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英特爾與聯(lián)華電子聯(lián)手研發(fā)12nm半導(dǎo)體工藝平臺(tái)

微云疏影 ? 來(lái)源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2024-01-29 14:39 ? 次閱讀
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英特爾與聯(lián)華電子達(dá)成戰(zhàn)略聯(lián)盟,共同研發(fā)供應(yīng)12納米半導(dǎo)體工藝平臺(tái),以滿足高速增長(zhǎng)的移動(dòng)、通信基建和網(wǎng)絡(luò)市場(chǎng)需求。這一長(zhǎng)期協(xié)定結(jié)合了英特爾在美國(guó)的大規(guī)模制造實(shí)力和聯(lián)電在成熟節(jié)點(diǎn)的豐富代工經(jīng)驗(yàn),旨在完善更廣范圍的工藝系列。同時(shí)也為全球顧客在采購(gòu)抉擇時(shí)提供了更多選項(xiàng),實(shí)現(xiàn)供應(yīng)鏈的國(guó)際分布及彈性保障。

英特爾高層Stuart Pann指出,本次戰(zhàn)略合作彰顯了英特爾致力于通過(guò)技術(shù)和制造創(chuàng)新在全球半導(dǎo)體供應(yīng)鏈中的地位,助力實(shí)現(xiàn)其至2030年成為全球最大代工廠的宏偉目標(biāo)。

據(jù)悉,12納米節(jié)點(diǎn)將充分運(yùn)用英特爾在美國(guó)的規(guī)?;a(chǎn)能力和FinFET晶體管設(shè)計(jì)專(zhuān)長(zhǎng),呈現(xiàn)出成熟先進(jìn)、效能領(lǐng)先的特性。借助聯(lián)電長(zhǎng)達(dá)數(shù)十載的工藝引領(lǐng)史以及提供工藝設(shè)計(jì)套件與設(shè)計(jì)協(xié)助的經(jīng)驗(yàn)積累,可以為客戶提供優(yōu)質(zhì)的鑄造服務(wù)。新工藝節(jié)點(diǎn)將會(huì)于英特爾位于亞利桑那州Ocotillo的12, 22及32座晶圓廠投入研發(fā)及生產(chǎn)。這些已有設(shè)備將有助于節(jié)省前期投資,提升資源使用效率。

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