎(chǔ)IP時，16FFC能夠提供兩倍以上的面積收益和至少30%的性能改進(jìn)。

圖1：面積-性能，28納米-16納米，CPU

FinFET提供了較高的每單位面積飽和電流，這意味著可以通過不同的電路拓?fù)鋪砀纳菩阅?，從而使用較小的邏輯單元來收斂關(guān)鍵定時路徑。

Reduced Gate Leakage but Increased Dynamic Power
16FFC提供了豐富的電壓閾值（VT）和溝道長度，涵蓋廣泛的性能/漏電范圍。在圖2中，給出了邏輯門性能-漏電（對數(shù)尺度）圖，其中顯示了通過在多個VT/溝道長度上使用針腳相容的標(biāo)準(zhǔn)單元來實現(xiàn)設(shè)計權(quán)衡。

圖2：每種VT和溝道長度的相對性能-相對漏電，7.5軌（T）超高密度

許多移動和物聯(lián)網(wǎng)（IOT）設(shè)備大多數(shù)時間處于待機或睡眠狀態(tài)，這時唯一的功耗為漏電功耗。FinFET的一個主要優(yōu)點在于，它們能在很低的電壓下工作，當(dāng)然相關(guān)的性能也會降低。漏電流大體上與供電電壓成正比，漏電流節(jié)省在低電壓下很可觀。

總功耗由動態(tài)功耗和漏電功耗組成。與28納米或其他節(jié)點相比，F(xiàn)inFET的漏電更低，但由于fin的輸入電容和飽和電流增加，它會消耗較高的動態(tài)功耗。在28納米SOC的設(shè)計范例下，這類在相對漏電-動態(tài)功耗方面的變化會產(chǎn)生較大差異。在圖3中，顯示了從180納米到16納米，漏電功耗占總SOC功耗的百分比。在16FFC，這會大大減少設(shè)計人員在減小漏電方面的壓力，但會將更多注意力放在降低動態(tài)功耗方面。

圖3：從180納米到16納米漏電功耗占總SOC功耗的百分比

管理動態(tài)功耗= CFV2
由于應(yīng)用規(guī)范對SOC性能具有強制要求，可由設(shè)計人員控制的動態(tài)功耗源包括，通過積極使用時鐘門控來管理開關(guān)頻率，將電容最小化，并將工作電壓將至最低。使用密集的優(yōu)化布圖和較短的走線，可將布線電容將至最低（通過使用在給定頻率給定功能下具有最佳單元高度的優(yōu)化庫，可將輸入電容最小化）。標(biāo)準(zhǔn)單元可按照多種高度來構(gòu)建（3fin、4fin和5fin），從而在性能和可靠性方面與設(shè)計模塊的目標(biāo)頻率相匹配。在圖4中，顯示了三種不同軌道高度下（7.5T、9T、10.5T）1X驅(qū)動反相器的輸入電容。其他單元具有類似趨勢。

圖4：各種標(biāo)準(zhǔn)單元架構(gòu)下1X反相器的輸入電容

對于同一個模塊，使用超高密度（UHD）7.5軌道庫時，與高密度（HD）9軌道庫相比，并不具有最高的性能，但由于降低了器件電容，功耗會降低25%左右，具體情況取決于模塊的功能和頻率。此外，當(dāng)降低模塊的電壓時，動態(tài)功耗的降低因數(shù)為V2。在圖5中，給出了不同額定電壓下模塊的漏電功耗（虛線）和動態(tài)功耗（實線）圖。低壓下降低的動態(tài)功耗歸因于V2分量。

圖5：多個額定電壓下的性能-漏電和動態(tài)功耗

顯著改善模塊性能、功耗和面積的邏輯庫設(shè)計
將新的TSMC 16FFC工藝與優(yōu)化布圖以及創(chuàng)新的邏輯庫電路設(shè)計結(jié)合在一起，可為通過綜合和布局布線從RTL創(chuàng)建數(shù)字邏輯模塊的設(shè)計工程師提供數(shù)項優(yōu)點。布線后的模塊密度對于降低硅片面積和節(jié)省功耗十分關(guān)鍵。

針對最小SOC面積和最低總功耗的高效布圖
標(biāo)準(zhǔn)單元設(shè)計是一個復(fù)雜的過程，其中，每一個電路元件、布圖特性或折中均會對性能、功耗、面積（PPA）和可制造性產(chǎn)生重大影響。充分利用工藝特性如CPODE（continuous poly on diffusion edge），與使用PODE（poly on diffusion edge）的設(shè)計相比，能夠使布線后模塊小5%，從而得到最小的布線后模塊面積和最小的總功耗。

組合單元
優(yōu)化寄存器-寄存器路徑需要豐富的標(biāo)準(zhǔn)單元庫，包括合適的功能、驅(qū)動強度和實現(xiàn)種類。一套豐富的優(yōu)化功能（NAND, NOR, AND, OR, inverter, buffers, XOR, XNOR, MUX, adders, compressors 等）對于綜合出優(yōu)化的電路而言十分必要。需使用優(yōu)化布圖技術(shù)以便最大程度利用最新的布線算法來消除阻塞。先進(jìn)的綜合和布局布線工具能夠利用豐富的驅(qū)動強度集合，來對由設(shè)計拓?fù)浜蛦卧g物理距離產(chǎn)生的不同的扇出和負(fù)載進(jìn)行優(yōu)化處理。

時序單元
觸發(fā)器的建立時間加上延遲時間有時被稱為“死區(qū)”或“黑洞”時間。與時鐘不確定性類似，該時間會消耗每一時鐘周期內(nèi)的時間，而這些時間本應(yīng)用于執(zhí)行有用的計算工作。需要用到多套高性能觸發(fā)器，以便對這類死區(qū)時間進(jìn)行優(yōu)化管理。延遲時間優(yōu)化觸發(fā)器（多延遲時間觸發(fā)器）快速將信號送入關(guān)鍵路徑邏輯簇，建立時間優(yōu)化觸發(fā)器（多建立時間觸發(fā)器）捕獲寄存器，從而延長可用時鐘周期。通過對綜合和布線優(yōu)化工具進(jìn)行有效約束，我們能夠使用這些多建立時間/多延遲時間觸發(fā)器集合來實現(xiàn)最大速度，從而獲得15-20%的性能提升。

顯著改善PPA的存儲器編譯器設(shè)計
DesignWare?存儲器編譯器針對低功耗、高性能和高密度進(jìn)行了優(yōu)化，它提供了多種先進(jìn)的功耗管理特性，如輕度睡眠、深度睡眠、關(guān)機、雙供電軌道、寫輔助等，使得設(shè)計人員能夠滿足當(dāng)今SOC嚴(yán)格的低功耗要求。DesignWare存儲器編譯器與DesignWare STAR Memory System?緊密結(jié)合在一起，提供了集成的嵌入式存儲器測試解決方案來檢測并修復(fù)制造故障，從而達(dá)到最高可能的良率，同時將對芯片面積的影響將至最低。DesignWare存儲器編譯器在數(shù)以十億計的量產(chǎn)芯片上得到了驗證，這使得設(shè)計人員能夠降低風(fēng)險并縮短面市時間。

圖6：用于各種應(yīng)用的多種DesignWare存儲器編譯器

總結(jié)
TSMC的16FFC工藝改進(jìn)了工藝規(guī)則和變異性，以實現(xiàn)更小的設(shè)計、更高的性能和更低的功耗。如果擁有充分利用這些新工藝能力的邏輯庫和嵌入式存儲器，領(lǐng)先的綜合和布局布線工具就能夠最大程度地利用這些工藝改進(jìn)來滿足嚴(yán)格的設(shè)計規(guī)范。Synopsys 的DesignWare邏輯庫和領(lǐng)先的EDA工具、存儲器編譯器以及齊全的接口IP采用了相應(yīng)設(shè)計，使得SOC設(shè)計人員能夠挑戰(zhàn)性能、面積和功耗極限，并充分利用新工藝的能力來實現(xiàn)具有最小的面積和最高的兆赫/毫瓦的SOC。

作者：Ken Brock，Synopsys產(chǎn)品市場營銷經(jīng)理