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      標簽　>　工藝

      工藝

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      宏力半導(dǎo)體與中國多家集成電路設(shè)計孵化基地達成戰(zhàn)略合作協(xié)議

      宏力半導(dǎo)體與中國多家集成電路設(shè)計孵化基地達成戰(zhàn)略合作協(xié)議 上海宏力半導(dǎo)體制造有限公司 (宏力半導(dǎo)體)，近日與中國科學(xué)院EDA中心、上海、西安及深圳等多個集成

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      2024-12-17 標簽：工藝刻蝕 1.3k 0

      傳統(tǒng)鉆削與螺旋銑孔加工工藝有什么不同呢？

      其二，傳統(tǒng)鉆孔加工過程是一個連續(xù)的切削過程，刀刃始終與工件相接觸，切削時接觸面溫度很高，而鈦合金的導(dǎo)熱性差，連續(xù)的切削過程使溫度不斷累積，這也加速了刀具...

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      本文提出了一種新型的雙層光阻劑方法來減少負光阻劑浮渣。選擇正光刻膠作為底層抗蝕劑，選擇負光刻膠作為頂層抗蝕膠。研究了底層抗蝕劑的粘度和厚度對浮渣平均數(shù)量...

      2022-03-24 標簽：工藝參數(shù)光刻 1.3k 0

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      據(jù)早先報道，信維通信認識到高端MLCC的戰(zhàn)略重要性，這一領(lǐng)域在國際上主要由日本、韓國廠商主導(dǎo)，亟待我國自主研發(fā)來滿足國產(chǎn)化需求及實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)自主可控，因此前...

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      半導(dǎo)體行業(yè)的研究人員研究了臭氧對wafer-cleaning的應(yīng)用程序。 來 降低化學(xué)品消耗，降低成本，提高清洗效率，對臭氧進行了研究作為一種替代，傳統(tǒng)...

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      薄晶片已成為各種新型微電子產(chǎn)品的基本需求。 需要更薄的模具來適應(yīng)更薄的包裝。 使用最后的濕蝕刻工藝在背面變薄的晶圓與標準的機械背面磨削相比，應(yīng)力更小。 ...

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      新潔能研發(fā)團隊溝槽型工藝平臺推出耐壓30V 1mΩ級別增強型N溝道MOSFET 系列產(chǎn)品。

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      本文考慮了范德華相互作用的2個數(shù)量級范圍，以考慮了實際粒子的形狀和材料，將這些相互作用與靜電電荷、阻力、表面張力、沖擊波、高加速度和氣溶膠粒子所產(chǎn)生的排...

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      激光，具有單色性、方向性好、亮度高等特點。在工業(yè)領(lǐng)域中，用激光作為能量源的常見應(yīng)用有：激光切割、激光焊接、激光打標、激光清洗等技術(shù)。其中，激光清洗技術(shù)是...

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      電化學(xué)技術(shù)一直被用于理解和提高各種濕式化學(xué)處理步驟的性能，如在集成電路(IC)制造中使用的蝕刻、清洗、鈍化和沖洗。本文的目的是提供幾個例子，說明如何使用...

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