chinese直男口爆体育生外卖, 99久久er热在这里只有精品99, 又色又爽又黄18禁美女裸身无遮挡, gogogo高清免费观看日本电视,私密按摩师高清版在线,人妻视频毛茸茸,91论坛 兴趣闲谈,欧美 亚洲 精品 8区,国产精品久久久久精品免费

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

高效OLED印刷工藝應(yīng)用 | 橢偏儀優(yōu)化HTL層VNPB薄膜均勻性

Flexfilm ? 2025-07-22 09:51 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

有機發(fā)光二極管OLED的噴墨印刷技術(shù)因其材料利用率高、可大面積加工等優(yōu)勢成為產(chǎn)業(yè)焦點,但多層溶液加工存在根本性挑戰(zhàn):層間互溶與咖啡環(huán)效應(yīng)引發(fā)薄膜不均勻導(dǎo)致器件性能下降。本文提出一種基于二元溶劑(環(huán)己酮/環(huán)己基苯)和可熱交聯(lián)空穴傳輸材料VNPB構(gòu)建穩(wěn)定界面,首次實現(xiàn)空穴注入層(HIL)、空穴傳輸層(HTL)、發(fā)光層(EML)全噴墨印刷,為高性能溶液加工OLED提供新方案。Flexfilm全光譜橢偏儀可為多層印刷工藝提供如薄膜厚度測量等更全面的薄膜表征。

1

實驗材料選擇

flexfilm

70b42960-669e-11f0-a486-92fbcf53809c.jpg(a) VNPB熱交聯(lián)反應(yīng)機理示意圖;(b) G2P2分子結(jié)構(gòu);(c) OLED器件結(jié)構(gòu)剖面圖;(d) 能級圖

  • ITO基板圖案化:光刻膠構(gòu)筑 200μm 寬溝槽 + 2.5μm 高壩結(jié)構(gòu)。
  • HIL:PEDOT:PSS墨水由 PEDOT:PSS、H?O 和 IPA 按 555 的體積比混合而成。
  • HTL:交聯(lián)型 VNPB(苯乙烯基團熱交聯(lián)),通過熱交聯(lián)反應(yīng)形成三維網(wǎng)絡(luò)。VNPB 墨水則采用 CYC:CHB(60:40 體積比)的混合溶劑,濃度均為 2 mg?mL?15。
  • EML:磷光綠光G2P2Ir(Ph-BM-P2D2)?,G2P2 墨水同VNPB。
  • 溶劑體系:主溶劑環(huán)己酮(CYC)提供溶解性,助溶劑環(huán)己基苯(CHB)通過高沸點和高粘度抑制溶劑快速揮發(fā)。

薄膜印刷工藝使用噴墨打印機進行薄膜印刷,針對不同材料設(shè)置了相應(yīng)的印刷參數(shù):

  • PEDOT:PSS(脈沖電壓70 V,200°C退火4 min)。
  • VNPB(77 V,210°C交聯(lián)45 min)。
  • G2P2(79 V,150°C退火30 min)。

OLED器件制備OLED 器件的結(jié)構(gòu)為:陽極ITO / PEDOT:PSS(50 nm) / VNPB(20 nm) / G2P2(30 nm) / SPPO13(55 nm) /陰極LiF(1 nm) / Al(120 nm) ,并分別制備了旋涂噴墨印刷器件以供對比。

2

溶劑系統(tǒng)設(shè)計

flexfilm

70c27ce0-669e-11f0-a486-92fbcf53809c.jpg

(a) G2P2在不同混合溶劑中的溶解狀態(tài);(b) G2P2在三維Hansen空間中的溶解球模型

通過Hansen溶解度參數(shù)篩選CYC為主溶劑(Ra=2.7 MPa1/2),CHB為助溶劑(高沸點242℃,低表面張力34.7 mN/m)。

70d113b8-669e-11f0-a486-92fbcf53809c.jpg

二元溶劑抑制咖啡環(huán)機理

二元溶劑體系顯著降低毛細管數(shù)(Ca=0.66),抑制咖啡環(huán)效應(yīng)。VNPB交聯(lián)后對CYC/CHB二元溶劑的溶解度下降95%,確保界面清晰。

3

多層印刷薄膜性能

flexfilm

70db2a2e-669e-11f0-a486-92fbcf53809c.jpg

印刷薄膜的光學(xué)圖像與相應(yīng)旋涂/印刷薄膜的AFM形貌:(a) PEDOT:PSS (b) VNPB (c) G2P2

薄膜均勻性通過優(yōu)化油墨配方和打印參數(shù),成功實現(xiàn)了多層薄膜的均勻打印,避免了層間溶解和咖啡環(huán)效應(yīng)。具體來說,VNPB和G2P2薄膜在打印后表現(xiàn)出良好的覆蓋性和均勻性,薄膜厚度表面粗糙度與旋涂薄膜相當(dāng)。

70eba52a-669e-11f0-a486-92fbcf53809c.jpg

VNPB印刷薄膜厚度控制(a-e) 不同濃度與液膜厚度組合下的光學(xué)圖像(f) 厚度-液膜厚度關(guān)系曲線70fda284-669e-11f0-a486-92fbcf53809c.jpgG2P2印刷薄膜厚度控制(a-e) 不同濃度與液膜厚度組合下的光學(xué)圖像(f) 厚度-液膜厚度關(guān)系曲線710c6896-669e-11f0-a486-92fbcf53809c.jpgVNPB層經(jīng)不同溶劑沖洗后的厚度變化

界面溶劑抵抗性通過測量薄膜在不同溶劑中的厚度變化,驗證了交聯(lián)后的VNPB薄膜對二元溶劑具有良好的溶劑抵抗性。分別用 CB、CYC、CHB 及二元溶劑沖洗后,其厚度僅減少 4.7%,使得 HTL 和 EML 之間形成清晰的界面,無層間溶解現(xiàn)象。

4

OLED器件性能

flexfilm

711da5de-669e-11f0-a486-92fbcf53809c.jpg(a) 圖案化印刷OLED發(fā)光圖像;(b-d) 電流密度-電壓、電流效率-亮度及電致發(fā)光光譜對比

噴墨印刷的OLED器件表現(xiàn)出良好的電致發(fā)光性能,開啟電壓為3.0 V,最大亮度為12233.3 cd m-2,電流效率為20.4 cd A-1。雖較旋涂器件(36.0 cd/A)下降43%,但已滿足顯示級應(yīng)用需求。本研究通過設(shè)計二元墨水配方和采用可交聯(lián)小分子 VNPB 作為中間層,成功實現(xiàn)了有機發(fā)光二極管(OLED)多層噴墨印刷。該墨水配方不僅能保證材料的溶解性和印刷適性,有效抑制咖啡環(huán)和脫濕現(xiàn)象,提高薄膜均勻性,還能避免層間溶解,形成清晰的界面。

Flexfilm全光譜橢偏儀

flexfilm

全光譜橢偏儀擁有高靈敏度探測單元光譜橢偏儀分析軟件,專門用于測量和分析光伏領(lǐng)域中單層或多層納米薄膜的層構(gòu)參數(shù)(如厚度)和物理參數(shù)(如折射率n、消光系數(shù)k)

  • 先進的旋轉(zhuǎn)補償器測量技術(shù):無測量死角問題。
  • 粗糙絨面納米薄膜的高靈敏測量:先進的光能量增強技術(shù),高信噪比的探測技術(shù)。
  • 秒級的全光譜測量速度:全光譜測量典型5-10秒。
  • 原子層量級的檢測靈敏度:測量精度可達0.05nm。

Flexfilm全光譜橢偏儀可以完成OLED電致發(fā)光層中多層膜(如:ITO層,空穴注入層,空穴傳輸層,以及重組/發(fā)光層等超薄有機膜)的膜厚和光學(xué)常數(shù)的快速測試,同時還能準(zhǔn)確描述材料的各向異性。

原文參考:《Improving film uniformity and interface solvent resistance to realize multilayer printing of OLED devices?》

*特別聲明:本公眾號所發(fā)布的原創(chuàng)及轉(zhuǎn)載文章,僅用于學(xué)術(shù)分享和傳遞行業(yè)相關(guān)信息。未經(jīng)授權(quán),不得抄襲、篡改、引用、轉(zhuǎn)載等侵犯本公眾號相關(guān)權(quán)益的行為。內(nèi)容僅供參考,如涉及版權(quán)問題,敬請聯(lián)系,我們將在第一時間核實并處理。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 二極管
    +關(guān)注

    關(guān)注

    149

    文章

    10302

    瀏覽量

    176327
  • OLED
    +關(guān)注

    關(guān)注

    121

    文章

    6331

    瀏覽量

    232411
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點推薦

    PCB不良設(shè)計對印刷工藝的影響

    不少PCB初學(xué)者對于設(shè)計中一些與印刷工藝相關(guān)的細節(jié)問題重視不足或易忽視,從而有可能對正在進行的印刷工藝或其它相關(guān)制造或維修工藝造成不便,影響生產(chǎn)的可行、效率性和經(jīng)濟
    發(fā)表于 06-13 22:09

    基于超構(gòu)表面的微型

    的儀器。相比其它儀器,它可以實現(xiàn)對薄膜樣品參數(shù)的高精度、非破壞測量。然而,傳統(tǒng)光譜(如圖1a所示)需要通過機械旋轉(zhuǎn)的偏振光學(xué)元件聯(lián)合
    的頭像 發(fā)表于 04-28 06:35 ?1006次閱讀
    基于超構(gòu)表面的微型<b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>儀</b>

    原理和應(yīng)用 | 精準(zhǔn)測量不同基底光學(xué)薄膜TiO?/SiO?的光學(xué)常數(shù)

    作為表征光學(xué)薄膜性能的核心工具,在光學(xué)薄膜領(lǐng)域具有不可替代的作用。本研究聚焦基底類型(K9玻璃、石英玻璃、單晶硅)對溶膠-凝膠法制備的
    的頭像 發(fā)表于 07-22 09:51 ?1134次閱讀
    <b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>儀</b>原理和應(yīng)用 | 精準(zhǔn)測量不同基底光學(xué)<b class='flag-5'>薄膜</b>TiO?/SiO?的光學(xué)常數(shù)

    大面積薄膜光學(xué)映射與成像技術(shù)綜述:全光譜技術(shù)

    檢測需求。本文聚焦光學(xué)表征技術(shù)的革新,重點闡述等光學(xué)方法在大面積薄膜映射與成像中的突破應(yīng)用。其中,F(xiàn)lexfilm全光譜
    的頭像 發(fā)表于 07-22 09:53 ?1060次閱讀
    大面積<b class='flag-5'>薄膜</b>光學(xué)映射與成像技術(shù)綜述:全光譜<b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b>技術(shù)

    聚焦位置對光譜膜厚測量精度的影響

    在半導(dǎo)體芯片制造中,薄膜厚度的精確測量是確保器件性能的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。隨著工藝節(jié)點進入納米級,單顆芯片上可能需要堆疊上百薄膜,且每層厚度僅幾納米至幾十納米。光譜
    的頭像 發(fā)表于 07-22 09:54 ?756次閱讀
    聚焦位置對光譜<b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>儀</b>膜厚測量精度的影響

    測量薄膜厚度的原理與應(yīng)用

    在半導(dǎo)體、光學(xué)鍍膜及新能源材料等領(lǐng)域,精確測量薄膜厚度和光學(xué)常數(shù)是材料表征的關(guān)鍵步驟。Flexfilm光譜(SpectroscopicEllipsometry,SE)作為一種非接
    的頭像 發(fā)表于 07-22 09:54 ?1413次閱讀
    <b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>儀</b>測量<b class='flag-5'>薄膜</b>厚度的原理與應(yīng)用

    薄膜測量原理和方法:光學(xué)模型建立和仿真

    技術(shù)是一種非接觸式、高精度、多參數(shù)等光學(xué)測量技術(shù),是薄膜檢測的最好手段。本文以橢圓偏振基本原理為基礎(chǔ),重點介紹了光學(xué)模型建立和仿真,為
    的頭像 發(fā)表于 08-15 18:01 ?3700次閱讀
    <b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>儀</b><b class='flag-5'>薄膜</b>測量原理和方法:光學(xué)模型建立和仿真

    OLED中的應(yīng)用丨多層薄膜納米結(jié)構(gòu)的各膜厚度高精度提取

    OLED顯示器中的多層超薄膜疊加結(jié)構(gòu)的測量應(yīng)用中,需要同時提取多層超薄膜堆棧各層薄膜厚度值
    的頭像 發(fā)表于 08-22 18:09 ?697次閱讀
    <b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>儀</b>在<b class='flag-5'>OLED</b>中的應(yīng)用丨多層<b class='flag-5'>薄膜</b>納米結(jié)構(gòu)的各膜<b class='flag-5'>層</b>厚度高精度提取

    的原理和應(yīng)用 | 薄膜材料或塊體材料光學(xué)參數(shù)和厚度的測量

    是一種基于橢圓偏振分析的光學(xué)測量儀器,通過探測偏振光與樣品相互作用后偏振態(tài)的變化,獲取材料的光學(xué)常數(shù)和結(jié)構(gòu)信息。Flexfilm全光譜
    的頭像 發(fā)表于 08-27 18:04 ?1172次閱讀
    <b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>儀</b>的原理和應(yīng)用 | <b class='flag-5'>薄膜</b>材料或塊體材料光學(xué)參數(shù)和厚度的測量

    薄膜測厚選臺階還是?針對不同厚度范圍提供技術(shù)選型指南

    的物理高度差,為實現(xiàn)厚膜的簡單、直接測量提供了經(jīng)典方案。而光譜則利用光與薄膜相互作用的偏振態(tài)變化,兼具非破壞
    的頭像 發(fā)表于 08-29 18:01 ?2540次閱讀
    <b class='flag-5'>薄膜</b>測厚選臺階<b class='flag-5'>儀</b>還是<b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>儀</b>?針對不同厚度范圍提供技術(shù)選型指南

    在集成電路檢測中的應(yīng)用:以標(biāo)準(zhǔn)樣品校準(zhǔn)法校準(zhǔn)參數(shù)

    術(shù)因其高靈敏度、非接觸與在線測量能力,已成為薄膜與IC工藝檢測的重要手段。但儀器的準(zhǔn)確依賴系統(tǒng)中偏振元件與幾何參數(shù)的精確校準(zhǔn),且在工業(yè)
    的頭像 發(fā)表于 09-03 18:04 ?697次閱讀
    <b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>儀</b>在集成電路檢測中的應(yīng)用:以標(biāo)準(zhǔn)樣品校準(zhǔn)法校準(zhǔn)<b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b>參數(shù)

    在半導(dǎo)體薄膜厚度測量中的應(yīng)用:基于光譜干涉法研究

    薄膜厚度的測量在芯片制造和集成電路等領(lǐng)域中發(fā)揮著重要作用。法具備高測量精度的優(yōu)點,利用寬譜測量方式可得到全光譜的參數(shù),實現(xiàn)納米級
    的頭像 發(fā)表于 09-08 18:02 ?1272次閱讀
    <b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>儀</b>在半導(dǎo)體<b class='flag-5'>薄膜</b>厚度測量中的應(yīng)用:基于光譜干涉<b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b>法研究

    常見技術(shù)問題解答(一)

    是一種基于橢圓偏振分析的光學(xué)測量儀器,通過探測偏振光與樣品相互作用后偏振態(tài)的變化,獲取材料的光學(xué)常數(shù)和結(jié)構(gòu)信息。Flexfilm全光譜
    的頭像 發(fā)表于 09-26 18:04 ?520次閱讀
    <b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>儀</b>常見技術(shù)問題解答(一)

    常見技術(shù)問題解答(二)

    是一種基于橢圓偏振分析的光學(xué)測量儀器,通過探測偏振光與樣品相互作用后偏振態(tài)的變化,獲取材料的光學(xué)常數(shù)和結(jié)構(gòu)信息。Flexfilm全光譜
    的頭像 發(fā)表于 10-10 18:05 ?183次閱讀
    <b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>儀</b>常見技術(shù)問題解答(二)

    在精密薄膜中的應(yīng)用:基于單驅(qū)動變角結(jié)構(gòu)的高重復(fù)性精度控制系統(tǒng)

    缺乏低成本、高集成度且精確變角控制的方案。Flexfilm全光譜可以非接觸對薄膜的厚度與折射率的高精度表征,廣泛應(yīng)用于薄膜材料、半導(dǎo)體
    的頭像 發(fā)表于 10-15 18:04 ?230次閱讀
    <b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>儀</b>在精密<b class='flag-5'>薄膜</b>中的應(yīng)用:基于單驅(qū)動變角結(jié)構(gòu)的高重復(fù)性精度控制系統(tǒng)