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標(biāo)簽 > 摩爾定律
摩爾定律是由英特爾(Intel)創(chuàng)始人之一戈登·摩爾(Gordon Moore)提出來的。其內(nèi)容為:當(dāng)價(jià)格不變時(shí),集成電路上可容納的元器件的數(shù)目,約每隔18-24個(gè)月便會(huì)增加一倍,性能也將提升一倍。
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UAI-Inference還和英特爾合作,使用了性能更佳的AI框架——面向英特爾架構(gòu)優(yōu)化的Caffe框架,從而更好地支持英特爾至強(qiáng)處理器產(chǎn)品家族和至強(qiáng)融...
過去的一年,我們?cè)谔幚砥魇袌?chǎng)看到了AMD的崛起和Intel的頹勢(shì)。Intel的7nm工藝遲遲沒有進(jìn)展,而AMD卻搶先發(fā)布了第一款基于7nm的處理器。到了...
肖特基的硅片上制作孔專利 此后, IBM開始在集成電路領(lǐng)域發(fā)力,并在垂直電互連方面取得了突破。
TSV 指 Through Silicon Via,硅通孔技術(shù),是通過硅通道垂直穿過組成堆棧的不同芯片或不同層實(shí)現(xiàn)不同功能芯片集成的先進(jìn)封裝技術(shù)。TSV...
總結(jié)深度學(xué)習(xí),GPU推理性能提升的三大因素
2017年,英偉達(dá)推出了適用于深度學(xué)習(xí)的Volta架構(gòu),它的設(shè)計(jì)重點(diǎn)之一是可以更好地分?jǐn)傊噶铋_銷。Volta架構(gòu)中引入了Tensor Core,用于深度...
2022-09-21 標(biāo)簽:摩爾定律gpu深度學(xué)習(xí) 4.2k 0
盤點(diǎn)DARPA對(duì)摩爾定律長(zhǎng)日將盡時(shí)分的未雨綢繆
DARPA今年會(huì)議聚焦于集成線路設(shè)計(jì),為美國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)在摩爾定律走向極限后做未雨綢繆。
AI 算力、低功耗等對(duì)服務(wù)器算力芯片提出新的要求,英偉達(dá) GH200 有望加速全球 AI 服務(wù)器算力芯片市場(chǎng)變革,中國(guó)芯片企業(yè)在面臨挑戰(zhàn)的同時(shí),也有望迎...
深度探討人工智能時(shí)代的趨勢(shì)與機(jī)遇
數(shù)據(jù)年復(fù)合增長(zhǎng)50%,它是一個(gè)復(fù)利增長(zhǎng);而根據(jù)摩爾定律,運(yùn)算能力也是每1.5年-2年翻番,數(shù)據(jù)和運(yùn)算能力成咬合級(jí)、指數(shù)級(jí)提升,正好到了一個(gè)突破和臨界點(diǎn),...
服從摩爾定律的超級(jí)計(jì)算機(jī)計(jì)算能力分析
第一臺(tái)通用電子計(jì)算機(jī)ENIAC在1946年投入使用(圖1),它使用了大約2萬根真空三極管,占用了一間大房子(167 m2),耗電150 kW,計(jì)算能力僅...
2022-07-07 標(biāo)簽:三極管摩爾定律超級(jí)計(jì)算機(jī) 4.1k 0
一片硅晶圓對(duì)全球半導(dǎo)體市場(chǎng)的影響分析
作為百億美元級(jí)別的行業(yè),半導(dǎo)體材料的市場(chǎng)規(guī)模不算很大,但其內(nèi)部材料種類繁多,單一產(chǎn)品市場(chǎng)規(guī)模小、技術(shù)要求高、子行業(yè)之間差異較大。其中硅片占比半導(dǎo)體材料市...
電子基礎(chǔ)知識(shí):摩爾定律相關(guān)知識(shí)詳解
摩爾定律是由英特爾(Intel)創(chuàng)始人之一戈登?摩爾(GordonMoore)提出來的。其內(nèi)容為:集成電路上可容納的晶體管數(shù)目,約每隔18個(gè)月便會(huì)增加一...
此外,ISP作為AR相關(guān)的重要模塊,可能會(huì)有新的模塊和功能加入。例如為了實(shí)現(xiàn)AR中需要的定位、位置關(guān)系建模等,往往需要計(jì)算光流(optical flow...
詳解 SiP 技術(shù)體系中的三駕創(chuàng)新馬車
目前從技術(shù)發(fā)展的趨勢(shì)來看,雙面塑模成型技術(shù)、電磁干擾屏蔽技術(shù)、激光輔助鍵合技術(shù)可以并稱為拉動(dòng)系統(tǒng)級(jí)封裝技術(shù)發(fā)展的“三駕創(chuàng)新馬車”。
摩爾定律難以維持,芯片進(jìn)入異構(gòu)驅(qū)動(dòng)的世界
摩爾定律處于失效的狀態(tài),計(jì)算機(jī)領(lǐng)域正經(jīng)歷著重要的變革,這導(dǎo)致人們對(duì)異構(gòu)計(jì)算的需求與日俱增,從而在不用改變?nèi)魏蔚讓蛹軜?gòu)的情況下能夠適應(yīng)手頭的工作量。
如果工藝制程繼續(xù)按照摩爾定律所說的以指數(shù)級(jí)的速度縮小特征尺寸,會(huì)遇到兩個(gè)阻礙,首先是經(jīng)濟(jì)學(xué)的阻礙,其次是物理學(xué)的阻礙。 經(jīng)濟(jì)學(xué)的阻礙是,隨著特征尺寸縮小...
為了應(yīng)對(duì)未來微電子技術(shù)即將面臨的挑戰(zhàn),美國(guó)國(guó)防部提出了電子復(fù)興計(jì)劃,通過資助新興技術(shù),來尋求摩爾定律盡頭的出路,而目前已進(jìn)入第二階段。
先進(jìn)封裝/Chiplet如何提升晶圓制造工藝的良率
芯片升級(jí)的兩個(gè)永恒主題:性能、體積/面積。芯片技術(shù)的發(fā)展,推動(dòng)著芯片朝著高性能和輕薄化兩個(gè)方向提升。而先進(jìn)制程和先進(jìn)封裝的進(jìn)步,均能夠使得芯片向著高性能...
傳統(tǒng)封裝技術(shù)與先進(jìn)封裝技術(shù)的優(yōu)劣勢(shì)
D chiplet設(shè)計(jì)中,多層結(jié)構(gòu)會(huì)導(dǎo)致下層芯片散熱題。常見的解決方案是使用散熱蓋來增強(qiáng)芯片的散熱效果,或采用風(fēng)冷或水冷等主動(dòng)散熱。
一文解讀"集成電路三大發(fā)展方向"
在單位面積內(nèi)集成更多的晶體管就需要將晶體管做的更小,幾十年來,在摩爾定律的推動(dòng)下,晶體管的特征尺寸從毫米級(jí)到微米級(jí)再到納米級(jí),尺寸縮小了百萬倍。今天,在...
摩爾定律的提出也推動(dòng)了集成電路制造的快速發(fā)展。這一定律指出,集成電路中的晶體管數(shù)量每隔一段時(shí)間便會(huì)翻倍,促進(jìn)了芯片尺寸的不斷縮小和性能的不斷提升。
2024-01-10 標(biāo)簽:集成電路摩爾定律物聯(lián)網(wǎng) 3.6k 0
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