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標(biāo)簽 > euv光刻機(jī)
極紫外線光刻機(jī)是芯片生產(chǎn)工具,是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備,對(duì)芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓,只能用EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。2018年4月,中芯國(guó)際向阿斯麥下單了一臺(tái)EUV(極紫外線)光刻機(jī),于2019年初交貨。
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Aston 過(guò)程質(zhì)譜應(yīng)用于 EUV 極紫外光源鹵化錫原位定量
上海伯東日本 Atonarp Aston? 過(guò)程質(zhì)譜分析儀通過(guò)快速, 可操作, 高靈敏度的分子診斷數(shù)據(jù)實(shí)現(xiàn)了更佳的反射板鍍錫層清潔, 并且 Aston?...
2023-06-20 標(biāo)簽:晶圓EUVEUV光刻機(jī) 761 0
淺談EUV光刻的基礎(chǔ)知識(shí) EUV光刻如何制造芯片?
大多數(shù)人沒(méi)有意識(shí)到芯片制造是國(guó)家經(jīng)濟(jì)的核心。通過(guò)閱讀您的書(shū),EUV 的開(kāi)發(fā)過(guò)程始于美國(guó)的英特爾,然后完全脫離了英特爾。一家荷蘭公司如何擁有這項(xiàng)關(guān)鍵的芯片...
2023-02-15 標(biāo)簽:臺(tái)積電芯片制造EUV光刻機(jī) 1230 0
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/周凱揚(yáng))作為目前最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造設(shè)備,EUV光刻機(jī)的誕生是由各個(gè)部件在技術(shù)上的集體突破才最終成型的,比如光刻膠、掩膜板和鏡組...
2023-02-13 標(biāo)簽:光源EUVEUV光刻機(jī) 5216 0
不太可能全面禁止DUV設(shè)備銷往大陸,過(guò)度打壓適得其反
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/吳子鵬)根據(jù)日本媒體的最新報(bào)道,自2022年10月份以來(lái),日本半導(dǎo)體設(shè)備的銷量已經(jīng)持續(xù)下滑。日本半導(dǎo)體設(shè)備協(xié)會(huì)(SEAJ)的統(tǒng)計(jì)數(shù)...
2023-02-05 標(biāo)簽:EUV光刻機(jī) 1914 0
掩模版的缺陷的光學(xué)檢測(cè)極為困難。通常,光學(xué)檢測(cè)可以獲得表面缺陷和相缺陷引起的所有轉(zhuǎn)印缺陷,但是由于 EUV 的多層掩模結(jié)構(gòu),使得這些缺陷被埋在多層薄膜的下面。
2022-10-24 標(biāo)簽:極紫外光刻EUV光刻機(jī) 7557 0
Zyvex Labs如何實(shí)現(xiàn)0.768nm分辨率
技術(shù)更先進(jìn),還能更快交付?于是一時(shí)間流言四起,有說(shuō)“EUV光刻機(jī)已落后”的,也有說(shuō)“我們差距又拉開(kāi)了”。所以這家名不見(jiàn)經(jīng)傳的公司做的產(chǎn)品到底怎樣?真的繞...
2022-09-27 標(biāo)簽:分辨率光學(xué)系統(tǒng)EUV光刻機(jī) 1128 0
傳臺(tái)積電關(guān)閉4臺(tái)EUV光刻機(jī)以減少產(chǎn)出!
聯(lián)發(fā)科、AMD、高通、英偉達(dá)合計(jì)占臺(tái)積電營(yíng)收比重逾三成。近期,臺(tái)積電這四大客戶陸續(xù)對(duì)外釋出相對(duì)保守的信息,比如聯(lián)發(fā)科調(diào)降年度營(yíng)收增幅展望,英偉達(dá)更高喊“...
2022-09-08 標(biāo)簽:臺(tái)積電EUV光刻機(jī) 2190 0
EUV 光刻技術(shù)被視為先進(jìn)半導(dǎo)體制造的最大瓶頸,但這些價(jià)值超過(guò) 1.5 億美元的工具是沒(méi)有光掩模的paperweights。一個(gè)恰當(dāng)?shù)谋扔魇牵庋谀?梢?..
對(duì)于如今的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)而言,EUV光刻機(jī)是打造下一代邏輯和DRAM工藝技術(shù)的關(guān)鍵所在,為了在未來(lái)的工藝軍備競(jìng)賽中保持優(yōu)勢(shì),臺(tái)積電、三星和英特爾等廠商紛紛花...
2022-07-22 標(biāo)簽:半導(dǎo)體EUV光刻機(jī) 3115 0
euv光刻機(jī)出現(xiàn)時(shí)間 ASML研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)
EUV光刻機(jī)是在2018年開(kāi)始出現(xiàn),并在2019年開(kāi)始大量交付,而臺(tái)積電也是在2019年推出了7nm EUV工藝。
2022-07-07 標(biāo)簽:光刻機(jī)ASMLEUV光刻機(jī) 5083 0
中國(guó)euv光刻機(jī)三大突破 光刻機(jī)的三個(gè)系統(tǒng)
如今世界最先進(jìn)的EUV光刻機(jī),只有asml一家公司可以制造出來(lái)。
2022-07-06 標(biāo)簽:光刻機(jī)EUV光刻機(jī) 5.2萬(wàn) 1
光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī)。
2022-07-06 標(biāo)簽:光刻機(jī)EUV光刻機(jī) 8046 0
SK海力士CEO回應(yīng)EUV光刻機(jī)不被允許發(fā)往無(wú)錫廠
近日,SK海力士公司CEO近期表示SK海力士將計(jì)劃升級(jí)中國(guó)無(wú)錫工廠的大規(guī)模生產(chǎn)設(shè)施,應(yīng)對(duì)美中貿(mào)易緊張局勢(shì)以便更有效地生產(chǎn)內(nèi)存芯片,但是這一舉動(dòng)則遭到了美...
2021-11-24 標(biāo)簽:芯片SK海力士EUV光刻機(jī) 2314 0
美國(guó)反對(duì)EUV光刻機(jī)引入中國(guó),SK海力士CEO回應(yīng)
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/李彎彎)據(jù)外媒報(bào)道,SK海力士希望在中國(guó)工廠無(wú)錫使用EUV光刻機(jī),提高存儲(chǔ)芯片的生產(chǎn)效率,然而該工廠升級(jí)改造計(jì)劃卻遇到極大阻礙,因...
2021-11-24 標(biāo)簽:SK海力士ASMLEUV光刻機(jī) 5248 0
EUV光刻機(jī)出貨過(guò)半 國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備發(fā)展提速
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/李彎彎)半導(dǎo)體設(shè)備廠商目前的銷售情況如何?今年以來(lái),芯片產(chǎn)能不足之下全球各地加快建廠擴(kuò)產(chǎn),這帶動(dòng)半導(dǎo)體設(shè)備廠商銷售持續(xù)高增長(zhǎng)。近日...
2021-10-27 標(biāo)簽:半導(dǎo)體ASMLEUV光刻機(jī) 3595 0
沒(méi)有任何一個(gè)國(guó)家的人比中國(guó)人更想造出頂級(jí)光刻機(jī)。網(wǎng)友甚至表示,只要造出光刻機(jī),無(wú)論一個(gè)人做錯(cuò)了什么都可以原諒。
2021-08-26 標(biāo)簽:光刻機(jī)ASMLEUV光刻機(jī) 6.2萬(wàn) 0
EUV 產(chǎn)量到位了,是不是也該考慮良率了? ? 在當(dāng)前的半導(dǎo)體制程不斷往7nm以下發(fā)展時(shí),EUV光刻機(jī)就成了IDM和代工廠必不可少的工具之一。隨著臺(tái)積電...
2021-07-22 標(biāo)簽:三星電子光刻機(jī)EUV光刻機(jī) 7252 0
在科技行業(yè),在硬件方面最受關(guān)注的公司是英偉達(dá)、蘋(píng)果、高通和AMD等芯片公司,或英特爾、三星和臺(tái)積電這些芯片制造公司。雖然半導(dǎo)體制造設(shè)備的供應(yīng)商鮮為人知,...
現(xiàn)如今,一個(gè)小小的芯片,成為了大家茶余飯后的談資,而在這小小的芯片之后呢,卻是體現(xiàn)出了我們現(xiàn)在的技術(shù)差距。 雖然國(guó)內(nèi)是最大的芯片消耗地,但是我國(guó)內(nèi)部的芯...
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