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新思科技EDA和IP完整解決方案獲臺積公司N3E工藝認證,加速HPC、AI、和移動領域設計

全球TMT ? 來源:全球TMT ? 作者:全球TMT ? 2022-11-08 13:37 ? 次閱讀
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來自業(yè)界領先公司的多個成功流片案例展示了新思科技解決方案強大的可靠性,并為實現流片成功提供了更快路徑

加利福尼亞州山景城2022年11月7日 /美通社/ -- 新思科技(Synopsys, Inc,納斯達克股票代碼:SNPS
)近日宣布,得益于與臺積公司的長期合作,新思科技針對臺積公司N3E工藝技術取得了多項關鍵成就,共同推動先進工藝節(jié)點的持續(xù)創(chuàng)新。新思科技經產品驗證的數字和定制設計流程已在臺積公司N3E工藝上獲得認證。此外,該流程和新思科技廣泛的基礎IP、接口IP組合已經在臺積公司N3E工藝上實現了多項成功流片,助力合作伙伴加速實現流片成功。值得一提的是,雙方在先進工藝方面的合作也延伸到了模擬設計遷移、AI驅動設計和云端物理驗證擴展方面。

臺積公司設計基礎設施管理事業(yè)部負責人Dan
Kochpatcharin表示:"臺積公司與新思科技在推進半導體創(chuàng)新方面的長期合作,持續(xù)解決了新興應用帶來的日益復雜的挑戰(zhàn)。新思科技在臺積公司N3E工藝上實現的EDA和IP的全新成果,為我們的共同客戶提供了強大的解決方案,助力他們滿足創(chuàng)新設計的嚴苛的功耗、性能和面積目標。"

新思科技芯片實現事業(yè)部營銷與戰(zhàn)略副總裁Sanjay
Bali表示:"最近取得的這些成就,標志著新思科技和臺積公司持續(xù)成功合作的又一個重要里程碑。我們針對臺積公司的先進工藝提供經過認證的EDA解決方案和經過硅驗證的IP組合進行了大量的投入,從而為開發(fā)者提供了實現其關鍵設計要求的低風險途徑。"

臺積公司的N3E工藝進一步擴展了其3nm技術,提高了功率、性能和良率,滿足了高性能計算、AI和移動設備等工作負載密集型應用的需求。得益于新思科技
DSO.ai?技術和新思科技Fusion Compiler
在AI驅動芯片設計方面的強大功能,已經有多個經過驗證的N3E測試案例——實現了更好的PPA和更快的設計收斂。除了IP就緒和已認證流程之外,新思科技還與臺積公司密切合作,在
新思科技Cloud"軟件即服務"產品中采用面向N3E工藝的新思科技IC Validator
產品,擴展云端的物理驗證。這項工作展示了如何通過云端的無限CPU算力來實現更快的物理驗證迭代。此外,雙方的協(xié)力合作讓合作伙伴能夠將早期工藝節(jié)點上的現有設計無縫過渡到臺積公司的N3E工藝。

新思科技(Synopsys, Inc.,納斯達克股票代碼:SNPS)是眾多創(chuàng)新型公司的Silicon to
Software?("芯片到軟件")合作伙伴,這些公司致力于開發(fā)我們日常所依賴的電子產品和軟件應用。作為全球第15大軟件公司,新思科技長期以來一直是電子設計自動化(EDA)和半導體IP領域的全球領導者,并且在軟件安全和質量解決方案方面也發(fā)揮著越來越大的領導作用。無論您是先進半導體的片上系統(tǒng)(SoC)開發(fā)者,還是編寫需要最高安全性和質量的應用程序的軟件開發(fā)者,新思科技都能夠提供您所需要的解決方案,幫助您推出創(chuàng)新性、高質量、安全的產品。

審核編輯 黃昊宇

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