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隨著器件的高集成化,對高質(zhì)量硅晶片的期望。高質(zhì)量晶片是指晶體質(zhì)量、加工質(zhì)量以及表面質(zhì)量優(yōu)異的晶片。此外,芯片尺寸的擴大、制造成本的增加等問題受到重視,近...
基于RCA清洗系統(tǒng)的熱模型以及清洗液的溫度控制法
在半導體制造工序的硅晶圓的清洗中,RCA清洗法被很多企業(yè)使用。RCA清洗方法是清洗硅片的行業(yè)標準方法,其中清洗溶液的溫度控制對于穩(wěn)定的清洗性能很重要,但...
2022-04-15 標簽:清洗 1392 0
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