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標簽 > 摩爾定律
摩爾定律是由英特爾（Intel）創(chuàng)始人之一戈登·摩爾（Gordon Moore）提出來的。其內(nèi)容為：當價格不變時，集成電路上可容納的元器件的數(shù)目，約每隔18-24個月便會增加一倍，性能也將提升一倍。
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AI算力需求的暴增，HBM和GDDR SDRAM成為AI芯片新的內(nèi)存方案
然而在此過程中，我們除了看到AI對算力的要求以外，內(nèi)存帶寬也是限制AI芯片發(fā)展的另一個關(guān)鍵要HBM2E成為了AI芯片的一個優(yōu)先選擇，這也是英偉達在Tes...
AI的數(shù)據(jù)中心網(wǎng)絡(luò)以胖樹fat-tree架構(gòu)為主。比超大規(guī)模網(wǎng)絡(luò)的層數(shù)少、在各層之間幾乎無收斂。 fat-tree是業(yè)界普遍認可的實現(xiàn)無阻塞網(wǎng)絡(luò)的技術(shù)，...
2023-06-19 標簽：摩爾定律交換機數(shù)據(jù)中心 3.6k 0
其實“多核”這個詞已經(jīng)流行很多年了，世界上第一款商用的非嵌入式多核處理器是2002年IBM推出的POWER4。
區(qū)別于傳統(tǒng)馮諾依曼架構(gòu)，存算一體架構(gòu)是直接使用存儲器件單元完成乘加計算，無需數(shù)據(jù)讀寫與搬運，可以在極低功耗下完成大規(guī)模的深度學習運算，大大提升運算效率，...
在半導體行業(yè)，有一個傳奇定律：摩爾定律，自提出以來，半導體產(chǎn)業(yè)界在這個規(guī)則指導下迅猛發(fā)展，在短短半個世紀內(nèi)把集成電路制造工藝的特征尺寸從微米量級縮小到納米量級。
什么是量子反?；魻栃?yīng)？量子反?；魻栃?yīng)有多反常？
長時間使用計算機時，會遇到計算機發(fā)熱、能量損耗、速度變慢等問題，這是因為常態(tài)下芯片中的電子運動沒有特定的軌道，它們相互碰撞從而發(fā)生能量損耗。量子霍爾效應(yīng)...
?淺析片上網(wǎng)絡(luò)（NoC）技術(shù)的發(fā)展及其給高端FPGA帶來的優(yōu)勢
在摩爾定律的推動下，集成電路工藝取得了高速發(fā)展，單位面積上的晶體管數(shù)量不斷增加。
2024-04-02 標簽：FPGA摩爾定律數(shù)據(jù)傳輸 3.4k 0
摩爾定律可能不再有效，因為技術(shù)進步已達到極限，并且由于使用極紫外 (EUV) 光刻系統(tǒng)等昂貴設(shè)備而導致成本上升。與此同時，市場對不斷完善的半導體技術(shù)的需...
過去幾年，采用多線程或多內(nèi)核CPU的微處理器架構(gòu)有了長足的發(fā)展?，F(xiàn)在它們已經(jīng)成為臺式電腦的標準配置，并且在高端嵌入式市場的CPU中也已非常普及。這種發(fā)展...
在摩爾定律的指導下，集成電路的制造工藝一直在往前演進。得意于這幾年智能手機的流行，大家對節(jié)點了解甚多。例如40 nm、28 nm、20 nm、16 nm...
過去幾十年來，在摩爾定律的推動下，處理器的性能有了顯著提高。然而，傳統(tǒng)的計算架構(gòu)將數(shù)據(jù)的處理和存儲分離開來，隨著以數(shù)據(jù)為中心的計算（如機器學習）的發(fā)展，...
人工智能和機器學習的爆炸式發(fā)展正在改變計算的本質(zhì)
Young認為，由于傳統(tǒng)芯片難以實現(xiàn)更高的性能和效率，來自AI研究人員的需求正在激增。他一口氣列舉了一些數(shù)據(jù)：arXiv上關(guān)于機器學習的學術(shù)論文數(shù)量每1...
在3D實現(xiàn)方面，存儲器比邏輯更早進入實用階段。NAND閃存率先邁向3D 。隨著目前量產(chǎn)的20-15nm工藝，所有公司都放棄了小型化，轉(zhuǎn)而轉(zhuǎn)向存儲單元的三...
摩爾定律帶來的收益并沒有保證，而是通過商業(yè)界、學術(shù)界和政府之間的獨創(chuàng)性和密切合作實現(xiàn)的。如今，集成電路設(shè)計成本的不斷上升、外國投資的不斷增加，以及硬件的...
2019-08-29 標簽：集成電路摩爾定律傳輸數(shù)據(jù) 3.2k 0
本文從石墨烯基薄膜的制備方法和影響其散熱性能的關(guān)鍵因素等方面綜述了近年來石墨烯基薄膜的研究進展。很難找出哪種原料或方法對熱管理是最好的。每種方法都存在與...
半導體行業(yè)產(chǎn)生深遠影響的定律：摩爾定律！
有人猜測芯片密度可能會超過摩爾定律的預(yù)測。佐治亞理工學院的微系統(tǒng)封裝研究指出，2004年每平方厘米約有50個組件，到2020年，組件密度將攀升至每平方厘...
光照條件的設(shè)置、掩模版設(shè)計以及光刻膠工藝等因素對分辨率的影響都反映在k?因子中，k?因子也常被用于評估光刻工藝的難度，ASML認為其物理極限在0.25，...
摩爾定律終結(jié)了嗎_摩爾定律或在2021終結(jié)
摩爾定律是由英特爾創(chuàng)始人之一戈登·摩爾提出來的。其內(nèi)容為：當價格不變時，集成電路上可容納的元器件的數(shù)目，約每隔18-24個月便會增加一倍，性能也將提升一...
光源掩模協(xié)同優(yōu)化的原理與應(yīng)用
由于SMO優(yōu)化的結(jié)果是要應(yīng)用到整塊芯片上去的，而對所有的圖形進行SMO是極為耗時的，因此，我們需要使用關(guān)鍵圖形篩選技術(shù)提前將重復或者冗余的圖形剔除，以保...
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