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標(biāo)簽 > 光刻機
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臺積電將2024年獲高NA EUV光刻機 助于2nm工藝量產(chǎn)
最近,據(jù)報道,臺積電將于2024年收購下一代Asmail的最新極紫外光刻設(shè)備,為客戶開發(fā)相關(guān)基礎(chǔ)設(shè)施和架構(gòu)解決方案。
光刻機曝光光學(xué)系統(tǒng)、半導(dǎo)體生產(chǎn)涂膠機高精度測溫儀簡介
智測電子1611A系列多通道測溫采集儀,滿足《JJF1527-2015聚合酶鏈反應(yīng)分析儀校準(zhǔn)規(guī)范》。按連接傳感器的不同,可分為鉑電阻、熱敏電阻和熱電偶三...
傳臺積電計劃關(guān)閉EUV光刻機來減少產(chǎn)能
一臺EUV光刻機工作一天大概需要耗電3萬度。如果關(guān)閉1臺EUV光刻機,一天就能省下3萬度電。臺灣目前工業(yè)用電價格約為2.45新臺幣(約合人民幣0.55元...
佳能發(fā)售半導(dǎo)體光刻機解決方案Lithography Plus
來源:佳能集團(tuán) 通過技術(shù)與數(shù)據(jù)優(yōu)勢,提升光刻機的生產(chǎn)效率 佳能將于2022年9月5日起發(fā)售解決方案平臺“Lithography Plus1”服務(wù)(以下簡...
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/黃山明)近日,產(chǎn)業(yè)鏈傳來消息稱,受先進(jìn)制程產(chǎn)能利用率下滑影響,臺積電正在考慮從今年年底開始,關(guān)閉部分EUV光刻機,以節(jié)省能耗。 就...
為何只有荷蘭能造頂級光刻機?就連米國都不行,中國芯片如何突破 1光刻機到底是臺什么樣的機器? 如果你在路上看見寫著AMSL的集箱貨車,就算你開勞斯萊斯,...
2022-08-21 標(biāo)簽:光刻機 5702 0
2019 年是極紫外 (EUV) 光刻技術(shù)的重要里程碑。當(dāng)年,EUV圖案化技術(shù)首次用于7nm技術(shù)一代邏輯芯片的量產(chǎn)。插入以圖案化芯片后端 (BEOL) ...
2022-07-26 標(biāo)簽:光刻機 2507 0
首先光刻膠成分復(fù)雜,一瓶光刻膠需要光引發(fā)劑、光增感劑、光致產(chǎn)酸劑、樹脂、稀釋劑、溶劑、助劑這些材料組成,而且配方都是保密的。
溫彼得此番言論是出于營收考慮?還是真的擔(dān)心全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)供應(yīng)鏈中斷?我們根據(jù)幾項數(shù)據(jù)事實來深入分析一下。
ASML警告美國:對中國斷供DUV光刻機半導(dǎo)體供應(yīng)鏈將中斷,真是如此嗎?
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/吳子鵬)近日,針對全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)廣泛關(guān)注的美國施壓ASML斷供中國DUV光刻機一事,ASML首席執(zhí)行官(CEO)溫彼得正式回應(yīng)稱,...
與此同時,在ASML看來,下一代高NA EUV光刻機為光刻膠再度帶來了挑戰(zhàn),更少的隨機效應(yīng)、更高的分辨率和更薄的厚度。首先傳統(tǒng)的正膠和負(fù)膠肯定是沒法用了...
而主要的 NAND 制造商正在競相增加垂直 3D NAND 門的數(shù)量,并推出了 1yyL 3D NAND 設(shè)備。例如,三星 V7 V-NAND、鎧俠和西...
據(jù)麥姆斯咨詢報道,鑒于此,四川大學(xué)王玉忠院士和宋飛教授開發(fā)了一種用于本征可潤濕表面圖案化的簡便無掩模限制蝕刻策略。使用常見的印刷技術(shù)和隨后的位置限制化學(xué)...
芯片想必大家都很熟悉,光刻機是是制造芯片的核心裝備,并且光刻機只有一小部分國家擁有,那么光刻機為什么這么難呢? 據(jù)說越小的東西,建造起來就越困難。 這句...
2022-07-10 標(biāo)簽:光刻機 9603 0
光刻機是當(dāng)前半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的核心設(shè)備,其技術(shù)含量和價值含量都很高。那么euv光刻機用途是什么呢?下面我們就一起來看看吧。 光刻設(shè)備涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)...
euv光刻機原理是什么 芯片生產(chǎn)的工具就是紫外光刻機,是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備,對芯片技術(shù)有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機生...
目前,光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV是深紫外線,EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù),EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。E...
光刻機是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備,它能夠制造和維護(hù)需要高水平的光學(xué)和電子產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ),全球只有少數(shù)制造商掌握了這一基礎(chǔ)。 光刻機的作用是對芯片晶圓進(jìn)行掃...
說到芯片,估計每個人都知道它是什么,但說到光刻,許多人可能不知道它是什么。光刻機是制造芯片的機器和設(shè)備。沒有光刻機的話,就無法生產(chǎn)芯片,因此每個人都知道...
euv光刻機出現(xiàn)時間 ASML研發(fā)新一代EUV光刻機
EUV光刻機是在2018年開始出現(xiàn),并在2019年開始大量交付,而臺積電也是在2019年推出了7nm EUV工藝。
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