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中科院半導(dǎo)體所

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MEMS工藝制造中的首要挑戰(zhàn):揭秘頭號大敵

本文深入解析兩類應(yīng)力的形成機(jī)制,揭秘從工藝優(yōu)化(如LPCVD參數(shù)調(diào)控)到材料設(shè)計(jì)的全鏈條應(yīng)對策略,并....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-17 10:27 ?1271次閱讀
MEMS工藝制造中的首要挑戰(zhàn):揭秘頭號大敵

接觸孔工藝簡介

本文主要簡單介紹探討接觸孔工藝制造流程。以55nm接觸控工藝為切入點(diǎn)進(jìn)行簡單介紹。 ? 在集成電路制....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-17 09:43 ?2291次閱讀
接觸孔工藝簡介

三種太赫茲波的產(chǎn)生方式

本文簡單介紹了三種太赫茲波的產(chǎn)生方式。 太赫茲波(THz)是一種電磁波,在電磁波譜上位于紅外與微波之....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-17 09:09 ?4074次閱讀
三種太赫茲波的產(chǎn)生方式

光學(xué)PCB基波導(dǎo)嵌入式系統(tǒng)解析

本文引入基于光學(xué)PCB的波導(dǎo)嵌入式系統(tǒng)(WES),用于AI/HPC數(shù)據(jù)中心,以克服CPO集成挑戰(zhàn)。W....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-14 10:48 ?1379次閱讀
光學(xué)PCB基波導(dǎo)嵌入式系統(tǒng)解析

一文速覽:人工智能(AI)算法與GPU運(yùn)行原理詳解

本文介紹人工智能的發(fā)展歷程、CPU與GPU在AI中的應(yīng)用、CUDA架構(gòu)及并行計(jì)算優(yōu)化,以及未來趨勢。....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-14 10:28 ?1636次閱讀
一文速覽:人工智能(AI)算法與GPU運(yùn)行原理詳解

存儲器工藝概覽:常見類型介紹

? 動態(tài)隨機(jī)存取存儲器(DRAM)是現(xiàn)代計(jì)算機(jī)系統(tǒng)中不可或缺的核心組件,廣泛應(yīng)用于個(gè)人計(jì)算機(jī)、服務(wù)器....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-14 10:24 ?1576次閱讀
存儲器工藝概覽:常見類型介紹

光阻的基礎(chǔ)知識

本文將系統(tǒng)介紹光阻的組成與作用、剝離的關(guān)鍵工藝及化學(xué)機(jī)理,并探討不同等離子體處理方法在光阻去除中的應(yīng)....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-13 10:30 ?4123次閱讀
光阻的基礎(chǔ)知識

納米壓印技術(shù):開創(chuàng)下一代光刻的新篇章

光刻技術(shù)對芯片制造至關(guān)重要,但傳統(tǒng)紫外光刻受衍射限制,摩爾定律面臨挑戰(zhàn)。為突破瓶頸,下一代光刻(NG....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-13 10:03 ?3905次閱讀
納米壓印技術(shù):開創(chuàng)下一代光刻的新篇章

折疊屏手機(jī)實(shí)現(xiàn)隨意彎曲的技術(shù)揭秘

本文介紹了折疊屏手機(jī)所用原料OLED以及其實(shí)現(xiàn)隨意折疊的機(jī)理。 ? 折疊屏手機(jī)作為近年來智能手機(jī)領(lǐng)域....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-13 10:01 ?1981次閱讀
折疊屏手機(jī)實(shí)現(xiàn)隨意彎曲的技術(shù)揭秘

數(shù)字電路設(shè)計(jì)中:前端與后端的差異解析

本文介紹了數(shù)字電路設(shè)計(jì)中“前端”和“后端”的區(qū)別。 數(shù)字電路設(shè)計(jì)中“前端”和“后端”整個(gè)過程可類比蓋....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-12 10:09 ?1597次閱讀

背金工藝的工藝流程

本文介紹了背金工藝的工藝流程。 本文將解析一下背金工藝的具體的工藝流程及每步的工藝原理。 背金工藝的....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-12 09:33 ?2204次閱讀
背金工藝的工藝流程

集成電路工藝中的金屬介紹

本文介紹了集成電路工藝中的金屬。 集成電路工藝中的金屬 概述 在芯片制造領(lǐng)域,金屬化這一關(guān)鍵環(huán)節(jié)指的....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-12 09:31 ?2896次閱讀
集成電路工藝中的金屬介紹

什么是晶圓制程的CPK

本文介紹了什么是晶圓制程的CPK。 CPK(Process Capability Index)?是制....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-11 09:49 ?6172次閱讀

單晶圓系統(tǒng):多晶硅與氮化硅的沉積

本文介紹了單晶圓系統(tǒng):多晶硅與氮化硅的沉積。 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,單晶圓系統(tǒng)展現(xiàn)出獨(dú)特的工藝優(yōu)勢,它具....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-11 09:19 ?1188次閱讀
單晶圓系統(tǒng):多晶硅與氮化硅的沉積

芯片中介質(zhì)及其性能解析

本文介紹了芯片里的介質(zhì)及其性能。 介電常數(shù)k概述 在介質(zhì)薄膜的沉積過程中,除了薄膜質(zhì)量如均勻性、致密....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-10 11:09 ?2239次閱讀
芯片中介質(zhì)及其性能解析

PECVD中影響薄膜應(yīng)力的因素

本文介紹了PECVD中影響薄膜應(yīng)力的因素。 影響PECVD 薄膜應(yīng)力的因素有哪些?各有什么優(yōu)缺點(diǎn)? ....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-10 10:27 ?1741次閱讀
PECVD中影響薄膜應(yīng)力的因素

如何在光子學(xué)中利用電子生態(tài)系統(tǒng)

本文介紹了如何在光子學(xué)中利用電子生態(tài)系統(tǒng)。 這一目標(biāo)要求光子學(xué)制造利用現(xiàn)有的電子制造工藝和生態(tài)系統(tǒng)。....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-10 10:24 ?1162次閱讀
如何在光子學(xué)中利用電子生態(tài)系統(tǒng)

磁性靶材磁控濺射成膜影響因素

本文主要介紹磁性靶材磁控濺射成膜影響因素 ? 磁控濺射作為一種重要的物理氣相沉積技術(shù),在薄膜制備領(lǐng)域....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-09 09:51 ?2056次閱讀
磁性靶材磁控濺射成膜影響因素

軟件在芯片設(shè)計(jì)中有什么作用

? 本文主要介紹軟件在芯片設(shè)計(jì)中的作用 在芯片設(shè)計(jì)中,軟件扮演著非常重要的角色,它不僅幫助芯片設(shè)計(jì)驗(yàn)....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-09 09:43 ?1684次閱讀

光纖耦合器的基礎(chǔ)知識

本文主要介紹光纖耦合器 ? 光纖耦合器也叫光纖分路器。光纖耦合器的原理與水管接頭或者電力分路器不同,....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-08 11:25 ?1316次閱讀
光纖耦合器的基礎(chǔ)知識

為什么采用多晶硅作為柵極材料

本文解釋了為什么采用多晶硅作為柵極材料 ? 柵極材料的變化 ? 如上圖,gate就是柵極,柵極由最開....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-08 11:22 ?1348次閱讀
為什么采用多晶硅作為柵極材料

如何理解芯片設(shè)計(jì)中的IP

本文主要介紹如何理解芯片設(shè)計(jì)中的IP 在芯片設(shè)計(jì)中,IP(知識產(chǎn)權(quán)核心,Intellectual P....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-08 10:43 ?2519次閱讀

LPCVD氮化硅薄膜生長的機(jī)理

可以看出, SiH4提供的是Si源,N2或NH3提供的是N源。但是由于LPCVD反應(yīng)溫度較高,氫原子....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-07 09:44 ?1297次閱讀
LPCVD氮化硅薄膜生長的機(jī)理

詳解晶圓的劃片工藝流程

在半導(dǎo)體制造的復(fù)雜流程中,晶圓歷經(jīng)前道工序完成芯片制備后,劃片工藝成為將芯片從晶圓上分離的關(guān)鍵環(huán)節(jié),....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-07 09:41 ?3193次閱讀
詳解晶圓的劃片工藝流程

一文詳解銅大馬士革工藝

但隨著技術(shù)迭代,晶體管尺寸持續(xù)縮減,電阻電容(RC)延遲已成為制約集成電路性能的關(guān)鍵因素。在90納米....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-07 09:39 ?5649次閱讀
一文詳解銅大馬士革工藝

利用彩色光刻膠的光學(xué)菲涅爾波帶片平面透鏡設(shè)計(jì)

光學(xué)操控技術(shù)已成為諸多應(yīng)用領(lǐng)域中的有力工具,它的蓬勃發(fā)展也使得學(xué)界對光學(xué)器件小型化的需求日益增長。因....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-06 10:16 ?1481次閱讀
利用彩色光刻膠的光學(xué)菲涅爾波帶片平面透鏡設(shè)計(jì)

提高SiC外延生長速率和品質(zhì)的方法

SiC外延設(shè)備的復(fù)雜性主要體現(xiàn)在反應(yīng)室設(shè)計(jì)、加熱系統(tǒng)和旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)等關(guān)鍵部件的精確控制上。在SiC外延生....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-06 10:10 ?1452次閱讀

利用拉曼光譜測量二硫化鉬薄片層數(shù)的三種方法

2024年12月31日,國家市場監(jiān)督管理總局(國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會)發(fā)布2024年第32號中華人民共....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-05 14:04 ?2268次閱讀
利用拉曼光譜測量二硫化鉬薄片層數(shù)的三種方法

NFC技術(shù)在手機(jī)中的應(yīng)用

在數(shù)字支付技術(shù)迅猛發(fā)展的今天,支付寶推出的“碰一下”支付功能以其便捷性和高效性迅速吸引了廣泛關(guān)注。這....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-05 14:01 ?3986次閱讀
NFC技術(shù)在手機(jī)中的應(yīng)用

碳化硅薄膜沉積技術(shù)介紹

多晶碳化硅和非晶碳化硅在薄膜沉積方面各具特色。多晶碳化硅以其廣泛的襯底適應(yīng)性、制造優(yōu)勢和多樣的沉積技....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-05 13:49 ?2024次閱讀
碳化硅薄膜沉積技術(shù)介紹