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TSMC持續(xù)開發(fā)先進工藝技術(shù)節(jié)點 中國IC設(shè)計發(fā)展可期

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確保連續(xù)四代全可編程技術(shù)及多節(jié)點擴展的領(lǐng)先優(yōu)勢四代先進工藝技術(shù)和3D IC以及第四代FinFET技術(shù)合作 2015年5月28日, 中國北京 - All Programmable 技術(shù)和器件的全球領(lǐng)先
2017-02-09 03:48:04400

Cadence發(fā)布7納米工藝Virtuoso先進工藝節(jié)點擴展平臺

2017年4月18日,中國上海 – 楷登電子(美國Cadence公司,NASDAQ: CDNS)今日正式發(fā)布針對7nm工藝的全新Virtuoso? 先進工藝節(jié)點平臺。通過與采用7nm FinFET
2017-04-18 11:09:491612

下一代工藝技術(shù)促成了iot大發(fā)展

已經(jīng)浮出水面。人們都認(rèn)為市場上最新的半導(dǎo)體技術(shù)也是您下一設(shè)計最好的工藝技術(shù),這種想法促進了 IoT 的雪崩式發(fā)展。 最近在硅谷舉行的 TSMC 輔助支持系統(tǒng)論壇上清楚的闡述了這種發(fā)展。隨著 20、16 和 10 nm 工藝發(fā)展,最大的代工線負(fù)責(zé)人宣稱,在老工藝
2017-09-14 19:52:445

淺析TSMC和FinFET工藝技術(shù)的Mentor解決方案

Technology (12FFC) 和最新版本 7nm FinFET Plus 工藝的認(rèn)證。Nitro-SoCTM 布局和布線系統(tǒng)也通過了認(rèn)證,可以支持 TSMC 的 12FFC 工藝技術(shù)。
2017-10-11 11:13:423455

蜂窩趨勢引領(lǐng)半導(dǎo)體工藝技術(shù)發(fā)展方向

業(yè)界對哪種 半導(dǎo)體 工藝最適合某一給定應(yīng)用存在著廣泛的爭論。雖然某種特殊工藝技術(shù)能更好地服務(wù)一些應(yīng)用,但其它工藝技術(shù)也有很大的應(yīng)用空間。像 CMOS 、B iC MOS、砷化鎵(GaAs)、磷化銦
2017-11-25 02:35:02918

工藝技術(shù)發(fā)展推動蜂窩網(wǎng)絡(luò)技術(shù)

業(yè)界對哪種半導(dǎo)體工藝最適合某一給定應(yīng)用存在著廣泛的爭論。雖然某種特殊工藝技術(shù)能更好地服務(wù)一些應(yīng)用,但其它工藝技術(shù)也有很大的應(yīng)用空間。像CMOS、BiCMOS、砷化鎵(GaAs)、磷化銦(InP
2019-03-15 11:06:13840

5G射頻技術(shù)創(chuàng)新,半導(dǎo)體工藝技術(shù)發(fā)展扮演重要角色

在未來數(shù)年內(nèi),仍有數(shù)不清的機遇推動5G射頻技術(shù)創(chuàng)新,而半導(dǎo)體工藝技術(shù)發(fā)展無疑將扮演重要角色。從整個行業(yè)來看,從工藝和材料開發(fā)到設(shè)計技巧和建模,再到高頻測試和制造,仍有很多工作需要完成。在實現(xiàn)5G目標(biāo)的道路上所有學(xué)科都將參與其中,而半導(dǎo)體工程材料技術(shù)是重中之重。
2018-05-28 14:43:001344

楷登電子公布與臺灣積體電路公司全新 12FFC 緊湊型工藝技術(shù)開發(fā)的合作內(nèi)容

楷登電子(美國 Cadence 公司)今日正式公布其與臺灣積體電路制造股份有限公司(TSMC)全新12nm FinFET緊湊型(12FFC)工藝技術(shù)開發(fā)的合作內(nèi)容。憑借Cadence 數(shù)字
2018-05-08 11:07:002088

Platform 中的多項工具已通過TSMC最新版5nm FinFET 和 7nm FinFET Plus 工藝的認(rèn)證

。Mentor 的工具和 TSMC 的新工藝將協(xié)助雙方共同客戶更快地為高增長市場提供芯片創(chuàng)新。 TSMC 設(shè)計基礎(chǔ)架構(gòu)營銷部資深總監(jiān) Suk Lee 表示:“Mentor 通過提供更多功能和解決方案來支持我們最先進工藝,持續(xù)TSMC 生態(tài)系統(tǒng)帶來了了更高的價值。
2018-05-17 15:19:004492

Synopsys設(shè)計平臺獲得TSMC工藝認(rèn)證_7-nm FinFET Plus工藝技術(shù)

Synopsys設(shè)計平臺用于高性能、高密度芯片設(shè)計 重點: Synopsys設(shè)計平臺獲得TSMC工藝認(rèn)證,支持高性能7-nm FinFET Plus工藝技術(shù),已成功用于客戶的多個設(shè)計項目。 針對
2018-05-17 06:59:005639

Synopsys 設(shè)計平臺獲得TSMC最新版且最先進的5nm工藝

Synopsys Synopsys近日宣布, Synopsys 設(shè)計平臺獲得TSMC最新版且最先進的5nm工藝技術(shù)認(rèn)證,可用于客戶先期設(shè)計。通過與TSMC的早期密切協(xié)作,IC CompilerII
2018-06-01 09:35:004915

新思科技推出基于TSMC 7nm FinFET工藝技術(shù)的汽車級IP

基于7nm工藝技術(shù)的控制器和PHY IP具有豐富的產(chǎn)品組合,包括LPDDR4X、MIPI CSI-2、D-PHY、PCI Express 4.0以及安全IP。 IP解決方案支持TSMC 7nm工藝技術(shù)所需的先進汽車設(shè)計規(guī)則,滿足可靠性和15年汽車運行要求。
2018-10-18 14:57:217323

Synopsys推出支持TSMC 7nm工藝技術(shù)

、D-PHY、PCI Express 4.0以及安全IP在TSMC 7nm工藝技術(shù)實現(xiàn)了先進的汽車設(shè)計規(guī)則,以滿足ADAS和自動駕駛芯片的可靠性及運行要求。推出此項支持TSMC 7nm工藝技術(shù)的汽車級
2018-11-13 16:20:232042

新思科技數(shù)字與定制設(shè)計平臺通過TSMC 5nm EUV工藝技術(shù)認(rèn)證

關(guān)鍵詞:5nm , Compiler , PrimeTime 新思科技(Synopsys)宣布其數(shù)字和定制設(shè)計平臺通過了TSMC先進的5nm EUV工藝技術(shù)認(rèn)證。該認(rèn)證是多年廣泛合作的結(jié)果,旨在
2018-10-27 22:16:01685

中國配套支撐環(huán)境能否滿足IC設(shè)計的發(fā)展需求

MPS是一家1997年創(chuàng)立于美國硅谷的模擬IC設(shè)計公司。當(dāng)時,半導(dǎo)體業(yè)界還沒有專門用于電源管理的工藝技術(shù),為此,MPS公司的創(chuàng)始人邢正人開發(fā)了這種工藝技術(shù),它使電源管理芯片的速度更高、面積更小。
2019-01-16 14:58:58913

三星宣布已完成5納米FinFET工藝技術(shù)開發(fā)

4月16日,三星官網(wǎng)發(fā)布新聞稿,宣布已經(jīng)完成5納米FinFET工藝技術(shù)開發(fā),現(xiàn)已準(zhǔn)備好向客戶提供樣品。
2019-04-16 17:27:233799

曝光成像與顯影工藝技術(shù)的原理及特點

PCB板上的線路圖形就是PCB線路板廠家采用曝光成像與顯影蝕刻工藝技術(shù)來完成的,無論是PCB多層線路板還是柔性線路板在制作線路圖形時都要用到曝光成像與顯影工藝技術(shù)。下面來詳細(xì)介紹這兩種工藝的加工特點及加工原理。
2019-04-28 15:10:5236634

SONNET中的工藝技術(shù)層介紹

在14版本中,SONNET新引入了一種名為工藝技術(shù)層的屬性定義層,以實現(xiàn)EDA框架和設(shè)計流程的平滑過渡。該工藝技術(shù)層實際上是用戶創(chuàng)建的EM工程中 的多個屬性對象的集合體,其中包括了很多基本屬性設(shè)置,比如層的命名、物理位置、金屬屬性、網(wǎng)格控制選項等等。
2019-10-08 15:17:412756

中芯國際的先進制程工藝再獲突破

作為中國大陸技術(shù)先進、規(guī)模最大的晶圓代工企業(yè),中芯國際的制程工藝發(fā)展一直備受關(guān)注。歷經(jīng)20年,其制程工藝從0.18微米技術(shù)節(jié)點發(fā)展至如今的N+1工藝
2020-10-20 16:50:108031

CMOS工藝技術(shù)的學(xué)習(xí)課件免費下載

本文檔的主要內(nèi)容詳細(xì)介紹的是CMOS工藝技術(shù)的學(xué)習(xí)課件免費下載。
2020-12-09 08:00:000

先進工藝節(jié)點下的芯片設(shè)計需考慮更多變量

性能、功耗和面積 (PPA) 目標(biāo)受多個靜態(tài)指標(biāo)影響,包括時鐘和數(shù)據(jù)路徑時序、版圖規(guī)劃以及特定電壓水平下的功耗。這些指標(biāo)會進一步推動技術(shù)庫的表征,設(shè)計優(yōu)化和簽核收斂。 先進工藝節(jié)點設(shè)計,尤其是高性能
2021-05-06 11:12:012951

楷登電子數(shù)字和模擬流程獲TSMC N3和N4工藝技術(shù)認(rèn)證

)宣布,其數(shù)字和定制/模擬流程已獲得 TSMC N3 和 N4 工藝技術(shù)認(rèn)證,支持最新的設(shè)計規(guī)則手冊(DRM)。通過持續(xù)合作,Cadence 和 TSMC 發(fā)布了 TSMC N3 和 N
2021-10-26 15:10:583128

西門子獲先進模擬IC代工工藝技術(shù)認(rèn)證_環(huán)旭電子投資氮化鎵系統(tǒng)有限公司

Siemens Digital Industries Software宣布,其用于模擬、數(shù)字和混合信號集成電路 (IC) 設(shè)計的電源完整性分析的全新 mPower? 解決方案現(xiàn)已通過 Tower Semiconductor 的 SBC13 和 SBC18 工藝技術(shù)的認(rèn)證。
2022-03-16 14:56:572561

全面解讀電子封裝工藝技術(shù)

全面解讀電子封裝工藝技術(shù)
2022-10-10 11:00:511455

Cadence定制設(shè)計遷移流程加快臺積電N3E和N2工藝技術(shù)的采用速度

,包括最新的 N3E 和 N2 工藝技術(shù)。這一新的生成式設(shè)計遷移流程由 Cadence 和臺積電共同開發(fā),旨在實現(xiàn)定制和模擬 IC 設(shè)計在臺積電工藝技術(shù)之間的自動遷移。與人工遷移相比,已使用該流程的客戶成功地將遷移時間縮短了 2.5 倍。
2023-05-06 15:02:151934

Cadence數(shù)字和定制/模擬設(shè)計流程獲得TSMC最新N3E和N2工藝技術(shù)認(rèn)證

楷登電子(美國 Cadence 公司,NASDAQ:CDNS)近日宣布,Cadence 數(shù)字和定制/模擬設(shè)計流程已通過 TSMC N3E 和 N2 先進工藝的設(shè)計規(guī)則手冊(DRM)認(rèn)證。兩家公司還發(fā)
2023-05-09 10:09:232046

Cadence Virtuoso Studio流程獲得Samsung Foundry認(rèn)證,支持先進工藝技術(shù)的模擬IP自動遷移

先進節(jié)點經(jīng)過優(yōu)化 中國上海, 2023 年 7 月 4 日——楷登電子(美國 Cadence 公司,NASDAQ:CDNS)近日宣布,搭載最新生成式 AI 技術(shù)的 Cadence ?Virtuoso
2023-07-04 10:10:011516

1天工藝技術(shù)培訓(xùn)、1天技術(shù)產(chǎn)業(yè)報告分享,凝聚先進封測奮進力量!

來源:ACT半導(dǎo)體芯科技 隨著我國集成電路國產(chǎn)化進程的加深、下游應(yīng)用領(lǐng)域的蓬勃發(fā)展以及國內(nèi)先進封測龍頭企業(yè)工藝技術(shù)的不斷進步,先進封測行業(yè)市場空間將進一步擴大。而能否實現(xiàn)全產(chǎn)業(yè)鏈的協(xié)同發(fā)展,是先進
2023-07-17 20:04:551181

2006電子元器件搪錫工藝技術(shù)要求

2006電子元器件搪錫工藝技術(shù)要求
2023-08-23 16:48:036

應(yīng)對先進工藝碳排放挑戰(zhàn),Imec開發(fā)晶圓廠可持續(xù)發(fā)展評估模型

隨著技術(shù)發(fā)展,與ic制造相關(guān)的排放量也增加了,特別是光刻和蝕刻能耗較大,例如n3工程中光刻工序產(chǎn)生的二氧化碳排放量約占45%。imec的工程師們半導(dǎo)體制造過程中產(chǎn)生的尾氣可以建模軟件平臺開發(fā),可持續(xù)半導(dǎo)體技術(shù)及系統(tǒng)計劃(ssts)的使用率
2023-09-13 10:56:531103

Cadence 定制/模擬設(shè)計遷移流程加速 TSMC 先進制程技術(shù)的采用

流程,能兼容所有的 TSMC(臺積電)先進節(jié)點,包括最新的 N3E 和 N2 工藝技術(shù)。 這款生成式設(shè)計遷移流程由 Cadence 和 TSMC 共同開發(fā),旨在實現(xiàn)定制和模擬 IC 設(shè)計在 TSMC
2023-09-27 10:10:041634

電子產(chǎn)品裝聯(lián)工藝技術(shù)詳解

電子產(chǎn)品裝聯(lián)工藝技術(shù)詳解
2023-10-27 15:28:222031

CMOS工藝技術(shù)的概念、發(fā)展歷程、優(yōu)點以及應(yīng)用場景介紹

CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor, 互補金屬氧化物半導(dǎo)體)工藝技術(shù)是當(dāng)今集成電路制造的主流技術(shù),99% 的 IC 芯片,包括大多數(shù)數(shù)字、模擬和混合信號IC,都是使用 CMOS 技術(shù)制造的。
2024-03-12 10:20:3713587

安森美推出基于BCD工藝技術(shù)的Treo平臺

近日,安森美(onsemi,納斯達克股票代號:ON)宣布推出Treo平臺,這是一個采用先進的65nm節(jié)點的BCD(Bipolar–CMOS-DMOS)工藝技術(shù)構(gòu)建的模擬和混合信號平臺。該平臺為安森美
2024-11-12 11:03:211375

IEDM 2024先進工藝探討(三):2D材料技術(shù)的進展及所遇挑戰(zhàn)

晶體管技術(shù)先進存儲、顯示、傳感、MEMS、新型量子和納米級器件、光電子、能量采集器件、高速器件以及工藝技術(shù)和設(shè)備建模和仿真等領(lǐng)域。 2024 IEDM會議的焦點主要有三個:邏輯器件的先進工藝技術(shù)包括TSMC N2節(jié)點、CFET技術(shù)突破、三星2D材料、英特爾硅溝道擴
2025-02-14 09:18:502138

Cadence攜手臺積公司,推出經(jīng)過其A16和N2P工藝技術(shù)認(rèn)證的設(shè)計解決方案,推動 AI 和 3D-IC芯片設(shè)計發(fā)展

:CDNS)近日宣布進一步深化與臺積公司的長期合作,利用經(jīng)過認(rèn)證的設(shè)計流程、經(jīng)過硅驗證的 IP 和持續(xù)技術(shù)協(xié)作,加速 3D-IC先進節(jié)點技術(shù)的芯片開發(fā)進程。作為臺積公司 N2P、N5 和 N3 工藝節(jié)點
2025-05-23 16:40:041710

SOI工藝技術(shù)介紹

在半導(dǎo)體行業(yè)持續(xù)追求更高性能、更低功耗的今天,一種名為“SOI(Silicon-On-Insulator)”的工藝技術(shù)逐漸成為行業(yè)焦點。無論是智能手機、自動駕駛汽車,還是衛(wèi)星通信系統(tǒng),SOI技術(shù)都在幕后扮演著關(guān)鍵角色。
2025-10-21 17:34:181337

AI如何重塑模擬和數(shù)字芯片工藝節(jié)點遷移

工藝技術(shù)持續(xù)演進,深刻塑造了當(dāng)今的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。從早期的平面晶體管到鰭式場效應(yīng)晶體管(FinFET),再到最新的全環(huán)繞柵極(GAA)架構(gòu),每一代新工藝節(jié)點都為顯著改善功耗、性能和芯片面積(PPA)創(chuàng)造了機會。
2025-10-24 16:28:391186

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