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標(biāo)簽 > 晶圓制造
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國微芯EDA重磅發(fā)布多款自研數(shù)字EDA工具及軟件系統(tǒng)!
芯天成版圖集成工具EsseDBScope,是基于國微芯EDA統(tǒng)一數(shù)據(jù)底座研發(fā)的標(biāo)志性工具,本次推出的更新版本,新增了IP merge、LVL、Signa...
在這五年中,通過與數(shù)以百計(jì)的芯片公司客戶以及廠商的探討交流、實(shí)踐與協(xié)作,摩爾精英IT/CAD業(yè)務(wù)不斷升級(jí)迭代,突破了之前一個(gè)封閉的芯片公司內(nèi)部IT管理視...
淺談芯片設(shè)計(jì)的5個(gè)難關(guān)
對(duì)于芯片來說設(shè)計(jì)和工藝同樣復(fù)雜,八十年代EDA技術(shù)誕生——芯片自動(dòng)化設(shè)計(jì),使得芯片設(shè)計(jì)以及超大規(guī)模集成電路的難度大為降低。
2023-05-17 標(biāo)簽:集成電路芯片設(shè)計(jì)eda 890 0
英特爾、三星和臺(tái)積電公布下一代晶體管進(jìn)展
英特爾是三者中最早演示 CFET 的,早在 2020 年就在 IEDM 上推出了早期版本。這一次,英特爾報(bào)告了圍繞 CFET 制造的最簡單電路(inve...
半導(dǎo)體領(lǐng)域集成微多孔透氣膜材料應(yīng)用介紹
POD無塵拖鏈護(hù)套采用高分子PU與e-PTFE基膜(PD014PD011)復(fù)合制成。POD無塵拖鏈護(hù)套專用e-PTFE基膜(PD014PD011)具有低...
晶圓代工器件結(jié)構(gòu)形成與功能實(shí)現(xiàn)
在半導(dǎo)體晶圓代工行業(yè)內(nèi),特色工藝是指以拓展摩爾定律為指導(dǎo),不完全依賴縮小晶體管特征尺寸(以下簡稱“線寬”),通過聚焦新材料、新結(jié)構(gòu)、新器件的研發(fā)創(chuàng)新與運(yùn)...
在制造的各個(gè)階段中,都有可能會(huì)引入導(dǎo)致芯片成品率下降和電學(xué)性能降低的物質(zhì),這種現(xiàn)象稱為沾污,沾污后會(huì)使生產(chǎn)出來的芯片有缺陷,導(dǎo)致晶圓上的芯片不能通過電學(xué)...
芯片,是人類科技的精華,也被稱為現(xiàn)代工業(yè)皇冠上的明珠。芯片的基本組成是晶體管。晶體管的基本工作原理其實(shí)并不復(fù)雜,但在指甲蓋那么小的面積里,塞入數(shù)以百億級(jí)...
芯片尺寸小,檢測難度大,標(biāo)準(zhǔn)的紅外熱像鏡頭通常最小能檢測100微米大小的目標(biāo),而通過加裝微距鏡頭,可以最小檢測17微米目標(biāo),相當(dāng)于1mm ×1mm的區(qū)域...
wafer晶圓幾何形貌測量系統(tǒng):厚度(THK)翹曲度(Warp)彎曲度(Bow)等數(shù)據(jù)測量
在先進(jìn)制程中,厚度(THK)翹曲度(Warp)彎曲度(Bow)三者共同決定了晶圓的幾何完整性,是良率提升和成本控制的核心參數(shù)。通過WD4000晶圓幾何形...
2025-05-23 標(biāo)簽:翹曲度厚度測量數(shù)據(jù)測量 438 0
集成電路開發(fā)中的器件調(diào)試環(huán)節(jié)
本文介紹了集成電路開發(fā)中的器件調(diào)試環(huán)節(jié),包括其核心目標(biāo)、關(guān)鍵技術(shù)與流程等內(nèi)容。
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