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電子發(fā)燒友網(wǎng)>今日頭條>半導(dǎo)體制程(清洗制程、熱處理制程、薄膜形成制程等)

半導(dǎo)體制程(清洗制程、熱處理制程、薄膜形成制程等)

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大降價(jià):最高降20%,晶圓代工成熟制程「以價(jià)換量」

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2023-10-26 08:51:381498

芯片制程中常見的介質(zhì)材料有哪些?都有什么作用?

在芯片制程中,介質(zhì)層起到了非常重要的作用。它不僅在芯片中提供了必要的電氣隔離,還在多層互連結(jié)構(gòu)中實(shí)現(xiàn)了信號(hào)的高效傳輸。那么目前芯片制程中常見的介質(zhì)材料有哪些?都有什么作用?怎么界定低k材料與高k材料?怎么制作出來的?
2023-10-19 10:47:212414

英特爾宣布Intel 4已大規(guī)模量產(chǎn),“四年五個(gè)制程節(jié)點(diǎn)”計(jì)劃又進(jìn)一步

近日,英特爾宣布已開始采用極紫外光刻(EUV)技術(shù)大規(guī)模量產(chǎn)(HVM)Intel 4制程節(jié)點(diǎn)。Intel 4大規(guī)模量產(chǎn)的如期實(shí)現(xiàn),再次證明了英特爾正以強(qiáng)大的執(zhí)行力推進(jìn)“四年五個(gè)制程節(jié)點(diǎn)”計(jì)劃,并將
2023-10-13 21:20:02295

英特爾宣布Intel 4已大規(guī)模量產(chǎn),“四年五個(gè)制程節(jié)點(diǎn)”計(jì)劃又進(jìn)一步

近日,英特爾宣布已開始采用極紫外光刻(EUV)技術(shù)大規(guī)模量產(chǎn)(HVM)Intel 4制程節(jié)點(diǎn)。Intel 4大規(guī)模量產(chǎn)的如期實(shí)現(xiàn),再次證明了英特爾正以強(qiáng)大的執(zhí)行力推進(jìn)“四年五個(gè)制程節(jié)點(diǎn)”計(jì)劃,并將
2023-10-13 15:57:43214

半導(dǎo)體制造業(yè)對PFA管的潔凈度和透明度的要求有多高

高。由于半導(dǎo)體制造過程中需要嚴(yán)格控制雜質(zhì)和微粒的數(shù)量,因此對于承載半導(dǎo)體制程所需液體的PFA管來說,必須保證其潔凈度。一般要求PFA管內(nèi)部無顆粒、無金屬離子殘留、無死角,同時(shí)還要具備優(yōu)良的耐腐蝕性和耐氧化性。為了達(dá)到這些要求,生產(chǎn)
2023-10-13 15:01:48151

芯片為什么用銅作為互聯(lián)金屬?鋁為什么會(huì)被替代呢?

半導(dǎo)體制程中,為了連接不同的電路元件,傳遞電子信號(hào)和為電路元件供電,需要使用導(dǎo)電金屬來形成互連結(jié)構(gòu)。
2023-10-12 16:15:551606

是德科技和Ansys攜手為4nm射頻FinFET制程打造全新參考流程

新參考流程采用臺(tái)積電 N4PRF 制程,提供了開放、高效的射頻設(shè)計(jì)解決方案
2023-10-10 18:22:21457

高通或成為臺(tái)積電3nm制程的第三家客戶

蘋果已經(jīng)發(fā)布了基于臺(tái)積電3nm制程的A17 Pro處理器。最近,有消息稱,高通的下一代5G旗艦芯片也將采用臺(tái)積電3nm制程,并預(yù)計(jì)會(huì)在10月下旬公布,成為臺(tái)積電3nm制程的第三個(gè)客戶,可能是高通驍龍8 Gen3。
2023-09-26 16:51:311407

蘋果a16與a17芯片的區(qū)別 a17芯片制程多少

蘋果a16與a17芯片的區(qū)別 蘋果a16與a17芯片的區(qū)別主要表現(xiàn)在性能上、速度上、CPU等等方面。A17擁有臺(tái)積電3nm工藝的加持,而a16芯片采用了4納米工藝制程。 A17芯片的CPU配置
2023-09-26 14:16:226907

Cadence擴(kuò)大TSMC N3E制程IP產(chǎn)品組合,推出新一代224G-LR SerDes IP,助力超大規(guī)模SoC設(shè)計(jì)

內(nèi)容提要 ● ?經(jīng)過驗(yàn)證的接口 IP,可顯著提升 TSMC N3E 制程節(jié)點(diǎn)的性能和能效 ● ?224G-LR SerDes PHY IP 在 TSMC N3E 制程上實(shí)現(xiàn)一次性流片成功
2023-09-26 10:10:01320

半導(dǎo)體工業(yè)的誕生

在本節(jié)中,我們將逐一闡述半導(dǎo)體發(fā)展的歷史性產(chǎn)品和世界主流半導(dǎo)體制程的代際演進(jìn)過程。從半導(dǎo)體主要制造階段所需主要材料的準(zhǔn)備開始,到最終的產(chǎn)品封裝階段,我們將沿著主流的半導(dǎo)體產(chǎn)品類型,半導(dǎo)體晶體管的制造
2023-09-22 10:35:47370

芯片制程的發(fā)展:從毫米到納米,人類智慧的結(jié)晶

在 20 世紀(jì) 60 年代,芯片制程技術(shù)還處于起步階段,當(dāng)時(shí)的制程尺寸達(dá)到了 10 微米。這種毫米級(jí)的制程技術(shù)雖然較為粗糙,但已經(jīng)為計(jì)算機(jī)和通信設(shè)備的小型化奠定了基礎(chǔ)。隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,科學(xué)家們開始研究如何減小制程尺寸,以提高芯片的性能和集成度。
2023-09-19 15:54:411613

英特爾和新思科技深化合作,提供基于英特爾先進(jìn)制程節(jié)點(diǎn)的領(lǐng)先IP

合作伙伴關(guān)系。 英特爾和新思科技(Synopsys)近日宣布已經(jīng)達(dá)成最終協(xié)議,深化在半導(dǎo)體IP和EDA(電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化)領(lǐng)域的長期戰(zhàn)略合作伙伴關(guān)系,共同為英特爾代工服務(wù)的客戶開發(fā)基于Intel 3和Intel 18A制程節(jié)點(diǎn)的IP產(chǎn)品組合。提供基于英特爾先進(jìn)制程節(jié)點(diǎn)的關(guān)鍵
2023-09-12 16:36:24175

英特爾新處理器曝光,先進(jìn)技術(shù)為Intel 7制程

目前,英特爾量產(chǎn)的最先進(jìn)技術(shù)為Intel 7制程,比前一代Intel 10的SuperFin制程的每瓦效能提升約10%-15%,而Meteor Lake采用Intel 4制程生產(chǎn),導(dǎo)入了極紫外光
2023-09-08 15:28:55749

EUV光刻:縮小的藝術(shù),制程的新篇章

制程工藝EUV光刻機(jī)
北京中科同志科技股份有限公司發(fā)布于 2023-09-02 09:32:27

華秋PCB工藝制程能力介紹及解析

上周我們講到了PCB基本概念和鉆孔的一些基本知識(shí),那么本篇內(nèi)容,小編將以pcb圖形轉(zhuǎn)移和阻焊方向,為大家詳細(xì)介紹其他PCB工藝制程能力。如果對該內(nèi)容感興趣的朋友可以關(guān)注公眾號(hào)【華秋電子】,并查看
2023-09-01 09:55:54

PCB工藝制程能力介紹及解析(下)

上周我們講到了PCB基本概念和鉆孔的一些基本知識(shí),那么本篇內(nèi)容,小編將以pcb圖形轉(zhuǎn)移和阻焊方向,為大家詳細(xì)介紹其他PCB工藝制程能力。如果對該內(nèi)容感興趣的朋友可以關(guān)注公眾號(hào)【華秋電子】,并查看
2023-09-01 09:51:11

PCB工藝制程能力介紹及解析(下)

上周我們講到了PCB基本概念和鉆孔的一些基本知識(shí),那么本篇內(nèi)容,小編將以pcb圖形轉(zhuǎn)移和阻焊等方向,為大家詳細(xì)介紹其他PCB工藝制程能力。如果對該內(nèi)容感興趣的朋友可以關(guān)注公眾號(hào)【華秋電子】,并查看
2023-08-31 15:54:291068

PCB工藝制程能力介紹及解析(下)

上周我們講到了PCB基本概念和鉆孔的一些基本知識(shí),那么本篇內(nèi)容,小編將以pcb圖形轉(zhuǎn)移和阻焊等方向,為大家詳細(xì)介紹其他PCB工藝制程能力。如果對該內(nèi)容感興趣的朋友可以關(guān)注公眾號(hào)【華秋電子】,并查看
2023-08-31 15:51:34614

PCB工藝制程能力介紹及解析(上)

一個(gè)優(yōu)秀的工程師設(shè)計(jì)的產(chǎn)品一定是既滿足設(shè)計(jì)需求又滿足生產(chǎn)工藝。規(guī)范產(chǎn)品的電路設(shè)計(jì),輔助PCB設(shè)計(jì)的相關(guān)工藝參數(shù),使得生產(chǎn)出來的實(shí)物產(chǎn)品滿足可生產(chǎn)性、可測試性、可維修性的技術(shù)規(guī)范要求。本文將從初學(xué)者
2023-08-28 13:55:03

成熟制程代工廠太慘了,熱停機(jī)潮蔓延

韓媒報(bào)導(dǎo),三星、Key Foundry及SK海力士旗下SK Hynix System IC等南韓晶圓代工廠近期產(chǎn)能利用率都僅介于40%至50%之間.因應(yīng)終端需求疲軟,上述三家南韓晶圓代工廠已決定關(guān)掉某些成熟制程設(shè)備電源,進(jìn)行「熱停機(jī)」,凸顯晶圓代工成熟制程景氣持續(xù)低迷。
2023-08-22 16:19:28445

半導(dǎo)體市場遇寒冬,“熱停機(jī)”成為新趨勢

半導(dǎo)體制程市況不佳,晶圓代工商降價(jià)效果差。為削減成本,韓國主要代工廠如三星,啟用“熱停機(jī)”策略。此趨勢蔓延至聯(lián)電、世界先進(jìn)、力積電等臺(tái)灣代工廠,揭示短期訂單前景黯淡,制程市況嚴(yán)峻。 據(jù)韓媒,三星
2023-08-22 09:58:53243

線路板PCB加工特殊制程

這是一種全新領(lǐng)域的薄形多層板做法,早啟蒙是源自 IBM 的SLC 制程,系于其日本的 Yasu 工廠 1989 年開始試產(chǎn)的,該法是以傳統(tǒng)雙面板為基礎(chǔ),自兩外板面先全面涂布液態(tài)感光
2023-08-21 14:34:12325

用于程序代碼可視化和監(jiān)控的對象連接到控制程

簡介 在此示例中,將用于程序代碼可視化和監(jiān)控的對象連接到控制程序。您先前已在 STEP 7 中創(chuàng)建了一個(gè)程序(用于運(yùn)輸傳送帶上的生產(chǎn)單位)。您還創(chuàng)建了一個(gè) ProDiag 函數(shù)塊,在其中設(shè)置對操作數(shù)
2023-08-21 10:11:31606

半導(dǎo)體前端工藝:沉積——“更小、更多”,微細(xì)化的關(guān)鍵

半導(dǎo)體制程中,移除殘余材料的“減法工藝”不止“刻蝕”一種,引入其他材料的“加法工藝”也非“沉積”一種。比如,光刻工藝中的光刻膠涂敷,其實(shí)也是在基底上形成各種薄膜;又如氧化工藝中晶圓(硅)氧化,也需要在基底表面添加各種新材料。那為什么唯獨(dú)要強(qiáng)調(diào)“沉積”工藝呢?
2023-08-17 15:33:27370

新思科技PVT IP:從源頭解決先進(jìn)制程芯片“三大攔路虎”

本文轉(zhuǎn)自TechSugar 感謝TechSugar對新思科技的關(guān)注 雖然摩爾定律走到極限已成行業(yè)共識(shí),但是在現(xiàn)代科技領(lǐng)域中,先進(jìn)制程芯片的設(shè)計(jì)仍是實(shí)現(xiàn)高性能、低功耗和高可靠性的關(guān)鍵。芯片開發(fā)者正在
2023-08-15 17:35:01712

基于FPGA創(chuàng)建一個(gè)簡單的電機(jī)控制程

FPGA 非常適合精密電機(jī)控制,在這個(gè)項(xiàng)目中,我們將創(chuàng)建一個(gè)簡單的電機(jī)控制程序,在此基礎(chǔ)上可以構(gòu)建更復(fù)雜的應(yīng)用。
2023-08-11 09:06:33752

臺(tái)積電高雄廠將以 2 納米先進(jìn)制程技術(shù)進(jìn)行生產(chǎn)規(guī)劃

來源:經(jīng)濟(jì)日報(bào) 臺(tái)灣地區(qū)《經(jīng)濟(jì)日報(bào)》消息,臺(tái)積電近日宣布,為滿足先進(jìn)制程技術(shù)的強(qiáng)勁市場需求,高雄廠確定以 2 納米的先進(jìn)制程技術(shù)進(jìn)行生產(chǎn)規(guī)劃。至此,臺(tái)積電將擁有三個(gè)2 納米生產(chǎn)基地。 據(jù)臺(tái)灣地區(qū)
2023-08-09 18:21:09640

先進(jìn)制程芯片的“三大攔路虎” 先進(jìn)制程芯片設(shè)計(jì)成功的關(guān)鍵

雖然摩爾定律走到極限已成行業(yè)共識(shí),但是在現(xiàn)代科技領(lǐng)域中,先進(jìn)制程芯片的設(shè)計(jì)仍是實(shí)現(xiàn)高性能、低功耗和高可靠性的關(guān)鍵。
2023-08-08 09:15:40569

工藝制程是什么意思 7nm5nm是什么意思

如果工藝制程繼續(xù)按照摩爾定律所說的以指數(shù)級(jí)的速度縮小特征尺寸,會(huì)遇到兩個(gè)阻礙,首先是經(jīng)濟(jì)學(xué)的阻礙,其次是物理學(xué)的阻礙。 經(jīng)濟(jì)學(xué)的阻礙是,隨著特征尺寸縮小,由于工藝的復(fù)雜性設(shè)計(jì)規(guī)則的復(fù)雜度迅速增大,導(dǎo)致芯片的成本迅速上升。
2023-07-31 10:41:15711

2nm芯片能帶來什么?2nm制程之爭將全面打響?

消費(fèi)電子市場持續(xù)疲軟、人工智能火熱的大環(huán)境下,晶圓制造廠商積極瞄準(zhǔn)高性能芯片,2nm先進(jìn)制程之爭愈演愈烈。
2023-07-17 18:24:151620

英特爾全新16nm制程工藝有何優(yōu)勢

英特爾獨(dú)立運(yùn)作代工部門IFS后,將向三方開放芯片制造加工服務(wù),可能是為了吸引客戶,英特爾日前發(fā)布了全新的16nm制程工藝。
2023-07-15 11:32:58757

半導(dǎo)體前端工藝:金屬布線—為半導(dǎo)體注入生命的連接

生成接觸孔后,下一步就是連接導(dǎo)線。在半導(dǎo)體制程中,連接導(dǎo)線的過程與一般電線的生產(chǎn)過程非常相似,即先制作線的外皮。在一般的電路連接中,直接采用成品電線即可。但在半導(dǎo)體制程中,需要先“制作電線”。
2023-07-11 14:58:221392

異構(gòu)集成推動(dòng)面板制程設(shè)備(驅(qū)動(dòng)器)的改變

異構(gòu)集成推動(dòng)面板制程設(shè)備(驅(qū)動(dòng)器)的改變
2023-07-10 14:54:30256

顛覆傳統(tǒng)PFC制程工藝的FDC應(yīng)用于CCS

顛覆傳統(tǒng)PFC制程工藝的FDC應(yīng)用于CCS
2023-07-10 10:00:208510

成熟制程變相降價(jià) 下半年預(yù)期不容樂觀

 在成熟制程緊缺時(shí)期,成熟制程芯片的報(bào)價(jià)大幅上漲約50%。然而,如今在與大量訂單洽談時(shí),價(jià)格相對于高峰期已經(jīng)下降了20%至30%左右。因此,經(jīng)過一番討價(jià)還價(jià)之后,成熟制程芯片的報(bào)價(jià)僅略高于疫情爆發(fā)前的水平。
2023-07-03 17:43:471042

成熟制程市場前景不容樂觀

在中國臺(tái)灣地區(qū)的成熟制程晶圓代工廠中,大摩最看好聯(lián)電,給予優(yōu)于大盤的評價(jià),目標(biāo)價(jià)為53元新臺(tái)幣。至于大摩同業(yè)對于聯(lián)電的評等,73%為優(yōu)于大盤或買進(jìn),12%為中性,15%為劣于大盤或賣出。
2023-07-03 16:11:47255

三星電子2nm制程工藝計(jì)劃2025年量產(chǎn) 2027年開始用于代工汽車芯片

外媒在報(bào)道中提到,根據(jù)公布的計(jì)劃,三星電子將在2025年開始,采用2nm制程工藝量產(chǎn)移動(dòng)設(shè)備應(yīng)用所需的芯片,2026年開始量產(chǎn)高性能計(jì)算設(shè)備的芯片,2027年則是利用2nm制程工藝開始量產(chǎn)汽車所需的芯片。
2023-06-30 16:55:07458

鋰電池制程工藝及磷酸鐵鋰(LFP)三元(NCM)鋰電池的區(qū)別及發(fā)展趨勢

關(guān)鍵詞:鋰電池,LFP磷酸鐵鋰,NCM三元鋰,制程工藝,國產(chǎn)高端新材料涂布工藝是一種基于對流體物性的研究,將一層或者多層液體涂覆在一種基材上的工藝,基材通常為柔性的薄膜或者襯紙,然后涂覆的液體涂層
2023-06-30 10:02:236682

半導(dǎo)體前端工藝:沉積——“更小、更多”,微細(xì)化的關(guān)鍵(上)

半導(dǎo)體制程中,移除殘余材料的“減法工藝”不止“刻蝕”一種,引入其他材料的“加法工藝”也非“沉積”一種。比如,光刻工藝中的光刻膠涂敷,其實(shí)也是在基底上形成各種薄膜;又如氧化工藝中晶圓(硅)氧化,也需要在基底表面添加各種新材料。那為什么唯獨(dú)要強(qiáng)調(diào)“沉積”工藝呢?
2023-06-29 16:58:37404

半導(dǎo)體前端工藝之沉積工藝

在前幾篇文章(點(diǎn)擊查看),我們一直在借用餅干烘焙過程來形象地說明半導(dǎo)體制程 。在上一篇我們說到,為制作巧克力夾心,需通過“刻蝕工藝”挖出餅干的中間部分,然后倒入巧克力糖漿,再蓋上一層餅干層?!暗谷肭煽肆μ菨{”和“蓋上餅干層”的過程在半導(dǎo)體制程中就相當(dāng)于“沉積工藝”。
2023-06-29 16:56:17830

半導(dǎo)體前端工藝:刻蝕——有選擇性地刻蝕材料,以創(chuàng)建所需圖形

半導(dǎo)體制程工藝中,有很多不同名稱的用于移除多余材料的工藝,如“清洗”、“刻蝕”等。如果說“清洗”工藝是把整張晶圓上多余的不純物去除掉,“刻蝕”工藝則是在光刻膠的幫助下有選擇性地移除不需要的材料,從而創(chuàng)建所需的微細(xì)圖案。半導(dǎo)體“刻蝕”工藝所采用的氣體和設(shè)備,在其他類似工藝中也很常見。
2023-06-15 17:51:571177

臺(tái)積電代工報(bào)價(jià)曝光:3nm制程19865美元,2nm預(yù)計(jì)24570美元!

根據(jù)Revegnus 公布的第一張資料圖顯示,隨著臺(tái)積電制程工藝的持續(xù)推進(jìn),其晶圓代工報(bào)價(jià)也是在持續(xù)加速上漲。比如以2020年的晶圓代工價(jià)格來看,臺(tái)積電于2004年四季度量產(chǎn)的9onm制程,2020年時(shí)的晶圓代工報(bào)價(jià)為每片晶圓1650美元
2023-06-11 10:05:41626

揭秘半導(dǎo)體制程:8寸晶圓與5nm工藝的魅力與挑戰(zhàn)

在探討半導(dǎo)體行業(yè)時(shí),我們經(jīng)常會(huì)聽到兩個(gè)概念:晶圓尺寸和工藝節(jié)點(diǎn)。本文將為您解析8寸晶圓以及5nm工藝這兩個(gè)重要的概念。
2023-06-06 10:44:001422

博捷芯:晶圓切割提升晶圓工藝制程,國產(chǎn)半導(dǎo)體劃片機(jī)解決方案

晶圓切割是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)之一。提升晶圓工藝制程需要綜合考慮多個(gè)方面,包括切割效率、切割質(zhì)量、設(shè)備性能等。針對這些問題,國產(chǎn)半導(dǎo)體劃片機(jī)解決方案可以提供一些幫助。首先,在切割效率方面,國產(chǎn)
2023-06-05 15:30:447568

從Chiplet看半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)

“ 摩爾定律” 發(fā)展陷入瓶頸, 集成電路進(jìn)入后摩爾時(shí)代。 從 1987 年的1um 制程至 2015年的14nm制程, 集成電路制程迭代大致符合“ 摩爾定律” 的規(guī)律。但自 2015 年以來,集成電路先進(jìn)制程的發(fā)展開始放緩,7nm、 5nm、3nm 制程的量產(chǎn)進(jìn)度均落后于預(yù)期。
2023-05-25 16:44:531158

基于89C51單片機(jī)的舵機(jī)按鍵控制程序源程序

基于89C51單片機(jī)的舵機(jī)按鍵控制程序源程序
2023-05-16 09:09:442

晶圓廠,搶攻成熟制程

日本也傳出有意跟進(jìn)擴(kuò)大對陸銷售半導(dǎo)體設(shè)備的措施,包括東京威力科創(chuàng)(Tokyo Electron)在內(nèi)的約十家日企,若要出口晶圓制造、晶圓清洗、沉積、回火(annealing)、微影、蝕刻和測試等設(shè)備時(shí),必須先取得許可。
2023-05-10 09:59:26537

2023年最強(qiáng)半導(dǎo)體品牌Top 10!第一名太強(qiáng)大了!

最強(qiáng)品牌排名中,臺(tái)積電位列第一。 Brand Finance通過計(jì)算品牌價(jià)值,以及透過市場環(huán)境、股東權(quán)益、商業(yè)表現(xiàn)諸多指標(biāo),評估品牌的相對強(qiáng)度。最終,臺(tái)積電以品牌分?jǐn)?shù)78.9分的最高分,成為半導(dǎo)體
2023-04-27 10:09:27

PCB制程中的COB工藝是什么呢?

PCB制程中的COB工藝是什么呢?
2023-04-23 10:46:59

激光在碳化硅半導(dǎo)體晶圓制程中的應(yīng)用

本文介紹了激光在碳化硅(SiC)半導(dǎo)體晶圓制程中的應(yīng)用,概括講述了激光與碳化硅相互作用的機(jī)理,并重點(diǎn)對碳化硅晶圓激光標(biāo)記、背金激光表切去除、晶粒隱切分片的應(yīng)用進(jìn)行了介紹。
2023-04-23 09:58:27712

SMT貼片加工制程與注意事項(xiàng)

一站式PCBA智造廠家今天為大家講講SMT貼片加工制作流程包含哪些?SMT貼片加工注意事項(xiàng)。接下來為大家介紹SMT貼片加工流程中有哪些制程與注意事項(xiàng)。 不得不說,SMT應(yīng)該是現(xiàn)代電子組裝工業(yè)中自動(dòng)化
2023-04-21 10:08:391045

成都匯陽投資關(guān)于四重邏輯共振,繼續(xù)看好半導(dǎo)體設(shè)備投資機(jī)會(huì)!

來看 ,半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn) 化率仍處于低位 ,對于量/檢測 、涂膠顯影 、離子注入設(shè)備等 ,我們預(yù)估 2022 年國產(chǎn)化率仍低于 10%, 國產(chǎn)替代空間較大 。在技術(shù)層面上 , 國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)在薄膜沉積 、刻蝕 、量/檢測 、CMP、清洗等領(lǐng)域均已具備一定先進(jìn)制程設(shè)備技術(shù)
2023-04-17 13:07:06536

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