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標簽 > 晶圓

晶圓

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晶圓是指硅半導體集成電路制作所用的硅晶片,由于其形狀為圓形,故稱為晶圓;在硅晶片上可加工制作成各種電路元件結(jié)構(gòu),而成為有特定電性功能之IC產(chǎn)品。

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晶圓技術(shù)

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2025-07-03 標簽:芯片半導體晶圓 200 0

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2025-06-28 標簽:測試半導體晶圓 544 0

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2025-06-27 標簽:半導體晶圓測溫系統(tǒng) 206 0

晶圓邊緣 TTV 測量的意義和影響

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摘要:本文探討晶圓邊緣 TTV 測量在半導體制造中的重要意義,分析其對芯片制造工藝、器件性能和生產(chǎn)良品率的影響,同時研究測量方法、測量設(shè)備精度等因素對測...

2025-06-14 標簽:晶圓測量TTV 147 0

一文詳解激光劃片機

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激光劃片機是利用高能激光束對晶圓等材料進行切割或開槽的精密加工設(shè)備,廣泛應(yīng)用于半導體、微電子、光學器件等領(lǐng)域。其核心原理是通過激光與材料的相互作用,實現(xiàn)...

2025-06-13 標簽:激光晶圓劃片機 633 0

晶圓清洗設(shè)備概述

晶圓經(jīng)切割后,表面常附著大量由聚合物、光致抗蝕劑及蝕刻雜質(zhì)等組成的顆粒物,這些物質(zhì)會對后續(xù)工序中芯片的幾何特征與電性能產(chǎn)生不良影響。顆粒物與晶圓表面的粘...

2025-06-13 標簽:集成電路半導體晶圓 232 0

晶圓劃切過程中怎么測高?

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01為什么要測高晶圓劃片機是半導體封裝加工技術(shù)領(lǐng)域內(nèi)重要的加工設(shè)備,目前市場上使用較多的是金剛石刀片劃片機,劃片機上高速旋轉(zhuǎn)的金剛石劃片刀在使用過程中會...

2025-06-11 標簽:晶圓半導體封裝劃片機 168 0

功率器件電鍍的原理和步驟

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在功率半導體制程里,電鍍扮演著舉足輕重的角色,從芯片前端制程到后端封裝,均離不開這一關(guān)鍵工序。目前,我國中高檔功率器件在晶圓背面金屬化方面存在技術(shù)短板,...

2025-06-09 標簽:晶圓電鍍功率器件 1005 0

TPS631010 3A 峰值電流、高效、超小解決方案尺寸的降壓-升壓轉(zhuǎn)換器數(shù)據(jù)手冊

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什么是晶圓級扇出封裝技術(shù)

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TPS631011 1.5A 輸出電流降壓-升壓轉(zhuǎn)換器數(shù)據(jù)手冊

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碳化硅襯底厚度測量中探頭溫漂的熱傳導模型與實驗驗證

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引言 在碳化硅襯底厚度測量過程中,探頭溫漂會嚴重影響測量精度。構(gòu)建探頭溫漂的熱傳導模型并進行實驗驗證,有助于深入理解探頭溫漂的產(chǎn)生機理,為提高測量準確性...

2025-06-04 標簽:晶圓測量TTV 116 0

什么是晶圓級扇入封裝技術(shù)

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在微電子行業(yè)飛速發(fā)展的背景下,封裝技術(shù)已成為連接芯片創(chuàng)新與系統(tǒng)應(yīng)用的核心紐帶。其核心價值不僅體現(xiàn)于物理防護與電氣/光學互聯(lián)等基礎(chǔ)功能,更在于應(yīng)對多元化市...

2025-06-03 標簽:芯片晶圓封裝 356 0

什么是晶圓貼膜

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貼膜是指將一片經(jīng)過減薄處理的晶圓(Wafer)固定在一層特殊的膠膜上,這層膜通常為藍色,業(yè)內(nèi)常稱為“ 藍膜 ”。貼膜的目的是為后續(xù)的晶圓切割(劃片)工藝做準備。

2025-06-03 標簽:芯片晶圓工藝 275 0

混合鍵合工藝介紹

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所謂混合鍵合(hybrid bonding),指的是將兩片以上不相同的Wafer或Die通過金屬互連的混合鍵合工藝,來實現(xiàn)三維集成,在Hybrid Bo...

2025-06-03 標簽:芯片晶圓工藝 593 0

晶圓表面缺陷類型和測量方法

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在半導體制造領(lǐng)域,晶圓堪稱核心基石,其表面質(zhì)量直接關(guān)乎芯片的性能、可靠性與良品率。

2025-05-29 標簽:半導體晶圓電子束 736 0

一文詳解干法刻蝕工藝

一文詳解干法刻蝕工藝

干法刻蝕技術(shù)作為半導體制造的核心工藝模塊,通過等離子體與材料表面的相互作用實現(xiàn)精準刻蝕,其技術(shù)特性與工藝優(yōu)勢深刻影響著先進制程的演進方向。

2025-05-28 標簽:半導體晶圓刻蝕工藝 917 0

一文詳解濕法刻蝕工藝

一文詳解濕法刻蝕工藝

濕法刻蝕作為半導體制造領(lǐng)域的元老級技術(shù),其發(fā)展歷程與集成電路的微型化進程緊密交織。盡管在先進制程中因線寬控制瓶頸逐步被干法工藝取代,但憑借獨特的工藝優(yōu)勢...

2025-05-28 標簽:半導體晶圓刻蝕工藝 567 0

CMOS工藝流程簡介

互補金屬氧化物半導體(CMOS)技術(shù)是現(xiàn)代集成電路設(shè)計的核心,它利用了N型和P型MOSFET(金屬氧化物半導體場效應(yīng)晶體管)的互補特性來實現(xiàn)低功耗的電子...

2025-05-23 標簽:CMOS半導體晶圓 610 0

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