年產(chǎn)千噸電子級(jí)光刻膠原材料，微芯新材生產(chǎn)基地簽約湖州
最近，浙江省湖州市南潯區(qū)菱湖半導(dǎo)體新材料產(chǎn)業(yè)園區(qū)簽署了微芯新材料生產(chǎn)基地項(xiàng)目。
湖州國(guó)資消息，寧波微芯新材料科技有限公司的半導(dǎo)體材料生產(chǎn)基地項(xiàng)目總投資3.5億元人民幣，用地35畝，年產(chǎn)1000噸的電子級(jí)光刻膠原材料（光刻膠樹(shù)脂、高等級(jí)單體等核心材料）基地建設(shè)。”全部達(dá)到，預(yù)計(jì)年產(chǎn)值可達(dá)到約5億元。
成立于2018年，寧波微核心新材料技術(shù)有限公司的KrF/ArF高端光刻膠樹(shù)脂、單體的開(kāi)發(fā)，公司必須創(chuàng)始人姚志藝博士采用自主開(kāi)發(fā)的技術(shù)，單體生產(chǎn)產(chǎn)品，純度高，成本低廉，具有綠色環(huán)保的優(yōu)點(diǎn)。該公司去年8月完成了b次融資，并接受了鼎暉百孚和京銘國(guó)鑄投資公司共同發(fā)起的產(chǎn)業(yè)投資基金、龍信投資等多家機(jī)構(gòu)的投資。
聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題，請(qǐng)聯(lián)系本站處理。
舉報(bào)投訴
-
新材料
+關(guān)注
關(guān)注
8文章
417瀏覽量
22255 -
光刻膠
+關(guān)注
關(guān)注
10文章
348瀏覽量
31551 -
原材料
+關(guān)注
關(guān)注
0文章
59瀏覽量
9496
發(fā)布評(píng)論請(qǐng)先 登錄
相關(guān)推薦
熱點(diǎn)推薦
中微公司華南總部研發(fā)及生產(chǎn)基地項(xiàng)目開(kāi)工
日前，中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司（以下簡(jiǎn)稱“中微公司”，股票代碼：688012）今日于廣州市增城經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)隆重舉辦開(kāi)工儀式，宣布其旗下的華南總部研發(fā)及生產(chǎn)基地項(xiàng)目正式開(kāi)工啟動(dòng)。隨著中
光刻膠剝離工藝
光刻膠剝離工藝是半導(dǎo)體制造和微納加工中的關(guān)鍵步驟，其核心目標(biāo)是高效、精準(zhǔn)地去除光刻膠而不損傷基底材料或已形成的結(jié)構(gòu)。以下是該工藝的主要類型及實(shí)施要點(diǎn)：濕法剝離技術(shù)有機(jī)溶劑溶解法原理：使
千噸級(jí)DSBCB樹(shù)脂生產(chǎn)線將投產(chǎn)，我國(guó)高端電子封裝材料實(shí)現(xiàn)自主突破
，這款具有全新結(jié)構(gòu)的純碳?xì)錁?shù)酯，不僅標(biāo)志著我國(guó)在高端電子材料領(lǐng)域的自主創(chuàng)新取得重要進(jìn)展，更將為電子信息、新能源等戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)注入強(qiáng)勁動(dòng)力。 ? 這條超低介電損耗碳?xì)錁?shù)脂（DSBCB）年產(chǎn)
兆威機(jī)電擬投建泰國(guó)生產(chǎn)基地
8月15日，兆威機(jī)電發(fā)布公告，公司董事會(huì)全票通過(guò)《關(guān)于在泰國(guó)投資新建生產(chǎn)基地的議案》，同意公司使用不超過(guò)1億美元在泰國(guó)建設(shè)生產(chǎn)基地，包括設(shè)立公司、基建及購(gòu)建固定資產(chǎn)等，具體投資額以主管部門審批為準(zhǔn)。
從光固化到半導(dǎo)體材料：久日新材的光刻膠國(guó)產(chǎn)替代之路
。 從光固化龍頭到半導(dǎo)體材料新銳 久日新材的戰(zhàn)略轉(zhuǎn)型始于2020年。通過(guò)收購(gòu)大晶信息、大晶新材等企業(yè)，強(qiáng)勢(shì)切入半導(dǎo)體化學(xué)材料賽道。2024年11月，久日新
國(guó)產(chǎn)百噸級(jí)KrF光刻膠樹(shù)脂產(chǎn)線正式投產(chǎn)
“研發(fā)+量產(chǎn)”雙軌并行模式，總產(chǎn)能達(dá)萬(wàn)噸級(jí)，是目前國(guó)內(nèi)規(guī)模領(lǐng)先的KrF光刻膠生產(chǎn)基地。產(chǎn)線集成了高自動(dòng)化控制系統(tǒng)，從原料配比到成品檢測(cè)的全流程實(shí)現(xiàn)智能化管控，不僅大幅提升了生產(chǎn)效率，更
國(guó)產(chǎn)光刻膠突圍，日企壟斷終松動(dòng)
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道 光刻膠作為芯片制造光刻環(huán)節(jié)的核心耗材，尤其高端材料長(zhǎng)期被日美巨頭壟斷，國(guó)外企業(yè)對(duì)原料和配方高度保密，我國(guó)九成以上光刻膠
減少光刻膠剝離工藝對(duì)器件性能影響的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量
干涉儀在光刻圖形測(cè)量中的應(yīng)用。 ? 減少光刻膠剝離工藝對(duì)器件性能影響的方法 ? 優(yōu)化光刻膠材料選擇 ? 選擇與半導(dǎo)體襯底兼容性良好的光刻膠
光刻膠產(chǎn)業(yè)國(guó)內(nèi)發(fā)展現(xiàn)狀
，是指通過(guò)紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X射線等光照或輻射，溶解度會(huì)發(fā)生變化的耐蝕刻薄膜材料，是光刻工藝中的關(guān)鍵材料。 從芯片生產(chǎn)的工藝
光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量
引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域，光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料，其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質(zhì)量。同時(shí)，精準(zhǔn)測(cè)量
光刻膠的類型及特性
光刻膠類型及特性光刻膠（Photoresist），又稱光致抗蝕劑，是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了
匯川技術(shù)年產(chǎn)40萬(wàn)臺(tái)機(jī)器人生產(chǎn)基地投產(chǎn)
近日，匯川技術(shù)南京基地投產(chǎn)暨研發(fā)測(cè)試中心簽約儀式在南京成功舉行。據(jù)了解，該生產(chǎn)基地于2022年6月開(kāi)始動(dòng)工，總投資不超過(guò)16.5億元。（注：投資金額來(lái)自2022年匯川技術(shù)官方信息）
【「芯片通識(shí)課：一本書讀懂芯片技術(shù)」閱讀體驗(yàn)】了解芯片怎樣制造
工藝:光刻膠除膠，蝕刻未被保護(hù)的SiO2，顯影，除膠。 材料:晶圓，研磨拋光材料，光按模板材料。光刻膠，
發(fā)表于 03-27 16:38
半導(dǎo)體材料介紹 | 光刻膠及生產(chǎn)工藝重點(diǎn)企業(yè)
光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過(guò)紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹(shù)脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對(duì)光敏感的混合液
光刻膠成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料
光刻膠是半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域的一種重要材料，在整個(gè)電子元器件加工產(chǎn)業(yè)有著舉足輕重的地位。 它主要由感光樹(shù)脂、增感劑和溶劑等成分組成。其中，感光樹(shù)脂決定了光刻膠的感光度和分辨率等關(guān)鍵性能，增
工商網(wǎng)監(jiān)
評(píng)論