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標(biāo)簽 > 晶圓
晶圓是指硅半導(dǎo)體集成電路制作所用的硅晶片,由于其形狀為圓形,故稱為晶圓;在硅晶片上可加工制作成各種電路元件結(jié)構(gòu),而成為有特定電性功能之IC產(chǎn)品。
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在半導(dǎo)體行業(yè)中,掌握專業(yè)名詞對于從業(yè)者來說至關(guān)重要。這些名詞不僅是行業(yè)交流的基礎(chǔ),更是理解和掌握相關(guān)技術(shù)、工藝及產(chǎn)品的關(guān)鍵。以下是半導(dǎo)體人必須知道的50...
三種截然不同的基于激光的工藝,用于各種充滿活力的應(yīng)用領(lǐng)域
雖然目前半導(dǎo)體封裝使用多種激光技術(shù),但它們都具有相似的基本優(yōu)勢。具體而言,這些包含產(chǎn)生高精度特征的非接觸式加工,通常對周圍材料的影響很小,而且產(chǎn)量較高。...
射頻前端(RFFE,RadioFrequency Front-End)模組國內(nèi)外手機終端中廣泛應(yīng)用。它將功率放大器(PA,Power Amplifier...
臺積公司成立于民國七十六年,是全球首創(chuàng)專業(yè)積體電路制造服務(wù)的公司。身為專業(yè)積體電路制造服務(wù)業(yè)的創(chuàng)始者與領(lǐng)導(dǎo)者,臺積公司在提供先進的晶圓制程技術(shù)與最佳的制...
2019-10-14 標(biāo)簽:臺積電晶圓產(chǎn)業(yè)鏈 4853 0
半導(dǎo)體封裝方法,大致可以分為兩種:傳統(tǒng)封裝和晶圓級(Wafer-Level)封裝。傳統(tǒng)封裝首先將晶圓切割成芯片,然后對芯片進行封裝;而晶圓級封裝則是先在...
半導(dǎo)體制造的工藝過程由晶圓制造(Wafer Fabr ication)、晶圓測試(wafer Probe/Sorting)、芯片封裝(Assemble)...
淺談芯片制程工序中片內(nèi)&片間均勻性的定義和計算
均勻性是衡量工藝在晶圓上一致性的一個關(guān)鍵指標(biāo)。比如薄膜沉積工序中薄膜的厚度;刻蝕工序中被刻蝕材料的寬度,角度等等,都可以考慮其均勻性。
2023-11-01 標(biāo)簽:晶圓光刻半導(dǎo)體工藝 4816 0
硅元素在自然界中主要以氧化物形式為主的化合物狀態(tài)存在。這些化合物在常溫下的化學(xué)性質(zhì)十分穩(wěn)定。而在高溫下,硅幾乎可以所有物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。
2024-03-15 標(biāo)簽:晶圓半導(dǎo)體材料蝕刻 4632 0
模擬電路的統(tǒng)計特征化與CAD設(shè)計分析方法
半導(dǎo)體器件及電路的性能會因為工藝本身固有的基本統(tǒng)計性變異 (statistical variation)而發(fā)生波動。
PVD篇 PVD是通過濺射或蒸發(fā)靶材材料來產(chǎn)生金屬蒸汽,然后將金屬蒸汽冷凝在晶圓表面上的過程。應(yīng)用材料公司在 PVD 技術(shù)開發(fā)方面擁有 25 年以上的豐...
早先對于晶圓表面金屬的濃度檢測需求為1010atoms/cm2,隨著工藝演進,偵測極限已降至108 atoms/cm2,可以滿足此分析需求的技術(shù)以全反射...
2023-05-24 標(biāo)簽:晶圓反應(yīng)器半導(dǎo)體工藝 4616 0
SiC,作為發(fā)展最成熟的寬禁帶半導(dǎo)體材料之一,具有禁帶寬度寬、臨界擊穿電場高、熱導(dǎo)率高、電子飽和漂移速度高及抗輻射能力強等特點。
2023-09-28 標(biāo)簽:晶圓場效應(yīng)晶體管肖特基二極管 4615 0
2018年model 3的數(shù)量是按照10多萬的生產(chǎn)量,這個數(shù)據(jù)某種程度上快速在刺激SiC 的MOSFET市場,而接下來高端車型都是往超快充能力的車型即將...
2019-01-18 標(biāo)簽:晶圓產(chǎn)業(yè)鏈sic器件 4614 0
?IBM全球首款2nm芯片制程 IBM 2納米芯片制造技術(shù)要點
IBM Research在其紐約奧爾巴尼技術(shù)中心宣布其突破性的2nm技術(shù)的消息。 據(jù)IBM官方表示,核心指標(biāo)方面,IBM稱該2nm芯片的晶體管密度(MT...
清洗質(zhì)量的好壞將直接影響到器件的成品率、性能和可靠性,國內(nèi)外各大公司、研究機構(gòu)等對清洗工藝的研究從未停止,但一些特殊問題仍未得到徹底解決。
2022-12-08 標(biāo)簽:晶圓半導(dǎo)體制造 4590 0
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