MEMS工藝制造中的首要挑戰(zhàn):揭秘頭號大敵
本文深入解析兩類應(yīng)力的形成機(jī)制,揭秘從工藝優(yōu)化(如LPCVD參數(shù)調(diào)控)到材料設(shè)計(jì)的全鏈條應(yīng)對策略,并....
光學(xué)PCB基波導(dǎo)嵌入式系統(tǒng)解析
本文引入基于光學(xué)PCB的波導(dǎo)嵌入式系統(tǒng)(WES),用于AI/HPC數(shù)據(jù)中心,以克服CPO集成挑戰(zhàn)。W....
一文速覽:人工智能(AI)算法與GPU運(yùn)行原理詳解
本文介紹人工智能的發(fā)展歷程、CPU與GPU在AI中的應(yīng)用、CUDA架構(gòu)及并行計(jì)算優(yōu)化,以及未來趨勢。....
存儲器工藝概覽:常見類型介紹
? 動態(tài)隨機(jī)存取存儲器(DRAM)是現(xiàn)代計(jì)算機(jī)系統(tǒng)中不可或缺的核心組件,廣泛應(yīng)用于個(gè)人計(jì)算機(jī)、服務(wù)器....
納米壓印技術(shù):開創(chuàng)下一代光刻的新篇章
光刻技術(shù)對芯片制造至關(guān)重要,但傳統(tǒng)紫外光刻受衍射限制,摩爾定律面臨挑戰(zhàn)。為突破瓶頸,下一代光刻(NG....
折疊屏手機(jī)實(shí)現(xiàn)隨意彎曲的技術(shù)揭秘
本文介紹了折疊屏手機(jī)所用原料OLED以及其實(shí)現(xiàn)隨意折疊的機(jī)理。 ? 折疊屏手機(jī)作為近年來智能手機(jī)領(lǐng)域....
數(shù)字電路設(shè)計(jì)中:前端與后端的差異解析
本文介紹了數(shù)字電路設(shè)計(jì)中“前端”和“后端”的區(qū)別。 數(shù)字電路設(shè)計(jì)中“前端”和“后端”整個(gè)過程可類比蓋....
什么是晶圓制程的CPK
本文介紹了什么是晶圓制程的CPK。 CPK(Process Capability Index)?是制....
單晶圓系統(tǒng):多晶硅與氮化硅的沉積
本文介紹了單晶圓系統(tǒng):多晶硅與氮化硅的沉積。 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,單晶圓系統(tǒng)展現(xiàn)出獨(dú)特的工藝優(yōu)勢,它具....
如何在光子學(xué)中利用電子生態(tài)系統(tǒng)
本文介紹了如何在光子學(xué)中利用電子生態(tài)系統(tǒng)。 這一目標(biāo)要求光子學(xué)制造利用現(xiàn)有的電子制造工藝和生態(tài)系統(tǒng)。....
軟件在芯片設(shè)計(jì)中有什么作用
? 本文主要介紹軟件在芯片設(shè)計(jì)中的作用 在芯片設(shè)計(jì)中,軟件扮演著非常重要的角色,它不僅幫助芯片設(shè)計(jì)驗(yàn)....
如何理解芯片設(shè)計(jì)中的IP
本文主要介紹如何理解芯片設(shè)計(jì)中的IP 在芯片設(shè)計(jì)中,IP(知識產(chǎn)權(quán)核心,Intellectual P....
利用彩色光刻膠的光學(xué)菲涅爾波帶片平面透鏡設(shè)計(jì)
光學(xué)操控技術(shù)已成為諸多應(yīng)用領(lǐng)域中的有力工具,它的蓬勃發(fā)展也使得學(xué)界對光學(xué)器件小型化的需求日益增長。因....
提高SiC外延生長速率和品質(zhì)的方法
SiC外延設(shè)備的復(fù)雜性主要體現(xiàn)在反應(yīng)室設(shè)計(jì)、加熱系統(tǒng)和旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)等關(guān)鍵部件的精確控制上。在SiC外延生....
利用拉曼光譜測量二硫化鉬薄片層數(shù)的三種方法
2024年12月31日,國家市場監(jiān)督管理總局(國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會)發(fā)布2024年第32號中華人民共....
NFC技術(shù)在手機(jī)中的應(yīng)用
在數(shù)字支付技術(shù)迅猛發(fā)展的今天,支付寶推出的“碰一下”支付功能以其便捷性和高效性迅速吸引了廣泛關(guān)注。這....