SC-l和piranha(H2SO4/H2O2)清潔劑已經(jīng)使用多年來(lái)去除顆粒和有機(jī)污染物。盡管SC-1清潔劑(通常與施加的兆頻超聲波功率一起使用)被認(rèn)為對(duì)顆粒去除非常有效，但去除機(jī)制仍不清楚。對(duì)于去
2021-12-20 09:41:59
2462 
和去除的作用。清潔溶液。加入檸檬酸后，由于檸檬酸鹽的吸附作用，二氧化硅和銅的ζ電位略有增加。檸檬酸被吸附在二氧化硅和銅表面，導(dǎo)致這些表面上有更多的負(fù)電荷。二氧化硅顆粒對(duì)銅的附著力隨著檸檬酸濃度的增加而降低，這是
2021-12-29 11:00:012031 
提供了一種在單個(gè)晶片清潔系統(tǒng)中去除后處理殘留物的方法。該方法開(kāi)始于向設(shè)置在襯底上方的鄰近頭提供第一加熱流體。然后，在基板的表面和鄰近頭的相對(duì)表面之間產(chǎn)生第一流體的彎液面?；逶诮咏^下方線性移動(dòng)。還提供了單晶片清潔系統(tǒng)。
2022-03-22 14:11:042063 
RCA標(biāo)準(zhǔn)清潔，在去除硅表面污染方面非常有效。RCA清潔包括兩個(gè)順序步驟：標(biāo)準(zhǔn)清潔1（SC-1）和標(biāo)準(zhǔn)清潔2（SC-2）。SC-1溶液由氫氧化銨、過(guò)氧化氫和水的混合物組成，是迄今為止發(fā)現(xiàn)的最有
2022-03-29 14:56:213119 
摘要 本研究開(kāi)發(fā)了一種低擁有成本的臭氧去離子水清洗工藝。室溫下40 ppm的臭氧濃度用于去除有機(jī)蠟?zāi)ず?b class="flag-6" style="color: red">顆粒。僅經(jīng)過(guò)商業(yè)脫蠟處理后，仍殘留有厚度超過(guò)200的蠟殘留物。由于臭氧的擴(kuò)散限制反應(yīng)，代替脫蠟器
2022-04-27 16:55:522760 
的顆粒去除效率。在大約0.05∶1∶5(0.05份nh4oh、1份H2O、5份H2O)的比率下，優(yōu)化了nh4oh-1-zO溶液中的nh4oh-1∶5的IH含量。在使用該比率的NHdOH-hzo tFt處理期間，通過(guò)表面微觀粗糙度測(cè)量的損傷沒(méi)有增加。 介紹 QT清洗技術(shù)將繼續(xù)在半導(dǎo)體器件的ULSI制造中
2022-06-01 14:57:577869 
在整個(gè)晶圓加工過(guò)程中，仔細(xì)維護(hù)清潔的晶圓表面對(duì)于在半導(dǎo)體器件制造中獲得高產(chǎn)量至關(guān)重要。因此，濕式化學(xué)清洗以去除晶片表面的污染物是任何LSI制造序列中應(yīng)用最重復(fù)的處理步驟。
2023-03-30 10:00:093125 
? 清潔電器市場(chǎng)正處于技術(shù)迭代與產(chǎn)品創(chuàng)新雙輪驅(qū)動(dòng)的關(guān)鍵階段，智能化升級(jí)、功能集成化及成本優(yōu)化需求交織，推動(dòng)行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)格局加速重構(gòu)。在此背景下，如何精準(zhǔn)匹配不同清潔電器品類的技術(shù)特性，選擇兼具算力支撐
2025-09-15 11:51:246727 
大家好，我的主板上設(shè)計(jì)的是1.5V，之前焊接的也是1.5V的DDR顆粒，現(xiàn)在要是不動(dòng)主板直接把DDR顆粒換成1.35V的，可有什么潛在的問(wèn)題，這1.35V的DDR我看手冊(cè)也是支持DDR3L的，都是
2018-06-21 01:27:24
;>2012年阿姆斯特丹國(guó)際清潔與維護(hù)展覽會(huì)<br/>【展覽時(shí)間】： 2012年5月8-11日<br/>【展覽地點(diǎn)】：荷蘭阿姆斯特丹
2010-11-13 10:22:00
清潔焊接頭不僅可以保持最佳效率，還可以延長(zhǎng)其使用壽命。只需按照以下三個(gè)步驟操作即可確保焊頭保持清潔。第一步：嘗試使用黃銅海綿或銅編織物，通過(guò)插入尖端并扭轉(zhuǎn)幾次來(lái)清除任何顆粒或氧化物。如果沒(méi)有清潔它
2018-10-30 14:23:23
關(guān)于清潔度的標(biāo)準(zhǔn)是什么？關(guān)于IPC清潔度有哪些要求？
2021-04-20 06:35:47
圖像處理的形態(tài)學(xué)是處理二值圖，下面程序首先對(duì)圖像進(jìn)行二值化處理，然后使用形態(tài)學(xué)函數(shù)的IMAQ RemoveParticle進(jìn)行圖像去除部分顆粒，端子Number of Erosion可以控制移除
2015-08-12 21:00:09
有時(shí)候，SH（SPM）后，會(huì)引入較多顆粒，一般在后面的FSI清洗中可以去除95%，但有的時(shí)候SH去膠后引入的顆粒，用FSI清洗無(wú)法去除，不知為何？有哪位同仁知道的請(qǐng)指點(diǎn)。
2011-04-14 10:44:26
有時(shí)候，SH（SPM）后，會(huì)引入較多顆粒，一般在后面的FSI清洗中可以去除95%，但有的時(shí)候SH去膠后引入的顆粒，用FSI清洗無(wú)法去除，不知為何？有哪位同仁知道的請(qǐng)指點(diǎn)。
2011-04-14 14:37:09
我想采購(gòu)intel的flash或者東芝的flash顆粒，誰(shuí)能告知相關(guān)的聯(lián)系?。》浅８兄x
2017-02-24 11:46:51
我編了一個(gè)程序，事件循環(huán)結(jié)構(gòu)，沒(méi)有像labview風(fēng)格那樣用很多移位寄存器，代之以大量局部變量。請(qǐng)問(wèn)各位大師，用大量局部變量的做法會(huì)不會(huì)影響程序運(yùn)行效率？和移位寄存器相比，兩種方法各有什么優(yōu)缺點(diǎn)？請(qǐng)從效率，可讀性，內(nèi)存空間復(fù)雜度等角度分析一下
2012-04-05 15:34:12
，但顯然值得更多的關(guān)注用于商業(yè)利用和實(shí)施。本文綜述了臭氧化去離子水（DI-O3 水）在硅片表面制備中的應(yīng)用，包括去除有機(jī)雜質(zhì)、金屬污染物和顆粒以及光刻膠剝離。 介紹自半導(dǎo)體技術(shù)起源以來(lái)，清潔襯底表面在
2021-07-06 09:36:27
顆粒活性炭濾芯以優(yōu)質(zhì)的果殼炭及煤質(zhì)活性炭為原料，輔以食用級(jí)粘合劑，采用高科技技術(shù)，經(jīng)特殊工藝加工而成，它集吸附、過(guò)濾、截獲、催化作用于一體，能有效去除水中的有機(jī)物、余氯及其他放射性物質(zhì)，并有脫色
2015-04-30 14:26:45
回收內(nèi)存顆粒 收購(gòu)內(nèi)存顆粒 長(zhǎng)期回收內(nèi)存顆粒,高價(jià)收購(gòu)內(nèi)存顆粒，優(yōu)勢(shì)收購(gòu)內(nèi)存顆粒，實(shí)力收購(gòu)內(nèi)存顆粒！！帝歐電子 ★☆ 趙先生 TEL:***QQ：879821252? 專業(yè)回收f(shuō)lash現(xiàn)代
2020-12-16 17:31:39
回收內(nèi)存顆粒 收購(gòu)內(nèi)存顆粒 長(zhǎng)期回收內(nèi)存顆粒,高價(jià)收購(gòu)內(nèi)存顆粒，優(yōu)勢(shì)收購(gòu)內(nèi)存顆粒，實(shí)力收購(gòu)內(nèi)存顆粒！！帝歐電子 ★☆ 趙先生 TEL:***QQ：879821252? 專業(yè)回收f(shuō)lash現(xiàn)代
2021-01-11 18:16:12
協(xié)助生產(chǎn)和品質(zhì)部門(mén)提高工作效率和降低不良率?？蛻舭咐持娎|生產(chǎn)商，內(nèi)部定的標(biāo)準(zhǔn)為＜100 RFU即為合格，利用析塔表面清潔度儀，測(cè)試鋁箔激光去除麥拉后，其清潔程度是否達(dá)到合格范圍。（RFU
2021-04-23 10:06:10
RCA-00-A pdf datasheet
2009-01-12 15:02:00
19 顆粒物過(guò)濾效率測(cè)試儀-細(xì)菌過(guò)濾效率測(cè)試儀細(xì)菌過(guò)濾效率測(cè)試儀一、適用標(biāo)準(zhǔn)：YY 0469-2011 醫(yī)用外科口罩4.6.1章節(jié)；附錄BYY/T 0969-2013一次性使用醫(yī)用口罩4.5章節(jié)。二、功能
2022-12-19 13:58:33
本儀器可以對(duì)油液顆粒度、清潔度和污染物監(jiān)測(cè)和分析；各類飛行器燃料油、航空潤(rùn)滑油、磷酸酯鹽類液壓油（腐蝕性）中不溶性微粒顆粒雜質(zhì)的檢測(cè)和評(píng)判，軍事保障設(shè)備及其日常維護(hù)和保養(yǎng)；戰(zhàn)備裝備部件中的磨損試驗(yàn)
2023-01-16 10:59:51
本儀器可以對(duì)油液顆粒度、清潔度和污染物監(jiān)測(cè)和分析；各類飛行器燃料油、航空潤(rùn)滑油、磷酸酯鹽類液壓油（腐蝕性）中不溶性微粒顆粒雜質(zhì)的檢測(cè)和評(píng)判，軍事保障設(shè)備及其日常維護(hù)和保養(yǎng)；戰(zhàn)備裝備部件中的磨損試驗(yàn)
2023-02-09 08:41:25
著名國(guó)外膽機(jī)RCA U-109電路鑒析:著名的美國(guó)無(wú)線電公司(Radio Corporation of America，簡(jiǎn)稱RCA公司)在20世紀(jì)初即開(kāi)始從事各種無(wú)線電和電器產(chǎn)品的研制與開(kāi)發(fā)。其中，RCA U-1 09古典型電子管
2009-12-02 14:53:030 PMT-2擦拭布液體顆粒計(jì)數(shù)器，采用英國(guó)普洛帝核心技術(shù)創(chuàng)新型的第八代雙激光窄光顆粒檢測(cè)傳感器，雙精準(zhǔn)流量控制-精密計(jì)量柱塞泵和超精密流量電磁控制系統(tǒng)，可以對(duì)清潔產(chǎn)品濕態(tài)發(fā)塵量、潔凈室
2023-06-08 15:56:10
GL-1000 口罩顆粒物過(guò)濾效率測(cè)試儀是用于檢測(cè)防護(hù)口罩的過(guò)濾性能，防護(hù)過(guò)濾效率，過(guò)濾效果的檢測(cè)裝置，目前針對(duì)于口罩主要是分為空氣過(guò)濾式口罩和供氣式口罩。本檢測(cè)儀器適用于醫(yī)療器械檢驗(yàn)中心、安全
2023-11-14 15:55:20
MU-K1030口罩、熔噴布顆粒物過(guò)濾效率測(cè)試儀MU-K1030口罩、熔噴布顆粒物過(guò)濾效率測(cè)試儀用于日常防護(hù)型口罩和呼吸器對(duì)顆粒物的過(guò)濾效率的測(cè)試。適用于醫(yī)療器械檢驗(yàn)中心、安全防護(hù)檢驗(yàn)中心、勞動(dòng)防護(hù)
2023-12-06 14:45:44
BNC對(duì)RCA轉(zhuǎn)接頭
型號(hào)：MODEL 8061
2008-01-22 14:20:452780 RCA U-109功放電路圖
2009-12-02 15:02:063916 
車(chē)載功放的RCA輸入輸出 RCA輸入輸出是車(chē)載功放最主要的音頻輸入和輸出接口，當(dāng)然還有其他接線柱等
2010-01-04 11:20:556966 RCA9202A數(shù)據(jù)手冊(cè)，感興趣的可以瞧一瞧。
2016-11-09 18:15:431 放到酒精中清洗，去除氣泡，測(cè)量結(jié)果會(huì)更準(zhǔn)確! 為什么在塑料顆粒在測(cè)量前要清洗呢? 因?yàn)椴煌乃芰?b class="flag-6" style="color: red">顆粒的橫切面光滑度不同，切面不平整，毛邊較大，切面有孔隙等，導(dǎo)致在水中產(chǎn)生不同程度的氣泡。氣泡會(huì)導(dǎo)致浮力超過(guò)理論值、
2021-10-18 15:20:011286 它們已經(jīng)成為當(dāng)今晶片清潔應(yīng)用的主要工具之一。 本文重點(diǎn)研究了納米顆粒刷洗滌器清洗過(guò)程中的顆粒去除機(jī)理并研究了從氮化物基質(zhì)中去除平均尺寸為34nm的透明二氧化硅顆粒的方法。在洗滌器清洗后，檢查晶片上顆粒徑向表面濃度
2022-01-18 15:55:30984 
摘要 本研究開(kāi)發(fā)了一種低擁有成本的臭氧去離子水清洗工藝。室溫下40 ppm的臭氧濃度用于去除有機(jī)蠟?zāi)ず?b class="flag-6" style="color: red">顆粒。僅經(jīng)過(guò)商業(yè)脫蠟處理后，仍殘留有厚度超過(guò)200的蠟殘留物。由于臭氧的擴(kuò)散限制反應(yīng)，代替脫蠟器
2022-01-26 16:02:02905 
為了滿足更嚴(yán)格的晶圓清潔度要求、新出現(xiàn)的環(huán)境問(wèn)題和更嚴(yán)格的成本效益標(biāo)準(zhǔn)，晶圓清潔技術(shù)正慢慢遠(yuǎn)離傳統(tǒng)的基于RCA的工藝。本文比較了在同一個(gè)濕式臺(tái)架上進(jìn)行的不同先進(jìn)預(yù)澆口清洗工藝的清洗效率。稀釋RCA
2022-02-10 16:17:55798 
納米。另一方面，在2008年發(fā)表的報(bào)告中，對(duì)于32納米高壓線和空間圖案，EUV掩模上吸收體缺陷的臨界缺陷尺寸被描述為大約24納米，這意味著必須去除具有相同尺寸的顆粒。在如此嚴(yán)格的缺陷要求下，清潔
2022-02-17 14:59:272551 
研究了在半導(dǎo)體制造過(guò)程中使用的酸和堿溶液從硅片表面去除粒子。 結(jié)果表明，堿性溶液的顆粒去除效率優(yōu)于酸性溶液。 在堿性溶液中，顆粒去除的機(jī)理已被證實(shí)如下:溶液腐蝕晶圓表面以剝離顆粒，然后顆粒被電排斥到晶圓表面。 實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明，需要0.25 nm /min以上的刻蝕速率才能使吸附在晶圓表面的顆粒脫落。
2022-02-17 16:24:273169 
SC-l和piranha(H2SO4/H2O2)清潔劑已經(jīng)使用多年來(lái)去除顆粒和有機(jī)污染物。盡管SC-1清潔劑(通常與施加的兆頻超聲波功率一起使用)被認(rèn)為對(duì)顆粒去除非常有效，但去除機(jī)制仍不清楚。對(duì)于去
2022-02-23 13:26:323251 
摘要 已經(jīng)為光刻前背面清洗工藝開(kāi)發(fā)了具有全覆蓋背面兆聲波的單晶片清洗系統(tǒng)。背面顆粒去除效率 (PRE)僅使用 DIW 即可在 ≥65nm 處實(shí)現(xiàn)大于 95% 的 Si3N4 顆粒，這表明使用全覆蓋兆
2022-03-03 14:17:111215 
的方法。使用氣體沉積方法將直徑為幾納米到幾百納米的超細(xì)金屬顆粒沉積在硅表面。研究了使用各種清潔溶液去除超細(xì)顆粒的效率。APM（NH4OH~H2O2-H2O）清洗可以去除150nm的Au顆粒，但不能去除直徑小于幾十納米的超細(xì)Au顆粒。此外，當(dāng)執(zhí)行 DHF-H2O2 清洗
2022-03-03 14:17:36830 
本文介紹了用兆頻超聲波能量從有機(jī)溶劑中的硅片上去除顆粒的實(shí)驗(yàn)。納米粒子首先通過(guò)可控污染工藝沉積在硅晶片上。對(duì)于新沉積和老化的顆粒，研究了作為兆頻超聲波功率的函數(shù)的顆粒去除效率。通過(guò)改變處理?xiàng)l件和漂洗
2022-03-07 15:26:561335 
應(yīng)用兆頻超聲波能量去除顆粒已被證明是一種非常有效的非接觸式清潔方法。對(duì)晶片表面的清潔同樣重要的是干燥過(guò)程。一種非常常見(jiàn)的方法是高速旋轉(zhuǎn)干燥，但從減少顆粒和防止水痕的角度來(lái)看，這都是無(wú)效的。一種高性能的替代品是基于旋轉(zhuǎn)力和馬蘭戈尼力的“旋轉(zhuǎn)戈尼”干燥器。這兩種技術(shù)的結(jié)合為清洗和干燥晶片提供了有效的平臺(tái)。
2022-03-15 11:27:481797 
為了滿足更嚴(yán)格的晶圓清潔度要求、新出現(xiàn)的環(huán)境問(wèn)題和更嚴(yán)格的成本效益標(biāo)準(zhǔn)，晶圓清潔技術(shù)正慢慢遠(yuǎn)離傳統(tǒng)的基于RCA的工藝。本文比較了在同一個(gè)濕式臺(tái)架上進(jìn)行的不同先進(jìn)預(yù)澆口清洗工藝的清洗效率。稀釋RCA
2022-03-17 15:42:232270 隨著LSI的精細(xì)化，晶片的清洗技術(shù)越來(lái)越重要。晶片清洗技術(shù)的一個(gè)重要特性是如何在整個(gè)過(guò)程中去除刨花板或重金屬，以及在這個(gè)清洗過(guò)程本身中抑制刨花板的去除和缺陷的發(fā)生。作為晶片的清洗技術(shù)，目前也在使用水槽式清洗，用于清洗的藥品從鐘來(lái)看，RCA清洗是主流。
2022-03-18 14:11:12924 
RCA標(biāo)準(zhǔn)清潔，在去除硅表面污染方面非常有效。RCA清潔包括兩個(gè)順序步驟：標(biāo)準(zhǔn)清潔1（SC-1）和標(biāo)準(zhǔn)清潔2（SC-2）。SC-1溶液由氫氧化銨、過(guò)氧化氫和水的混合物組成，是迄今為止發(fā)現(xiàn)的最有
2022-03-25 17:01:255482 
介紹 RCA標(biāo)準(zhǔn)清潔，在去除硅表面污染方面非常有效。RCA清潔包括兩個(gè)順序步驟：標(biāo)準(zhǔn)清潔1（SC-1）和標(biāo)準(zhǔn)清潔2（SC-2）。SC-1溶液由氫氧化銨、過(guò)氧化氫和水的混合物組成，是迄今為止發(fā)現(xiàn)的最有
2022-03-25 17:02:504271 
對(duì)于亞微米或深亞微米 ULSI 的制造，完全抑制在硅晶片表面產(chǎn)生的顆粒和污染非常重要。清潔需求的傳統(tǒng)概念是使用化學(xué)成分（APM、氨和過(guò)氧化氫混合物）發(fā)揮主要作用。不幸的是，SC-1 (APM) 對(duì)表
2022-03-30 14:29:42816 
處理納米級(jí)顆粒污染仍然是半導(dǎo)體器件制造過(guò)程中的主要挑戰(zhàn)之一。對(duì)于越來(lái)越多的關(guān)鍵處理步驟而言尤其如此，在這些步驟中，需要去除顆粒物質(zhì)的殘留物而不會(huì)對(duì)敏感器件圖案造成機(jī)械損壞，同時(shí)實(shí)現(xiàn)盡可能低的基板損失
2022-03-31 14:59:40694 
為了成功地清除來(lái)自晶片表面的顆粒污染，有必要了解顆粒與接觸的基底之間的附著力和變形,變形亞微米顆粒的粘附和去除機(jī)理在以往的許多研究中尚未得到闡明。亞微米聚苯乙烯乳膠顆粒（0.1-0.5mm）沉積
2022-04-06 16:53:501787 
過(guò)程的內(nèi)在能力和局限性。已經(jīng)確定了三種顆粒去除過(guò)程——能夠去除所有顆粒尺寸和類型的通用過(guò)程，甚至來(lái)自圖案晶片，具有相同理論能力但實(shí)際上受到粒子可及性的限制，最后是無(wú)法去除所有顆粒尺寸的清洗。 通過(guò)計(jì)算施加給細(xì)顆粒的
2022-04-08 17:22:531958 
能力和局限性。已經(jīng)確定了三種顆粒去除過(guò)程——能夠去除所有顆粒尺寸和類型的通用過(guò)程，甚至來(lái)自圖案晶片，具有相同理論能力但實(shí)際上受到粒子可及性的限制，最后是無(wú)法去除所有顆粒尺寸的清洗。
2022-04-11 16:48:421429 
通過(guò)使半導(dǎo)體制造工藝中澆口蝕刻后生成的聚合物去除順暢，可以簡(jiǎn)化后處理序列，從而縮短前工藝處理時(shí)間，上述感光膜去除方法是:在工藝室內(nèi)晶片被抬起的情況下，用CF4+O2等離子體去除聚合物的步驟；將晶片安放在板上，然后用O2等離子體去除感光膜的步驟；和RCA清洗步驟。
2022-04-11 17:02:431567 
本發(fā)明涉及一種感光膜去除方法，通過(guò)使半導(dǎo)體制造工藝中澆口蝕刻后生成的聚合物去除順暢，可以簡(jiǎn)化后處理序列，從而縮短前工藝處理時(shí)間，上述感光膜去除方法是:在工藝室內(nèi)晶片被抬起的情況下，用CF4+O2等離子體去除聚合物的步驟； 將晶片安放在板上，然后用O2等離子體去除感光膜的步驟； 和RCA清洗步驟。
2022-04-12 16:30:26856 
引言 半導(dǎo)體制造過(guò)程中，在每個(gè)過(guò)程前后實(shí)施的清洗過(guò)程約占整個(gè)過(guò)程的30%，是重要的過(guò)程之一。特別是以RCA清潔為基礎(chǔ)的濕式清潔工藝，除了化學(xué)液的過(guò)度使用、設(shè)備的巨大化、廢水造成的環(huán)境污染等問(wèn)題外
2022-04-13 16:47:472260 
RCA清洗技術(shù)是用于清洗硅晶圓等的技術(shù)，由于其高可靠性，30多年來(lái)一直被用于半導(dǎo)體和平板顯示器(FPD)領(lǐng)域的清洗。其基礎(chǔ)是以除去顆粒為目的的氨水-過(guò)氧化氫溶液組成的SC―1洗滌和以除去金屬雜質(zhì)為
2022-04-21 12:26:572394 
的結(jié)果，顯示顆粒去除效率的晶片，清潔性能的順序是水> NMP > EGEE > THFA，在晶片中心觀察到較高的清洗效率，這主要是由于實(shí)驗(yàn)部分中描述的工藝配方幾何因素，根據(jù)這些幾何因素，可以計(jì)算出局部噴霧暴露時(shí)間，作為徑向位置的函數(shù)，R(方程式1)。
2022-05-07 13:46:481203 
化學(xué)機(jī)械平面化后的葉片清洗，特別是刷子擦洗，是半導(dǎo)體器件制造的一個(gè)關(guān)鍵步驟，尚未得到充分了解。臨界粒子雷諾數(shù)方法用于評(píng)估在刷擦洗過(guò)程中去除晶圓表面的粘附顆粒，或者是否必須發(fā)生刷-粒子接觸?？紤]了直徑
2022-05-07 15:48:382539 
，相反氫氧化銨會(huì)慢慢腐蝕這種化學(xué)生長(zhǎng)的氧化物，這兩個(gè)過(guò)程的結(jié)果是化學(xué)氧化層將不斷產(chǎn)生和去除。因此顆粒通過(guò)這種蝕刻和底切作用被去除，顆粒去除效率可以通過(guò)增加二氧化硅的蝕刻速率來(lái)增加。
2022-05-18 17:12:591455 
評(píng)估各種清洗技術(shù)的典型方法是在晶片表面沉積氮化硅(Si，N4)顆粒，然后通過(guò)所需的清洗工藝處理晶片。國(guó)家半導(dǎo)體技術(shù)路線圖規(guī)定了從硅片上去除顆粒百分比的標(biāo)準(zhǔn)挑戰(zhàn)，該挑戰(zhàn)基于添加到硅片上的“>
2022-05-25 17:11:382023 
半導(dǎo)體器件制造中涉及的一個(gè)步驟是在進(jìn)一步的處理步驟，例如，在形成柵極氧化物之前。進(jìn)行這種清洗是為了去除顆粒污染物、有機(jī)物和/或金屬以及任何天然氧化物，這兩者都會(huì)干擾后續(xù)處理。特別是清潔不充分是對(duì)柵極
2022-06-21 17:07:392771 
介紹 在IC制造中，從晶圓背面(BS)去除顆粒變得與從正面(FS)去除顆粒一樣重要。例如，在光刻過(guò)程中，； BS顆粒會(huì)導(dǎo)致頂側(cè)表面形貌的變化。由于焦深(DOF)的處理窗口減小，這可能導(dǎo)致焦點(diǎn)故障
2022-06-27 18:54:411626 
本文描述了我們?nèi)A林科納單晶片超電子清洗方法的開(kāi)發(fā)、測(cè)試和驗(yàn)證，該傳感器設(shè)計(jì)滿足極端顆粒中性、顆粒去除效率(PRE)和生產(chǎn)規(guī)模晶片粘合的可重復(fù)性要求，以及其他需要極低顆粒水平的應(yīng)用。不同的微電子過(guò)程
2022-06-28 17:25:041401 
用半導(dǎo)體制造中的清洗過(guò)程中使用的酸和堿溶液研究了硅片表面的顆粒去除。
2022-07-05 17:20:172988 
溶液中顆粒和晶片表面之間發(fā)生的基本相互作用是范德華力(分子相互作用)和靜電力(雙電層的相互作用)。近年來(lái)，與符合上述兩種作用的溶液中的晶片表面上的顆粒粘附機(jī)制相關(guān)的研究蓬勃發(fā)展，并為闡明顆粒粘附機(jī)制做了大量工作。
2022-07-13 17:18:442382 
集成設(shè)備制造的縮小圖案要求濕化學(xué)加工的表面清潔度和表面光滑度，特別是對(duì)于常見(jiàn)的清潔技術(shù)RCA清潔（SC-1和SC-2）。本文討論了表面制備參數(shù)的特性和影響。
2023-05-06 14:25:041432 
由于成本優(yōu)化工藝是光伏行業(yè)的主要目標(biāo)，簡(jiǎn)單的、具有內(nèi)聯(lián)能力的清潔可以替代成本和時(shí)間密集型的濕化學(xué)清潔方法，如來(lái)自微電子應(yīng)用的RCA清潔。
2023-05-06 11:06:401715 
中特計(jì)量檢測(cè)研究院的顆粒管控業(yè)務(wù)群為中國(guó)航天事業(yè)添磚加瓦，顆粒管控業(yè)務(wù)群技術(shù)及產(chǎn)品遍布航天飛行器的各個(gè)研制單位，代表其新技術(shù)、新產(chǎn)品的工業(yè)4.0清潔管控系統(tǒng)，可以對(duì)各類液體的顆粒度、清潔度、污染物進(jìn)行管理、控制、監(jiān)測(cè)和分析；
2022-07-29 10:20:251398 
是粒子粒徑的大小和數(shù)量的多少。從這一點(diǎn)來(lái)看，顆粒計(jì)數(shù)器在液體清潔度判定里更占優(yōu)勢(shì)，通過(guò)粒子的大小和數(shù)量的多少參照標(biāo)準(zhǔn)來(lái)判定液樣的清潔程度，從而給產(chǎn)線提供符合標(biāo)準(zhǔn)的
2023-01-03 15:45:371256 
高效硅太陽(yáng)能電池的加工在很大程度上取決于高幾何質(zhì)量和較低污染的硅晶片的可用性。在晶圓加工結(jié)束時(shí)，有必要去除晶圓表面的潛在污染物，例如有機(jī)物、金屬和顆粒。當(dāng)前的工業(yè)晶圓加工過(guò)程包括兩個(gè)清潔步驟。第一個(gè)
2023-11-01 17:05:58774 
半導(dǎo)體制造業(yè)依賴復(fù)雜而精確的工藝來(lái)制造我們需要的電子元件。其中一個(gè)過(guò)程是晶圓清洗，這個(gè)是去除硅晶圓表面不需要的顆粒或殘留物的過(guò)程，否則可能會(huì)損害產(chǎn)品質(zhì)量或可靠性。RCA清洗技術(shù)能有效去除硅晶圓表面的有機(jī)和無(wú)機(jī)污染物，是一項(xiàng)標(biāo)準(zhǔn)的晶圓清洗工藝。
2023-12-07 13:19:141633 RCA輸出（也稱為RCA插座或RCA連接器）通常指的是一種用于音頻和視頻信號(hào)傳輸?shù)耐S電纜連接器。RCA連接器有多種類型，包括用于音頻的單聲道RCA（如紅色和白色插頭）和用于視頻的復(fù)合視頻RCA
2024-10-17 11:01:503879 RCA音頻輸出，也被稱為“蓮花插頭”或“視頻音頻插頭”，是一種廣泛使用的模擬音頻和視頻信號(hào)傳輸接口。RCA音頻輸出并不是直接連接到喇叭的，而是需要通過(guò)一個(gè)中間設(shè)備來(lái)轉(zhuǎn)換信號(hào)，以便喇叭能夠播放
2024-10-17 11:05:448803 RCA輸出和平衡輸出是兩種不同的音頻信號(hào)傳輸方式，它們?cè)谝糍|(zhì)、抗干擾能力、連接方式等方面存在一些區(qū)別。 RCA輸出和平衡輸出的區(qū)別 在音頻設(shè)備的世界里，RCA輸出和平衡輸出是兩種常見(jiàn)的信號(hào)傳輸方式
2024-10-17 11:07:5412074 本文簡(jiǎn)單介去除晶圓表面顆粒的原因及方法。
在12寸（300毫米）晶圓廠中，清洗是一個(gè)至關(guān)重要的工序。晶圓廠會(huì)購(gòu)買(mǎi)大量的高純度濕化學(xué)品如硫酸，鹽酸，雙氧水，氨水，氫氟酸等用于清洗。
2024-11-11 09:40:022294 RCA清洗機(jī)是一種用于半導(dǎo)體制造過(guò)程中的濕法清洗設(shè)備，主要用于去除晶圓表面的有機(jī)和無(wú)機(jī)污染物。雖然知道它的重要性，但是大家也好奇，這臺(tái)機(jī)器配置設(shè)置是什么樣的？ RCA清洗機(jī)配置設(shè)置參數(shù)詳解 主要
2024-11-11 10:44:261302 
RCA接口，全稱為Radio Corporation Of America接口，因其外觀類似蓮花，俗稱蓮花插座或AV接口。以下是對(duì)RCA接口的定義和應(yīng)用的介紹： 一、定義 RCA接口是一種音視頻接線
2025-02-17 15:25:1510893 連接RCA接口的設(shè)備通常涉及將音頻和視頻信號(hào)從一個(gè)設(shè)備傳輸?shù)搅硪粋€(gè)設(shè)備。以下是一些具體的步驟和注意事項(xiàng)，幫助您正確連接RCA接口的設(shè)備： 一、準(zhǔn)備工具和材料 RCA同軸線纜：這種線纜通常具有紅、白
2025-02-17 15:30:503665 RCA接口在音視頻設(shè)備連接中廣泛應(yīng)用，但也存在一些常見(jiàn)的故障。以下是對(duì)RCA接口常見(jiàn)故障及解決方法的介紹： 一、常見(jiàn)故障 接觸不良 ： RCA接口由于插拔次數(shù)過(guò)多或接口內(nèi)部彈性片磨損，可能導(dǎo)致
2025-02-17 15:33:032691 RCA接口音視頻傳輸?shù)脑碇饕谀M信號(hào)的傳輸方式。以下是對(duì)其傳輸原理的介紹： 一、RCA接口的基本結(jié)構(gòu) RCA接口，又稱AV接口或蓮花插座，其結(jié)構(gòu)包括一個(gè)圓形的插頭和一個(gè)相應(yīng)的插座。插頭上通常
2025-02-17 15:36:592584 使用RCA接口連接電視和音響的方法相對(duì)簡(jiǎn)單，以下是詳細(xì)的步驟： 一、準(zhǔn)備工具和材料 RCA音頻線：這種線纜通常具有紅、白兩個(gè)插頭，紅色插頭用于傳輸右聲道音頻信號(hào)，白色插頭用于傳輸左聲道音頻
2025-02-17 15:39:125575 RCA接口在音頻設(shè)備中的應(yīng)用非常廣泛，其歷史可以追溯到近一個(gè)世紀(jì)以前，最初是由美國(guó)無(wú)線電公司（RCA）開(kāi)發(fā)并命名的。以下是對(duì)RCA接口在音頻設(shè)備中應(yīng)用的分析： 一、應(yīng)用背景與特點(diǎn) 應(yīng)用背景
2025-02-17 15:42:113612 RCA接口，因其廣泛的兼容性和易用性，被應(yīng)用于多種音視頻設(shè)備中。以下是一些常見(jiàn)的適用設(shè)備： 一、音頻設(shè)備 音響系統(tǒng) ： RCA接口常用于連接功放、接收器與音頻源設(shè)備（如CD播放器、MP3播放器、手機(jī)
2025-02-17 15:46:592266 RCA接口，全稱為Radio Corporation of America接口，因其發(fā)明者美國(guó)無(wú)線電公司而得名，俗稱蓮花插座，又叫AV端子、AV接口。以下是對(duì)RCA接口種類與特點(diǎn)的分析： 一、種類
2025-02-17 15:50:015454 RCA接口與標(biāo)清和高清信號(hào)的關(guān)系主要體現(xiàn)在其傳輸能力和應(yīng)用場(chǎng)景上。 一、RCA接口的傳輸能力 標(biāo)清信號(hào)傳輸 ： RCA接口最初設(shè)計(jì)用于傳輸模擬信號(hào)，包括標(biāo)清視頻和音頻信號(hào)。在標(biāo)清視頻傳輸方面，RCA
2025-02-17 15:52:441356 使用RCA接口時(shí)，需要注意以下幾點(diǎn)： 一、接口識(shí)別與匹配 顏色識(shí)別 ： RCA接口通常有紅、白（或黑）、黃三種顏色，分別代表右聲道、左聲道和復(fù)合視頻信號(hào)。在連接時(shí)，要確保插頭與插孔的顏色相匹配，以避
2025-02-17 15:55:351842 RCA接口的優(yōu)缺點(diǎn)分析如下： 優(yōu)點(diǎn) 兼容性強(qiáng) ： RCA接口廣泛應(yīng)用于各種音視頻設(shè)備，包括電視機(jī)、音響系統(tǒng)、DVD播放器、游戲機(jī)等。這種廣泛的兼容性使得用戶能夠輕松地將不同品牌、不同型號(hào)的設(shè)備
2025-02-17 15:57:493369 RCA接口在專業(yè)音頻領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用，以下是對(duì)其應(yīng)用分析： 一、接口特點(diǎn)與優(yōu)勢(shì) 模擬音頻傳輸 ： RCA接口最初是為模擬音頻信號(hào)設(shè)計(jì)的，它采用同軸傳輸信號(hào)的方式，中軸用于傳輸信號(hào)，外沿一圈的接觸層
2025-02-17 16:01:132792 RCA接口轉(zhuǎn)換為其他接口的方案多種多樣，具體取決于需要轉(zhuǎn)換的目標(biāo)接口類型以及應(yīng)用場(chǎng)景。以下是一些常見(jiàn)的轉(zhuǎn)換方案： 1. RCA轉(zhuǎn)3.5毫米接口 應(yīng)用場(chǎng)景 ：常用于將老式音頻設(shè)備（如CD播放器、磁帶機(jī)
2025-02-17 16:52:372497 可以解決這個(gè)問(wèn)題——超聲波除油清洗設(shè)備。這種設(shè)備利用高頻超聲波振動(dòng)技術(shù)，能夠高效、徹底地去除難以清潔的油漬。接下來(lái)，我們將詳細(xì)探討超聲波除油清洗設(shè)備的工作原理和優(yōu)
2025-04-23 16:48:06846 
半導(dǎo)體RCA清洗工藝中使用的主要藥液包括以下幾種，每種均針對(duì)特定類型的污染物設(shè)計(jì)，并通過(guò)化學(xué)反應(yīng)實(shí)現(xiàn)高效清潔：SC-1（堿性清洗液）成分組成：由氫氧化銨（NH?OH）、過(guò)氧化氫（H?O?）和去離子水
2025-09-11 11:19:131330 
01引言什么是清潔組件？如何評(píng)估組件的清潔度等級(jí)？何時(shí)認(rèn)為組件受到嚴(yán)重污染？這些問(wèn)題長(zhǎng)期以來(lái)一直是機(jī)械零件制造中的問(wèn)題。什么是清潔組件？隨著電子組件變得越來(lái)越小，這個(gè)問(wèn)題變得越來(lái)越重要，因?yàn)榻饘?b class="flag-6" style="color: red">顆粒可能導(dǎo)致短路，非金屬顆粒可能
2025-09-16 08:20:00511 
中產(chǎn)生空化效應(yīng)，形成微小氣泡破裂時(shí)釋放的能量可剝離晶圓表面的顆粒物和有機(jī)膜層。該方法對(duì)去除光刻膠殘?jiān)葹橛行?，且能穿透?fù)雜結(jié)構(gòu)如溝槽和通孔進(jìn)行深度清潔。高壓噴淋沖洗
2025-10-09 13:46:43476 
在半導(dǎo)體制造中，RCA清洗作為核心工藝，其效率提升需從化學(xué)、物理及設(shè)備多維度優(yōu)化。以下是基于技術(shù)文獻(xiàn)的系統(tǒng)性策略： 一、化學(xué)體系精準(zhǔn)調(diào)控 螯合劑強(qiáng)化金屬去除 在SC-1/SC-2溶液中添加草酸等
2025-11-12 13:59:59283 、核心化學(xué)品、常見(jiàn)問(wèn)題及創(chuàng)新解決方案等維度，解析RCA濕法設(shè)備如何為晶圓表面凈化提供全周期保障。 一、RCA濕法設(shè)備核心工藝流程 華林科納RCA清洗技術(shù)通過(guò)多步驟化學(xué)反應(yīng)的協(xié)同作用，系統(tǒng)清除晶圓表面的顆粒、有機(jī)物及金屬污染物
2025-12-24 10:39:08136
電子發(fā)燒友App
工商網(wǎng)監(jiān)
評(píng)論