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標(biāo)簽 > 氮化鎵
氮化鎵,分子式GaN,英文名稱Gallium nitride,是氮和鎵的化合物,是一種直接能隙(direct bandgap)的半導(dǎo)體,自1990年起常用在發(fā)光二極管中。
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以碳化硅(SiC)或氮化鎵(GaN)為代表的寬禁帶半導(dǎo)體可在功率轉(zhuǎn)換應(yīng)用中實(shí)現(xiàn)更快的開關(guān)速度、更低的損耗和更高的功率密度。隨著功率半導(dǎo)體效率的提高,碳化...
氮化鎵充電器為什么喜歡用貼片Y電容呢?貼片Y電容有什么優(yōu)點(diǎn)?
在以前,很多手機(jī)充電器都會(huì)用到安規(guī)Y電容,不過用的都是插件形式的,現(xiàn)在情況明顯不一樣
氮化鎵GaN驅(qū)動(dòng)器PCB設(shè)計(jì)必須掌握的要點(diǎn)
NCP51820 是一款 650 V、高速、半橋驅(qū)動(dòng)器,能夠以高達(dá) 200 V/ns 的 dV/dt 速率驅(qū)動(dòng)氮化鎵(以下簡(jiǎn)稱“GaN”)功率開關(guān)。之前...
2023-05-17 標(biāo)簽:柵極驅(qū)動(dòng)電路氮化鎵 1375 0
什么是第三代半導(dǎo)體技術(shù) 碳化硅的產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)分析
第三代半導(dǎo)體以碳化硅、氮化鎵為代表的寬禁帶半導(dǎo)體材料,用于高壓、高溫、高頻場(chǎng)景。廣泛應(yīng)用于新能源汽車、光伏、工控等領(lǐng)域。因此第三代半導(dǎo)體研究主要是集中在...
當(dāng)今市場(chǎng)上有許多晶體管選擇,它們將各種技術(shù)與不同的半導(dǎo)體材料相結(jié)合。因此,縮小哪一個(gè)最適合特定設(shè)計(jì)的范圍可能會(huì)令人困惑。在這些選擇中,GaN晶體管是,但...
? 第三代寬禁帶功率半導(dǎo)體在高溫、高頻、高耐壓等方面的優(yōu)勢(shì),且它們?cè)陔娏﹄娮酉到y(tǒng)和電動(dòng)汽車等領(lǐng)域中有著重要應(yīng)用。本文對(duì)其進(jìn)行簡(jiǎn)單介紹。 以碳化硅(SiC...
Transphorm 900V氮化鎵功率器件規(guī)格參數(shù)
兩款900V FET均屬于常閉型器件,通過更低的柵極電荷、更快的切換速度和更小的反向恢復(fù)電荷,提供更高的效率,明顯超越傳統(tǒng)硅 (Si) 器件,具有顯著優(yōu)勢(shì)。
在進(jìn)行碳化硅、氮化鎵功率器件研發(fā)和特性評(píng)估、功率模塊開發(fā)和特性評(píng)估、電源設(shè)計(jì)器件選型、電源調(diào)試以及學(xué)術(shù)研究時(shí),都需要對(duì)其驅(qū)動(dòng)波形進(jìn)行測(cè)試,這時(shí)大多數(shù)工程...
激光雷達(dá)的全稱是光檢測(cè)和測(cè)距,即通過光波段中的電磁輻射所進(jìn)行的(遠(yuǎn)程)檢測(cè)和測(cè)量。這種裝置采用了經(jīng)典、簡(jiǎn)單的雷達(dá)原理,不同的是它使用的是由激光脈沖所組成...
納微半導(dǎo)體利用橫向650V eMode硅基氮化鎵技術(shù),創(chuàng)造了專有的AllGaN工藝設(shè)計(jì)套件(PDK),以實(shí)現(xiàn)集成氮化鎵 FET、氮化鎵驅(qū)動(dòng)器,邏輯和保護(hù)...
氮化鎵(GaN)技術(shù)如今在電力電子行業(yè)風(fēng)靡一時(shí),這種寬禁帶半導(dǎo)體能夠?qū)崿F(xiàn)非常高的效率和功率密度,因此能夠減小電源的體積,并且降低其工作溫度,該性能優(yōu)勢(shì)正...
對(duì)于那些堅(jiān)持使用經(jīng)典放大器拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)的人來說,他們的要求將集中在準(zhǔn)確的音頻再現(xiàn)上,而很少考慮解決方案的整體電氣效率。雖然這在家庭音頻環(huán)境中是完全合理的,但...
我們以前使用的Y電容主要是插件形式的,這幾年技術(shù)進(jìn)步很快,已經(jīng)有性能很不錯(cuò)的貼片式Y(jié)電容出現(xiàn),比如科雅JK-ET系列的塑封貼片式Y(jié)安規(guī)電容器,已經(jīng)被大量...
RF LDMOS之于早期蜂窩網(wǎng)絡(luò),氮化鎵(GaN)之于現(xiàn)代和高頻應(yīng)用。與砷化鎵(GaAs)和Si LDMOS相比,GaN長(zhǎng)期以來一直具有難以超越的優(yōu)勢(shì):
半導(dǎo)體器件作為現(xiàn)代電子技術(shù)的核心元件,廣泛應(yīng)用于集成電路、消費(fèi)電子及工業(yè)設(shè)備等場(chǎng)景,其性能直接影響智能終端與裝備的運(yùn)行效能。以氮化鎵(GaN)和碳化硅(...
干貨分享|高功率氮化鎵場(chǎng)效應(yīng)晶體管:高性能、高效率、高可靠性(下)
提高效率既是行業(yè)的關(guān)鍵性挑戰(zhàn),也是創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)力。社會(huì)需求的壓力和相關(guān)法規(guī)都在要求提高電源轉(zhuǎn)換和控制的效率。對(duì)于一些應(yīng)用來說,電源轉(zhuǎn)換效率和功率密度是贏得市...
氮化鎵(GaN)技術(shù)創(chuàng)新概況 氮化鎵襯底技術(shù)是什么
氮化鎵(GaN)主要是由人工合成的一種半導(dǎo)體材料,禁帶寬度大于2.3eV,也稱為寬禁帶半導(dǎo)體材料 ?氮化鎵材料為第三代半導(dǎo)體材料的典型代表,是研制微電...
2023-09-04 標(biāo)簽:半導(dǎo)體材料氮化鎵GaN 1252 0
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