全球最大的半導(dǎo)體制造設(shè)備供應(yīng)商荷蘭ASML今天披露說，他們將按計劃在2015年提供450毫米晶圓制造設(shè)備的原型，Intel、三星電子、臺積電等預(yù)計將在2018年實現(xiàn)450毫米晶圓的商業(yè)性量產(chǎn)，與此同時，極紫外（EUV）光刻設(shè)備也進(jìn)展順利，將在今年交付兩套新的系統(tǒng)。
2013-04-21 09:42:14
1660 極紫外 (EUV) 光刻系統(tǒng)是當(dāng)今使用的最先進(jìn)的光刻系統(tǒng)。本文將介紹這項重要但復(fù)雜的技術(shù)。
2023-06-06 11:23:541996 
紫外發(fā)光二極管是指可發(fā)出波長約400nm的近紫外光的發(fā)光二極管（led）。
2024-02-26 16:03:2925342 
一、2021年的交付量將是2019年的兩倍左右 據(jù)國外媒體報道，在推出兩代極紫外光刻機之后，阿斯麥公司又已在研發(fā)下一代極紫外光刻機，計劃2022年年初開始出貨。 阿斯麥?zhǔn)窃?019年的年報中，披露
2020-03-18 09:16:393308 ，光源是ArF（氟化氬）準(zhǔn)分子激光器，從45nm到10/7nm工藝都可以使用這種光刻機，但是到了7nm這個節(jié)點已經(jīng)的DUV光刻的極限，所以Intel、三星和臺積電都會在7nm這個節(jié)點引入極紫外光（EUV
2020-07-07 14:22:55
SU-8光刻膠 SU-8光刻膠克服了普通光刻膠采用UV光刻深寬比不足的問題，在近紫外光（365nm-400nm）范圍內(nèi)光吸收度很低，且整個光刻膠層所獲得的曝光量均勻一致，可得到具有垂直側(cè)壁和高深寬比
2018-07-12 11:57:08
`紫外線，簡稱UV，它對人們既有有利的方面，又有有害的方面，優(yōu)點是殺菌促進(jìn)骨骼發(fā)育，但是長時間接觸會使皮膚老化產(chǎn)生斑點皮膚炎乃至皮膚癌、促進(jìn)白內(nèi)障?！ ?b class="flag-6" style="color: red">紫外線照射到織物上，一部分被吸收，一部分被反射
2017-11-29 17:02:53
紫外光耐氣候試驗箱主要是用于橡膠等材料的老化試驗，采用了陽光中的紫外線輻射，來對試驗材料進(jìn)行老化試驗，結(jié)合模擬溫度、濕度、凝露模擬氣候條件，對試驗材料進(jìn)行綜合性老化試驗。一般情況下，發(fā)生老化的試驗
2017-09-07 15:07:23
`有時自己做一些PCB，閑來無事，利用紫外光LED和一個網(wǎng)購定時模塊制作了一個曝光箱，還沒進(jìn)行PCB實操，放一個變色鏡在上面，十幾秒就變色，上圖`
2018-01-30 14:47:54
本文介紹了一種基于AMBE-2000的紫外光語音系統(tǒng)設(shè)計。實驗證明，紫外光語音通信系統(tǒng)具有低竊聽率、低位辨率、全方位、高抗干擾能力、音質(zhì)優(yōu)、功耗低等特點。
2021-03-31 06:04:34
原文來源：如何對紫外光老化試驗箱的維護(hù)保養(yǎng)工作小編：林頻儀器 為了使紫外光老化試驗箱能過能好的工作，所以我們平時一定要對其進(jìn)行定期的維護(hù)和保養(yǎng)，這樣才能讓它一直處于良好的工作狀態(tài)，那我們在平時
2016-09-05 15:05:57
【作者】：呂鵬;劉春芳;張潮海;趙永蓬;王騏;賈興;【來源】：《強激光與粒子束》2010年02期【摘要】：描述了Z箍縮放電等離子體極紫外光源系統(tǒng)中的主脈沖電源,給出了主電路拓?fù)浣Y(jié)構(gòu),重點介紹了三級磁
2010-04-22 11:41:29
紫外光通信系統(tǒng)是一種新型的通信手段，與常規(guī)的通信系統(tǒng)相比，有很多優(yōu)勢。由于紫外線主要以散射方式傳播，并且傳播路徑有限，采用紫外光通信系統(tǒng)具有一定的繞過障礙物的能力，非常適用于近距離抗干擾的通信環(huán)境
2019-06-18 08:00:06
紫外光老化試驗是電子元器件，織物制品常見的測試試驗，用于測試電子元器件，織物制品抵抗紫外光性能。紫外光老化試驗箱是一種模擬太陽光照的光老化試驗設(shè)備，它主要模擬陽光中的紫外光。同時它還可以再現(xiàn)雨水
2017-10-11 15:40:19
紫外光由于具有口盲特點而使其在通信方面有著特殊的的必要性及優(yōu)越性，紫外光的調(diào)制與接收是紫外光通信和其他常用通信方式的主要區(qū)別點；介紹了，紫外光通信系統(tǒng)的構(gòu)成原
2009-07-16 10:02:36
34 本文介紹了紫外通信系統(tǒng)中的視頻傳輸領(lǐng)域，詳細(xì)介紹了國內(nèi)外紫外光通信的發(fā)展形勢，以及紫外光視頻傳輸中遇到的問題和解決方案?；赥I 生產(chǎn)的DM6437 開發(fā)板，使用H.264 作為
2009-12-18 17:18:0621 紫外光通信系統(tǒng)由于其特殊的波段范圍和特殊的運用方向而受到了廣泛的重視。文章主要介紹了紫外光通信的原理，以及G.729編解碼標(biāo)準(zhǔn)算法在DM6437 DSP開發(fā)板上實現(xiàn)的軟硬件設(shè)計
2009-12-19 16:31:4610 描述了Ｚ箍縮放電等離子體極紫外光源系統(tǒng)中的主脈沖電源，給出了主電路拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)，重點介紹了三級磁脈沖壓縮網(wǎng)絡(luò)，給出了關(guān)鍵參數(shù)的設(shè)計計算，并且介紹了新穎的末級磁脈沖
2010-03-05 14:13:3829 紫外光通信系統(tǒng)由于其特殊的波段范圍和特殊的運用方向而受到了廣泛的重視。文章主要介紹了紫外光通信的原理,以及G.729編解碼標(biāo)準(zhǔn)算法在DM6437 DSP開發(fā)板上實現(xiàn)的軟硬件設(shè)計方法,
2010-07-17 17:41:149 新式半導(dǎo)體光刻技術(shù)中，極紫外光刻(EUV)被認(rèn)為是最有前途的方法之一，不過其實現(xiàn)難度也相當(dāng)高，從上世紀(jì)八十年代開始探尋至今已經(jīng)將近三十年， 仍然未能投入實用。極紫外光
2010-06-17 17:27:381823 介紹了紫外 光通信 特點和信道模型，以LED為光源、光電倍增管為光接收器設(shè)計無線紫外光數(shù)字通信系統(tǒng)方案，研制了無線紫外光通信設(shè)備樣機，在不同條件下進(jìn)行實驗。實驗結(jié)果表明
2011-06-08 15:01:1851 介紹了國內(nèi)外紫外光通信系統(tǒng)幾種紫外光源的發(fā)展,并從光譜特點、功率、效率等方面分析了其在紫外光通信中的應(yīng)用特點。指出了紫外發(fā)光二極管(UVED)決定了未來紫外光通信高速、小型
2011-10-17 17:02:1048 最新半導(dǎo)體與電子元器件全球授權(quán)分銷商貿(mào)澤電子（Mouser Electronics） ，即日起開始分銷Vishay Intertechnology的VEML6070紫外光傳感器。VEML6070為一款先進(jìn)的CMOS紫外（UV）光傳感器，具備I2C協(xié)議接口和高動態(tài)檢測精度。
2015-07-08 15:18:432512 針對紫外光通信做了相應(yīng)研究，希望廣大研究愛好者能夠有所幫助
2016-03-11 10:33:095 盡管所花的時間與成本幾乎比所有人預(yù)期得要多，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)終于還是快要盼到極紫外光(extreme ultraviolet，EUV)微影技術(shù)的大量生產(chǎn)──在近日于美國舊金山舉行的2017年度
2018-06-10 01:39:003719 ? 前些天，新聞曝光的中芯國際花了1．2億美元從荷蘭ASML買來一臺EUV極紫外光刻機，未來可用于生產(chǎn)7nm工藝芯片，而根據(jù)最新消息稱，長江存儲也迎來了自己的第一臺光刻機，國產(chǎn)SSD固態(tài)硬盤將迎來重大突破。
2018-06-29 11:24:0010089 納米電子與數(shù)字技術(shù)研發(fā)創(chuàng)新中心 IMEC 與美國楷登電子( Cadence) 公司聯(lián)合宣布，得益于雙方的長期深入合作，業(yè)界首款 3nm 測試芯片成功流片。該項目采用極紫外光刻(EUV)技術(shù)。
2018-03-19 15:08:308957 臺積電為防堵強敵三星在七納米導(dǎo)入極紫外光（EUV）及后段先進(jìn)封裝，搶食蘋果新一代處理器訂單，已加速在七納米強化版導(dǎo)入極紫外光時程。供應(yīng)鏈透露，臺積電可望年底建構(gòu)七納米強化版試產(chǎn)線，進(jìn)度追平或超前三星，讓三星無奪蘋機會。
2018-04-08 11:22:001157 紫外光通信系統(tǒng)是一種新型的通信手段，與常規(guī)的通信系統(tǒng)相比，有很多優(yōu)勢。由于紫外線主要以散射方式傳播，并且傳播路徑有限，采用紫外光通信系統(tǒng)具有一定的繞過障礙物的能力，非常適用于近距離抗干擾的通信環(huán)境。
2018-07-17 15:34:2814809 今年4月開始，臺積電第一代7nm工藝(CLN7FF/N7)投入量產(chǎn)，蘋果A12、華為麒麟980、高通“驍龍855”、AMD下代銳龍/霄龍等處理器都正在或?qū)褂盟圃欤栽谑褂脗鹘y(tǒng)的深紫外光刻(DUV)技術(shù)。
2018-10-17 15:44:565426 本文檔的主要內(nèi)容詳細(xì)介紹的是紫外光電管的原理圖詳細(xì)資料免費下載。
2018-10-18 08:00:0020 1、起始電壓：在一定強度的紫外光照射下，紫外光電管開始導(dǎo)通所需要施加的最低電壓。2、靈敏度（計數(shù)率）：在規(guī)定的工作電壓和一定強度的紫外光照射下，光電管每秒鐘導(dǎo)通的次數(shù)。 （三段測試電壓）
2018-11-30 08:00:002 極紫外光刻時代的大幕已拉開……
2019-02-27 13:41:11881 臺積電官方宣布，已經(jīng)開始批量生產(chǎn)7nm N7+工藝，這是臺積電第一次、也是行業(yè)第一次量產(chǎn)EUV極紫外光刻技術(shù)，意義非凡，也領(lǐng)先Intel、三星一大步。
2019-05-28 11:20:413960 臺積電官方宣布，已經(jīng)開始批量生產(chǎn)7nm N7+工藝，這是臺積電第一次、也是行業(yè)第一次量產(chǎn)EUV極紫外光刻技術(shù)，意義非凡。
2019-05-28 16:18:244210 本文檔的主要內(nèi)容詳細(xì)介紹的是紫外光電管測試電路原理圖免費下載。
2019-06-19 08:00:0014 工采網(wǎng)從國外進(jìn)口的紫外光電二極管 - SG01D-5LENS，SiC具有獨特的特性，能承受高強度的輻射，對可見光幾乎不敏感，產(chǎn)生的暗電流低，響應(yīng)速度快和噪音低。這些特性使SiC成為可見盲區(qū)半導(dǎo)體紫外
2019-07-18 11:34:314025 
紫外發(fā)光二極管是指可發(fā)出波長約400nm的近紫外光的發(fā)光二極管（LED）。紫外光通常是用作識別鈔票是否偽造，一些紫外發(fā)光二極管照明物在夜總會和派對上很受歡迎，它們被用來使熒光物質(zhì)發(fā)出更亮的光。
2020-01-15 10:52:523705 
三星宣布，位于韓國京畿道華城市的V1工廠已經(jīng)開始量產(chǎn)7nm 7LPP、6nm 6LPP工藝，這也是全球第一座專門為EUV極紫外光刻工藝打造的代工廠。
2020-02-21 16:19:052868 據(jù)國外媒體報道，在芯片的制造過程中，光刻機是必不可少的設(shè)備，在芯片工藝提升到7nm EUV、5nm之后，極紫外光刻機也就至關(guān)重要。
2020-03-07 10:50:592349 據(jù)國外媒體報道，在芯片的制造過程中，光刻機是必不可少的設(shè)備，在芯片工藝提升到7nm EUV、5nm之后，極紫外光刻機也就至關(guān)重要。
2020-03-07 14:39:545816 紫外光手持治療光棒主要由光源系統(tǒng),控制電路組成.UVB（TL01）輻射燈管的紫外線光譜波長應(yīng)在310nm~315nm范圍內(nèi),最大峰值在310nm~314nm;PUVA輻射燈管的紫外光光譜波長應(yīng)在
2020-03-21 10:49:022797 據(jù)國外媒體報道，半導(dǎo)體行業(yè)光刻系統(tǒng)供應(yīng)商ASML（阿斯麥）去年交付了26臺極紫外光刻機（EUV），調(diào)查公司Omdia表示，其中約一半面向大客戶臺積電。ASML此前公布，2019年，共向客戶交付了26
2020-04-09 11:20:062845 對于芯片制造廠商來說，光刻機的重要性不言而喻，尤其是目前芯片制造工藝已經(jīng)提升至5nm和3nm之后，極紫外光刻機就顯得更為重要。而ASML作為全球唯一有能力制造極紫外光刻機的廠商，他的一舉一動，牽動著所有相關(guān)產(chǎn)業(yè)上下游廠商的心。
2020-04-15 09:27:562282 對于芯片制造廠商來說，光刻機的重要性不言而喻，尤其是目前芯片制造工藝已經(jīng)提升至5nm和3nm之后，極紫外光刻機就顯得更為重要。而ASML作為全球唯一有能力制造極紫外光刻機的廠商，他的一舉一動，牽動著所有相關(guān)產(chǎn)業(yè)上下游廠商的心。
2020-04-15 15:44:364637 4月17日消息，據(jù)國外媒體報道，在智能手機等高端設(shè)備芯片的工藝提升到5nm之后，能生產(chǎn)5nm芯片的極紫外光刻機就顯得異常重要，而作為目前全球唯一能生產(chǎn)極紫外光刻機的廠商，阿斯麥的供應(yīng)量直接決定了各大芯片制造商5nm芯片的產(chǎn)能。
2020-04-18 09:09:433946 頂級光刻機有多難搞？ASML的光刻機，光一個零件他就調(diào)整了10年！拿荷蘭最新極紫外光EUV光刻機舉例，其內(nèi)部精密零件多達(dá)10萬個，比汽車零件精細(xì)數(shù)十倍！
2020-07-02 09:38:3912919 紫外光通信系統(tǒng)是一種新型的通信手段，與常規(guī)的通信系統(tǒng)相比，有很多優(yōu)勢。由于紫外線主要以散射方式傳播，并且傳播路徑有限，采用紫外光通信系統(tǒng)具有一定的繞過障礙物的能力，非常適用于近距離抗干擾的通信環(huán)境
2020-12-28 10:27:005 荷蘭阿斯麥（ASML）公司的光刻機作為世界上最貴最精密的儀器，相信大家都有耳聞，它是加工芯片的設(shè)備。其最先進(jìn)的EUV（極紫外光）光刻機已經(jīng)能夠制造7nm以下制程的芯片，據(jù)說一套最先進(jìn)的7納米EUV
2020-10-15 09:20:055352 據(jù)國外媒體報道，已經(jīng)推出了兩款極紫外光刻機的阿斯麥，正在研發(fā)第三款，計劃在明年年中開始出貨。
2020-10-15 16:14:112148 日前三星電子副董事長李在镕前往荷蘭拜訪光刻機大廠ASML，其目的就是希望ASML 的高層能答應(yīng)提早交付三星已經(jīng)同意購買的極紫外光光刻設(shè)備（EUV）。
2020-10-24 09:39:062041 中國需要光刻機，尤其是支持先進(jìn)制程的高端光刻機。具體來說，就是 EUV （極紫外光源）光刻機。
2020-11-11 10:13:305279 
在5nm、6nm工藝大規(guī)模投產(chǎn)、第二代5nm工藝即將投產(chǎn)的情況下，芯片代工商臺積電對極紫外光刻機的需求也明顯增加。而外媒最新援引產(chǎn)業(yè)鏈消息人士的透露報道稱，臺積電已向阿斯麥下達(dá)了2021的極紫外光刻
2020-11-17 17:20:142373 員廣泛應(yīng)用，但是市場對于塑料、油漆、印刷油墨和染料等產(chǎn)品的檢測需求日益增加，而這些產(chǎn)品檢測更適合采用紫外（UV）照明。過去，這些產(chǎn)品的檢測受到了紫外光源成本過高的限制。然而，隨著低成本紫外LED照明的出現(xiàn)，這些應(yīng)用正變得越來越便宜。 紫外
2020-11-19 14:34:194068 近日，據(jù)外媒報道，在芯片制程工藝方面一直落后于臺積電的三星電子，目前正在尋求加強與極紫外光刻機供應(yīng)商ASML的合作，以加速5nm和3nm制程的研發(fā)。
2020-11-24 14:54:522593 12月2日消息，據(jù)國外媒體報道，全球第一大芯片代工商臺積電，能夠獲得大量的芯片代工訂單，除了領(lǐng)先的制程工藝，還得益于阿斯麥所供應(yīng)的大量先進(jìn)的光刻機，在第二代7nm和5nm所需要的極紫外光刻機方面，尤其如此，他們獲得的極紫外光刻機的數(shù)量，遠(yuǎn)多于三星。
2020-12-02 10:21:091303 特別是，韓國公司正在迅速縮小其在極紫外光刻技術(shù)上與外國公司的差距。2019年，韓國本土提出的專利申請數(shù)量為40件，超過了國外企業(yè)的10件。這是韓國提交的專利申請首次超過國外。2020年，韓國提交的申請數(shù)量也是國外的兩倍多。
2020-12-11 13:40:541972 ， ArF 準(zhǔn)分子激光：193 nm
極紫外光（EUV），10 ～ 15 nm
對光源系統(tǒng)的要求：
a．有適當(dāng)?shù)牟ㄩL。波長越短，可曝光的特征尺寸就越小；［波長越短，就表示光刻的刀鋒越鋒利
2020-12-28 14:17:153559 , ArF 準(zhǔn)分子激光：193 nm
極紫外光（EUV），10 ~ 15 nm
對光源系統(tǒng)的要求:
a.有適當(dāng)?shù)牟ㄩL。波長越短，可曝光的特征尺寸就越?。籟波長越短，就表示光刻的刀鋒越鋒利
2020-12-29 09:14:542925
對于阿斯麥（ASML）來說，他們正在研發(fā)更先進(jìn)的***，這也是推動芯片工藝?yán)^續(xù)前行的重要動力。
ASML是全球目前唯一能制造極紫外***的廠商，其在推出TWINSCAN NXE:3400B
2020-12-29 11:00:102186
對于阿斯麥（ASML）來說，他們正在研發(fā)更先進(jìn)的***，這也是推動芯片工藝?yán)^續(xù)前行的重要動力。
ASML是全球目前唯一能制造極紫外***的廠商，其在推出TWINSCAN NXE:3400B
2020-12-29 11:06:572977 據(jù)國外媒體報道，臺積電和三星電子的芯片制程工藝，均已提升到了 5nm，更先進(jìn)的工藝研發(fā)也在推進(jìn)，并在謀劃量產(chǎn)事宜。 在制程工藝提升到 5nm 之后，也就意味著臺積電、三星等廠商，對極紫外光刻機的需求
2021-01-25 17:10:181914 ，對極紫外光刻機的需求會不斷增加，而全球目前唯一能生產(chǎn)極紫外光刻機廠商的阿斯麥，也就大量供應(yīng)極紫外光刻機。 英文媒體在最新的報道中表示，在芯片制程工藝方面走在行業(yè)前列的臺積電，在今年預(yù)計可獲得 18 臺極紫外光刻機，三星和英特爾也將
2021-01-25 17:21:544030 如今全球芯片短缺，不僅僅已經(jīng)嚴(yán)重營銷到了科技數(shù)碼產(chǎn)業(yè)，就連汽車產(chǎn)業(yè)也深受其害。為了滿足2021年的需求激增，目前有國外媒體稱臺積電一口氣向荷蘭ASML下達(dá)了18臺最先進(jìn)的極紫外光刻機需求，如此之大的需求令可以說是史上的天量，三星英特爾急了。
2021-01-26 09:22:051640 對于臺積電來說，他們今年依然會狂購極紫外光刻，用最先進(jìn)的工藝來確保自己處于競爭的最有力地位。
2021-01-26 11:21:511678 如今全球芯片短缺，不僅僅已經(jīng)嚴(yán)重營銷到了科技數(shù)碼產(chǎn)業(yè)，就連汽車產(chǎn)業(yè)也深受其害。 為了滿足2021年的需求激增，目前有國外媒體稱臺積電一口氣向荷蘭ASML下達(dá)了18臺最先進(jìn)的極紫外光刻機需求，如此之
2021-01-27 09:56:083611 近日，荷蘭的光刻機制造商阿斯麥（ASML）發(fā)布2020年度財報，全年凈銷售額達(dá)到140億歐元，毛利率達(dá)到48.6%。ASML同時宣布實現(xiàn)第100套極紫外光刻（EUV）系統(tǒng)的出貨，至2020年年底已有
2021-02-01 09:30:233645 2月2日消息，據(jù)國外媒體報道，臺積電和三星電子，從阿斯麥購買了大量的極紫外光刻機，用于為蘋果、高通等客戶代工最新的智能手機處理器。 而從外媒的報道來看，除了臺積電和三星，存儲芯片制造商SK海力士，也
2021-02-02 18:08:483347 2月25日消息，據(jù)國外媒體報道，芯片制程工藝提升至5nm的臺積電和三星，已從阿斯麥購買了大量的極紫外光刻機，并且還在大量購買。
2021-02-26 09:22:012149 眾所周知，想要在芯片領(lǐng)域打破由歐美國家所壟斷的市場，必須要解決光刻機的問題，這是傳統(tǒng)硅基芯片制造過程中最為重要的一環(huán)。而在光刻機領(lǐng)域，荷蘭的ASML則是光刻機領(lǐng)域金字塔最頂尖的企業(yè)，尤其是在極紫外光領(lǐng)域
2021-04-16 14:31:125274 
UV4000紫外光耐氣候試驗箱主要用于模擬對陽光、潮濕和溫度對材料的破壞作用;材料老化包括褪色、失光、強度降低、開裂、剝落、粉化和氧化等。紫外光耐氣候試驗箱通過模擬陽光、冷凝、模仿自然潮濕，試樣在
2021-06-02 15:22:051003 美國媒體7月19日報道，美國政府正在努力阻止荷蘭ASML EUV光刻機（極紫外光刻機）進(jìn)入中國大陸。 報道稱，中國政府此前與荷蘭政府協(xié)商，要求允許中國公司購買ASML生產(chǎn)的EUV光刻機設(shè)備（極紫外光刻
2021-07-21 16:52:252514 美國華爾街日報7月19日報道，美國政府正在努力阻止荷蘭ASML EUV光刻機（極紫外光刻機）進(jìn)入中國大陸。 華爾街日報報道稱，中國政府此前與荷蘭政府協(xié)商，要求允許中國公司購買ASML生產(chǎn)的EUV
2021-07-25 17:35:153479 紫外光通信是以大氣分子和子溶膠粒子的散射和吸收為基礎(chǔ)的。紫外光通信基于兩個相互關(guān)聯(lián)的物理現(xiàn)象：一是大氣層中的臭氧對波長在200nm到280nm之間的紫外光有強烈的吸收作用，這個區(qū)域被叫做日盲區(qū)
2022-03-18 10:11:036836 三星電子和ASML就引進(jìn)今年生產(chǎn)的EUV光刻機和明年推出高數(shù)值孔徑極紫外光High-NA EUV光刻機達(dá)成采購協(xié)議。
2022-07-05 15:26:156764 目前，光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù)，EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。EUV為先進(jìn)工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1087066 低壓紫外汞燈發(fā)射的雙波段短波紫外光照射到試件表面后，與有機污染物發(fā)生光敏氧化作用,不僅能去除污染物而且能改善表面的性能，從而提高物體表面的浸潤性和粘合強度，或者使材料表面得到穩(wěn)定的表面性能。根據(jù)
2022-08-18 16:16:302892 
EUV 光刻是以波長為 10-14nm 的極紫外光作為光源的芯片光刻技術(shù)，簡單來說，就是以極紫外光作“刀”，對芯片上的晶圓進(jìn)行雕刻，讓芯片上的電路變成人們想要的圖案。
2022-10-10 11:15:027389 熱點新聞 1、 ASML 阿斯麥 CEO 透露高數(shù)值孔徑極紫外光刻機 2024?年開始出貨 據(jù)國外媒體報道，光刻機制造商阿斯麥的 CEO 兼總裁彼得?維尼克 (Peter Wennink)，在本周
2022-11-18 19:00:034892 科學(xué)家利用選擇性紫外光刻實現(xiàn)復(fù)合纖維材料的光纖微圖案化
2022-12-22 14:58:13761 
DUV是深紫外線（Deep Ultraviolet Lithography），EUV是極深紫外線（Extreme Ultraviolet Lithography）。前者采用極紫外光刻技術(shù)，后者采用深紫外光刻技術(shù)。
2023-03-20 14:23:2413751 極紫外光刻的制約因素
耗電量高極紫外線波長更短，但易被吸收，可利用率極低，需要光源提供足夠大的功率。如ASML 3400B光刻機，250W的功率，每天耗電達(dá)到三萬度。
生產(chǎn)效率仍不
2023-06-08 15:56:421359 
MODEL：XT-01-UVlitho-手動版一、產(chǎn)品簡介光刻技術(shù)是現(xiàn)代半導(dǎo)體、微電子、信息產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)，是集成電路最重要的加工工藝。光刻膠在紫外光的照射下發(fā)生化學(xué)變化，通過曝光、顯影、刻蝕等工藝過程
2022-12-20 09:24:263273 
，半導(dǎo)體制造領(lǐng)域使用 傳統(tǒng)大功率汞燈技術(shù) 用于光刻設(shè)備的紫外光源。這種光源雖然輸出功率高，但輸出光譜范圍寬，制造和生產(chǎn)過程中會產(chǎn)生對環(huán)境有害的物質(zhì)，并且工作壽命短，更換周期頻繁。 UVLED 具有獨特的技術(shù)優(yōu)勢和成本優(yōu)勢，能夠輸
2023-07-05 10:11:242795 
。照明系統(tǒng)是光刻機的重要組成部分，其主要作用是提供高均勻性照明、控制曝光劑量和實現(xiàn)離軸照明，以提高光刻分辨率和增大焦深。論文以深紫外光刻照明系統(tǒng)光學(xué)設(shè)計為研究方向，對照明系統(tǒng)關(guān)鍵單元進(jìn)行了光學(xué)設(shè)計與仿真研究。
2023-07-17 11:02:381673 
在uvitron，我們直接了解紫外光固化設(shè)備如何成為許多行業(yè)的關(guān)鍵技術(shù)，紫外光固化系統(tǒng)的好處很多，該技術(shù)對許多工業(yè)過程的效率、質(zhì)量和可持續(xù)性產(chǎn)生了重大影響。
2023-07-21 11:42:171123 
EUV掩膜，也稱為EUV掩模或EUV光刻掩膜，對于極紫外光刻（EUVL）這種先進(jìn)光刻技術(shù)至關(guān)重要。EUV光刻是一種先進(jìn)技術(shù)，用于制造具有更小特征尺寸和增強性能的下一代半導(dǎo)體器件。
2023-08-07 15:55:021237 實現(xiàn)深紫外光通信的一個關(guān)鍵器件是深紫外光源。早期深紫外光源利用高壓汞燈實現(xiàn)，但汞燈的調(diào)制帶寬非常小，這嚴(yán)重影響了深紫光通信的傳輸速率。
2023-09-05 11:13:001718 
歐洲極紫外光刻（EUVL）技術(shù)利用波長為13.5納米的光子來制造集成電路。產(chǎn)生這種光的主要來源是使用強大激光器產(chǎn)生的熱錫等離子體。激光參數(shù)被調(diào)整以產(chǎn)生大多數(shù)在13.5納米附近發(fā)射的錫離子（例如Sn10+-Sn15+）。
2023-09-25 11:10:502593 
EUV 光是指用于微芯片光刻的極紫外光，涉及在微芯片晶圓上涂上感光材料并小心地將其曝光。這會將圖案打印到晶圓上，用于微芯片設(shè)計過程中的后續(xù)步驟。
2023-10-30 12:22:555084 紫外光通信系統(tǒng)是一種新型的通信手段，與常規(guī)的通信系統(tǒng)相比，有很多優(yōu)勢。
2023-11-28 09:38:202550 
在面對紫外光子成像技術(shù)時，面臨著諸多挑戰(zhàn)。光子密度大、需要高頻觸發(fā)采集，以及實時計算光子位置進(jìn)行譜圖繪制，這些都對采集設(shè)備的性能提出了極高的要求。
2024-03-20 09:56:071242 
光刻膠按照種類可以分為正性的、負(fù)性的。正膠受到紫外光照射的部分在顯影時被去除，負(fù)膠受到紫外光曝光的地方在顯影后被留下。
2024-04-24 11:37:056635 
近日，日本沖繩科學(xué)技術(shù)大學(xué)院大學(xué)（OIST）發(fā)布了一項重大研究報告，宣布該校成功研發(fā)出一種突破性的極紫外（EUV）光刻技術(shù)。這一創(chuàng)新技術(shù)超越了當(dāng)前半導(dǎo)體制造業(yè)的標(biāo)準(zhǔn)界限，其設(shè)計的光刻設(shè)備能夠采用更小巧的EUV光源，并且功耗僅為傳統(tǒng)EUV光刻機的十分之一，從而實現(xiàn)了能源消耗的顯著降低。
2024-08-03 12:45:362296 自然界中存在多種紫外光譜，人工紫外光源包括氣體放電、超高溫輻射體和半導(dǎo)體光源。常用紫外光源有高壓汞燈、氙燈、氪燈、氘燈、紫外LED和準(zhǔn)分子激光器等，各有特定波長、工作電壓和光功率。
2024-10-25 14:10:261982 芯片制造、價值1.5億美元的極紫外（EUV，https://spectrum.ieee.org/tag/euv）光刻掃描
2025-01-09 11:31:181280 紫外光通信的應(yīng)用場景十分廣泛，它正逐漸滲透到我們生活的各個角落。在軍事領(lǐng)域，紫外光通信可用于戰(zhàn)場短距離保密通信。在戰(zhàn)場上，士兵們可以利用紫外光通信設(shè)備，在不暴露自身位置的情況下，安全地傳遞情報和指令
2025-02-21 13:32:511002 
隨著極紫外光刻（EUV）技術(shù)面臨光源功率和掩模缺陷挑戰(zhàn)，X射線光刻技術(shù)憑借其固有優(yōu)勢，在特定領(lǐng)域正形成差異化競爭格局。
2025-05-09 10:08:491374 
電子發(fā)燒友App
工商網(wǎng)監(jiān)
評論