荷蘭造價(jià)上億的龐大機(jī)器到位并組裝好后，并不意味著EUV光刻機(jī)的生產(chǎn)工作完全準(zhǔn)備就緒。隨著先進(jìn)工藝晶圓制造中圖案化策略和分辨率重視程度的攀升，為了滿足這些需求，與EUV光刻技術(shù)相關(guān)的材料同樣需要納入考量，尤其是光刻膠和防護(hù)膜。 ? EUV光
2022-07-22 07:49:00
3666 6月23日下午，富士康科技集團(tuán)與江蘇昆山簽約“全面深化戰(zhàn)略合作協(xié)議”，約定將在昆山追加投資建設(shè)一攬子項(xiàng)目，計(jì)劃投資250億元，首期投資超80億元。昆山官方稱，這標(biāo)志著昆山與富士康的合作發(fā)展又站在了新的起點(diǎn)。
2017-06-26 10:10:151484 光刻膠為何要謀求國產(chǎn)替代？中國國產(chǎn)光刻膠企業(yè)的市場(chǎng)發(fā)展機(jī)會(huì)和挑戰(zhàn)如何？光刻膠企業(yè)發(fā)展要具備哪些核心競(jìng)爭(zhēng)力？在南京半導(dǎo)體大會(huì)期間，徐州博康公司董事長(zhǎng)傅志偉和研發(fā)總監(jiān)潘新剛給我們帶來前沿觀點(diǎn)和獨(dú)家分析。
2022-08-29 15:02:238662 
光刻膠類型及特性光刻膠（Photoresist），又稱光致抗蝕劑，是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類型和光刻膠特性。
2025-04-29 13:59:337845 
，增幅11.11%。 ? 截圖自企查查 ? 光刻膠是芯片制造中光刻環(huán)節(jié)的重要材料，目前主要被日美把控，國內(nèi)在光刻膠方面投入研制的廠商主要晶瑞股份、南大光電、上海新陽、徐州博康、北京科華等，那么華為投資的徐州博康在光刻膠方面有何優(yōu)勢(shì)，國內(nèi)廠商在光
2021-08-12 07:49:006896 膠領(lǐng)域進(jìn)行激烈競(jìng)爭(zhēng)的時(shí)候，中國國產(chǎn)光刻膠企業(yè)在國內(nèi)晶圓廠布局的成熟制程領(lǐng)域，展開了新產(chǎn)品上市和量產(chǎn)的爭(zhēng)奪戰(zhàn)。 ? 南大光電最新消息顯示，國產(chǎn)193nm（ArF）光刻膠研發(fā)成功，這家公司成為通過國家“02專項(xiàng)”驗(yàn)收的ArF光刻膠項(xiàng)目實(shí)施主體；徐州博康宣布，該
2022-08-31 07:45:004234 根據(jù)中國政府采購網(wǎng)公示，上海微電子裝備（集團(tuán)）股份有限公司中標(biāo) zycgr22011903 采購步進(jìn)掃描式光刻機(jī)項(xiàng)目，設(shè)備數(shù)量為一臺(tái)，貨物型號(hào)為 SSC800/10，成交金額 1.1 億
2025-12-26 08:35:004294 
翁壽松(無錫市羅特電子有限公司，江蘇無錫214001)1 32 nm/22 nm工藝進(jìn)展2006年1月英特爾推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特爾將投資90億美元在以下4座
2019-07-01 07:22:23
有人知道 為什么光刻完事 剝離那么容易脫落呢 怎么避免呢
2012-06-26 12:40:30
本帖最后由 iweimo 于 2014-10-20 15:07 編輯
先分享光刻的參考資料。============================2014-10-17========光刻分類
2014-09-26 10:35:02
光刻圖形轉(zhuǎn)化軟件可以將gds格式或者gerber格式等半導(dǎo)體通用格式的圖紙轉(zhuǎn)換成如bmp或者tiff格式進(jìn)行掩模版加工制造，在掩膜加工領(lǐng)域或者無掩膜光刻領(lǐng)域不可或缺，在業(yè)內(nèi)也被稱為矢量圖形光柵化軟件
2025-05-02 12:42:10
一、光刻膠的選擇光刻膠包括兩種基本的類型：正性光刻和負(fù)性光刻，區(qū)別如下
2021-01-12 10:17:47
隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個(gè)數(shù)量級(jí)（從毫米級(jí)到亞微米級(jí)），已從常規(guī)光學(xué)技術(shù)發(fā)展到應(yīng)用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術(shù)；使用波長(zhǎng)已從4000埃擴(kuò)展到 0.1埃
2012-01-12 10:51:59
是0.33，大家可能還記得之前有過一個(gè)新聞，就是ASML投入20億美元入股卡爾·蔡司公司，雙方將合作研發(fā)新的EUV光刻機(jī)，許多人不知道EUV光刻機(jī)跟蔡司有什么關(guān)系，現(xiàn)在應(yīng)該明白了，ASML跟蔡司合作
2020-07-07 14:22:55
芯片制造流程其實(shí)是多道工序?qū)⒏鞣N特性的材料打磨成形，經(jīng)循環(huán)往復(fù)百次后，在晶圓上“刻”出各種電子特性的區(qū)域，最后形成數(shù)十億個(gè)晶體管并被組合成電子元件。那光刻，整個(gè)流程中的一個(gè)重要步驟，其實(shí)并沒有
2020-09-02 17:38:07
SU-8光刻膠 SU-8光刻膠克服了普通光刻膠采用UV光刻深寬比不足的問題，在近紫外光（365nm-400nm）范圍內(nèi)光吸收度很低，且整個(gè)光刻膠層所獲得的曝光量均勻一致，可得到具有垂直側(cè)壁和高深寬比
2018-07-12 11:57:08
的耐蝕刻薄膜材料，經(jīng)曝光和顯影而使溶解度增加的是正性光刻膠，反之為負(fù)性光刻膠。光刻膠的分類及其特點(diǎn)見表1。 隨著IC特征尺寸亞微米、深亞微米方向快速發(fā)展，現(xiàn)有的光刻機(jī)和光刻膠已無法適應(yīng)新的光刻工藝要求
2018-08-23 11:56:31
光刻膠也稱為光致抗蝕劑，是一種光敏材料，它受到光照后特性會(huì)發(fā)生改變。光刻膠主要用來將光刻掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上。光刻膠有正膠和負(fù)膠之分。正膠經(jīng)過曝光后，受到光照的部分變得容易溶解，經(jīng)過顯影后被
2019-11-07 09:00:18
這是我的版圖一部分，然后生成了圖案是這樣的： 感覺間距小的地方全都有殘留，間距大的地方?jīng)]有殘留；工藝參數(shù)：s9920光刻膠， evg 620‘未進(jìn)行蒸汽底漆層涂覆，前烘：100攝氏度，90s
2016-11-29 14:59:18
電介質(zhì)和濾波應(yīng)用的旋涂材料 PC3 系列 產(chǎn)品可用于平坦化，臨時(shí)行粘接層和保護(hù)涂層。 BDC1/PDC1/ZPDC1 系列 產(chǎn)品可作為高效參雜層，代替昂貴的CVD參雜工序。 RD6系列 光刻膠顯影液，可用
2010-04-21 10:57:46
SU 8光刻膠系列產(chǎn)品簡(jiǎn)介：新型的化學(xué)增幅型負(fù)像 SU- 8 膠是一種負(fù)性、環(huán)氧樹脂型、近紫外線光刻膠，克服了普通光刻膠采用 UV光刻導(dǎo)致的深寬比不足的問題，十分適合于制備高深寬比微結(jié)構(gòu)。SU- 8
2018-07-04 14:42:34
三種常見的光刻技術(shù)方法根據(jù)暴光方法的不同,可以劃分為接觸式光刻,接近式光刻和投影式光刻三種光刻技術(shù)?！ 敉队笆奖┕馐抢猛哥R或反射鏡將掩膜版上的圖形投影到襯底上的暴光方法.在這種暴光方法中,由于掩膜
2012-01-12 10:56:23
中國科學(xué)院大學(xué)（以下簡(jiǎn)稱國科大）微電子學(xué)院是國家首批支持建設(shè)的示范性微電子學(xué)院，國科大微電子學(xué)院開設(shè)的《集成電路先進(jìn)光刻技術(shù)與版圖設(shè)計(jì)優(yōu)化》課程是國內(nèi)少有的研究討論光刻技術(shù)的研究生課程，而開設(shè)課程
2021-10-14 09:58:07
本人是菜鳥 需要在玻璃上光刻普通的差值電極 以前一直在硅片上面光刻 用的光刻膠是AZ5214E 正膠 同樣的工藝和參數(shù)在玻璃上附著力差了很多 懇請(qǐng)哪位高人指點(diǎn)一下PS 插值電極的距離為25微米 小女子這廂謝過了
2010-12-02 20:40:41
更高的亮度?！ 〖?b class="flag-6" style="color: red">光刻劃的優(yōu)勢(shì) - 可以干凈整齊的刻劃硬脆性材料 - 非接觸式工藝低運(yùn)營(yíng)成本 - 減少崩邊、微裂紋、分層等缺陷的出現(xiàn) - 刻劃線條窄提高了單片晶圓上的分粒數(shù)量 - 減少微裂紋
2011-12-01 11:48:46
151n光刻膠曝光顯影后開口底部都會(huì)有一撮殘留，找不到原因。各位幫分析下
2023-04-20 13:13:52
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻機(jī)作為集成電路制造中最關(guān)鍵的設(shè)備，對(duì)芯片制作工藝有著決定性的影響，被譽(yù)為“超精密制造技術(shù)皇冠上的明珠”，根據(jù)之前中芯國際的公報(bào)，目...
2021-07-29 09:36:46
GK-1000光刻掩膜版測(cè)溫儀，光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)測(cè)溫儀光刻機(jī)是一種用于微納米加工的設(shè)備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）等微細(xì)結(jié)構(gòu)。光刻機(jī)是一種光學(xué)投影技術(shù)，通過將光線通過
2023-07-07 11:46:07
據(jù)Pixelligent Technologies LLC表示，該公司開發(fā)出一種據(jù)稱可提高現(xiàn)有光刻設(shè)備分辨率的納米晶（nanocrystalline）材料，使光學(xué)光刻（Optical lithography）可擴(kuò)展至32納米以下。
2009-06-07 18:31:181781 澤攸科技ZEL304G電子束光刻機(jī)（EBL）是一款高性能、高精度的光刻設(shè)備，專為半導(dǎo)體晶圓的高速、高分辨率光刻需求設(shè)計(jì)。該系統(tǒng)采用先進(jìn)的場(chǎng)發(fā)射電子槍，結(jié)合一體化的高速圖形發(fā)生系統(tǒng)，確保光刻質(zhì)量?jī)?yōu)異且
2025-08-15 15:14:01
隨著芯片集成度的不斷提高、器件尺寸的不斷縮小，光刻技術(shù)和光刻設(shè)備發(fā)生著顯著變化。通過對(duì)目前國內(nèi)外光刻設(shè)備生產(chǎn)廠商對(duì)下一代光刻技術(shù)的開發(fā)及目前已經(jīng)應(yīng)用到先進(jìn)生產(chǎn)線上
2011-10-31 16:38:17
70 經(jīng)過十年的自主創(chuàng)新，上海光刻設(shè)備工程技術(shù)躋身世界一流，成功打破國際壟斷。7日，上海舉辦光刻機(jī)十年成果匯報(bào)暨上海微電子裝備有限公司十年回顧活動(dòng)。
2012-04-09 09:02:241427 本文主要介紹集成電路加工-光刻技術(shù)與光刻膠。集成電路加工主要設(shè)備和材料：光刻設(shè)備，半導(dǎo)體材料：?jiǎn)尉Ч璧龋谀?，化學(xué)品：光刻膠（光致抗蝕劑），超高純?cè)噭庋b材料及光刻機(jī)的介紹
2017-09-29 16:59:0218 光刻機(jī)是芯片制造中光刻環(huán)節(jié)的核心設(shè)備， 技術(shù)含量、價(jià)值含量極高。 光刻機(jī)涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)、精密運(yùn)動(dòng)、精密物料傳輸、高精度微環(huán)境控制等多項(xiàng)先進(jìn)技術(shù)，是所有半導(dǎo)體制造設(shè)備中技術(shù)含量最高的設(shè)備，因此也具備極高的單臺(tái)價(jià)值量。
2018-04-10 10:19:4737625 光學(xué)光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規(guī)模集成電路器件的結(jié)構(gòu)圖形畫在涂有光刻膠的硅片上，通過光的照射，光刻膠的成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統(tǒng)能獲得
2018-04-17 16:07:4135720 荷蘭ASML光刻機(jī)掌握著世界做高端的工藝，半導(dǎo)體行業(yè)都離不開他，ASML光刻機(jī)的售價(jià)也是相當(dāng)之高的。據(jù)傳，中芯國際1.2億美元向ASML預(yù)訂一套光刻設(shè)備，欲開發(fā)14納米工藝，縮小與競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手的差距。
2018-05-16 14:56:542178 近日，首屆進(jìn)博會(huì)上，由美國恩創(chuàng)公司投資的“原子層沉積技術(shù)產(chǎn)業(yè)園項(xiàng)目”，作為江蘇省五個(gè)重大項(xiàng)目之一亮相。該項(xiàng)目總投資90億元，將落戶在南京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)，主要從事原子層沉積（ALD）技術(shù)的研究與應(yīng)用、大型粉末ALD精密設(shè)備的生產(chǎn)銷售以及鋰電池正極材料加工等業(yè)務(wù)。
2018-11-13 10:43:061216 11月13號(hào)，捷威動(dòng)力電池項(xiàng)目在嘉興正式簽約，項(xiàng)目總投資約108億元，計(jì)劃建設(shè)產(chǎn)能20GWh的動(dòng)力電池生產(chǎn)基地，其中一期產(chǎn)能規(guī)劃6GWh，包括研發(fā)中心、生產(chǎn)基地一期等基礎(chǔ)建設(shè)，投資近50億元。
2018-11-15 15:24:344576 南報(bào)網(wǎng)報(bào)道，近日，總投資10億元、其中外資到賬不低于1億美元的海外項(xiàng)目——“SMCD”項(xiàng)目正式落戶中國（南京）軟件谷。
2019-04-02 16:36:217555 2018年，南大光電和上海新陽先后宣布，投入ArF光刻膠產(chǎn)品的開發(fā)與產(chǎn)業(yè)化，立志打破集成電路制造最為關(guān)鍵的基礎(chǔ)材料之一——高檔光刻膠材料幾乎完全依賴于進(jìn)口的局面，填補(bǔ)國內(nèi)高端光刻膠材料產(chǎn)品的空白。
2019-05-21 09:24:247863 
近日，沃衍資本攜手江蘇盛世投資、紫荊資本、深圳市投控通產(chǎn)新材料創(chuàng)業(yè)投資企業(yè)、四川潤(rùn)資、北京高盟新材料等投資機(jī)構(gòu)完成了對(duì)國內(nèi)光刻膠領(lǐng)頭企業(yè)—北京科華微電子材料有限公司1.7億元的投資。
2019-06-29 10:37:4629489 光刻膠概念股南大光電10月23日公告，擬投資新建光刻膠材料以及配套原材料項(xiàng)目。
2019-10-24 16:47:213744 11月25日，市場(chǎng)研究公司總裁羅伯特·卡斯特拉諾（Robert Castellano）表示：“過去三年來，應(yīng)用
材料一直在晶圓制造前段工序（WFE）的
設(shè)備市場(chǎng)上失去市場(chǎng)份額，而 ASML卻將憑借其價(jià)格高昂的EUV
光刻設(shè)備大批出貨實(shí)現(xiàn)超越，取代應(yīng)用
材料成為最大的半導(dǎo)體
設(shè)備公司?！?/div>
2019-11-26 15:06:442524 近日，上海新陽在投資者互動(dòng)平臺(tái)上表示，公司用于KRF248nm光刻膠配套的光刻機(jī)已完成廠內(nèi)安裝開始調(diào)試，ARF193nm光刻膠配套的光刻機(jī)預(yù)計(jì)12月底到貨。
2019-12-04 15:24:458657 光刻機(jī)是芯片制造最為重要的設(shè)備之一。目前，ASML壟斷了全世界的高端光刻機(jī)。中國一直以來都想掌握光刻機(jī)技術(shù)，但是上海微電子經(jīng)過17年的努力，才造出90nm的光刻機(jī)，這已經(jīng)十分不容易了，這可是0的突破。那么為什么光刻機(jī)這么難造呢？
2020-01-29 11:07:008876 通過了《關(guān)于投資實(shí)施國家“02專項(xiàng)”ArF光刻膠產(chǎn)品的開發(fā)與產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目的議案》和《關(guān)于使用部分超募資金投資“ArF光刻膠產(chǎn)品的開發(fā)與產(chǎn)業(yè)化”項(xiàng)目的議案》。
2019-12-16 11:17:576730 今年7月17日，南大光電在互動(dòng)平臺(tái)透露，公司設(shè)立光刻膠事業(yè)部，并成立了全資子公司“寧波南大光電材料有限公司”，全力推進(jìn)“ArF光刻膠開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目”落地實(shí)施。目前該項(xiàng)目完成的研發(fā)技術(shù)正在等待驗(yàn)收中，預(yù)計(jì)2019年底建成一條光刻膠生產(chǎn)線，項(xiàng)目產(chǎn)業(yè)化基地建設(shè)順利。
2019-12-16 13:58:528273 經(jīng)常聽說，高端光刻機(jī)不僅昂貴而且還都是國外的，那么什么是光刻機(jī)呢？上篇我們聊了從原材料到拋光晶片的制成過程，今天我們就來聊聊什么是光刻～
2020-01-24 16:47:009060 光刻機(jī)技術(shù)壁壘高且投資占比大，芯片尺寸的縮小以及性能的提升依賴于光刻技術(shù)的發(fā)展。
2020-02-21 20:47:114175 經(jīng)常聽說，高端光刻機(jī)不僅昂貴而且還都是國外的，那么什么是光刻機(jī)呢？上篇我們聊了從原材料到拋光晶片的制成過程，今天我們就來聊聊什么是光刻～
2020-03-15 14:46:00229670 光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一，作為目前世界上最復(fù)雜的精密設(shè)備之一，其實(shí)光刻機(jī)除了能用于生產(chǎn)芯片之外，還有用于封裝的光刻機(jī)，或者是用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)。目前，我國高端的光刻機(jī)，基本上是從荷蘭ASML進(jìn)口的。
2020-03-18 11:12:0247310 近日，埃眸科技與常熟高新區(qū)正式簽署項(xiàng)目協(xié)議，打造納米壓印光刻機(jī)生產(chǎn)線。
2020-04-13 16:18:059002 對(duì)于公司兩臺(tái)光刻機(jī)何時(shí)到位，上海新陽稱，公司購買的ArF光刻機(jī)準(zhǔn)備運(yùn)輸中，時(shí)間尚不能確定。I線光刻機(jī)已完成招投標(biāo)，在進(jìn)行采購中。
2020-06-23 16:30:402415 開發(fā)行股票計(jì)劃募集資金總額不超過人民幣 120,000.00萬元，扣除發(fā)行費(fèi)用后的募集資金凈額擬投入以下項(xiàng)目。其中，有8.5億元將會(huì)投入到新一代電子信息材料國產(chǎn)化項(xiàng)目-光刻膠及光刻膠配套試劑研發(fā)當(dāng)中。 雅克科技于2010年在深交所中小企業(yè)板上市，主
2020-09-24 10:32:016129 
9月16日，安徽馬鞍山當(dāng)涂縣9月份項(xiàng)目集中簽約、集中開工儀式在姑孰工業(yè)集中區(qū)舉行。 本次集中簽約8個(gè)項(xiàng)目，其中包括斯坦得LDI感光干膜及半導(dǎo)體光刻膠項(xiàng)目。該項(xiàng)目總投資15億元，分2期建設(shè)。其中，一期
2020-09-24 11:12:054086 考慮到光刻工藝步驟中的光刻膠、光刻氣體、光罩（光掩膜板）、涂膠顯影設(shè)備等諸多配套設(shè)施和材料投資，實(shí)則整個(gè)光刻工藝占到了芯片成本的三分之一左右。
2020-10-09 15:40:112916 全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模從2016 年的15 億美元增長(zhǎng)至2019年的18億美元，年復(fù)合增長(zhǎng)率達(dá)6.3%；應(yīng)用方面，光刻膠主要應(yīng)用在PCB、半導(dǎo)體及LCD顯示等領(lǐng)域，各占約25%市場(chǎng)份額。 國內(nèi)光刻膠整體
2020-10-10 17:40:253534 荷蘭阿斯麥（ASML）公司的光刻機(jī)作為世界上最貴最精密的儀器，相信大家都有耳聞，它是加工芯片的設(shè)備。其最先進(jìn)的EUV（極紫外光）光刻機(jī)已經(jīng)能夠制造7nm以下制程的芯片，據(jù)說一套最先進(jìn)的7納米EUV
2020-10-15 09:20:055352 ASML的EUV光刻機(jī)是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產(chǎn)的設(shè)備，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻機(jī)必不可缺。一臺(tái)EUV光刻機(jī)的售價(jià)為1.48億歐元，折合人民幣高達(dá)11.74億
2020-10-19 12:02:4910752 
對(duì)公司光刻膠業(yè)務(wù)的具體影響等問題。 10月12日，晶瑞股份發(fā)布關(guān)于深圳證券交易所關(guān)注函的回復(fù)公告稱，本次擬購買的光刻機(jī)設(shè)備將用于公司集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項(xiàng)目，將有助于公司將光刻膠產(chǎn)品序列實(shí)現(xiàn)到ArF光刻膠的跨越，并最終實(shí)
2020-10-21 10:32:105003 近兩年來，芯片制造成為了半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展的焦點(diǎn)。芯片制造離不開光刻機(jī)，而光刻技術(shù)則是光刻機(jī)發(fā)展的重要推動(dòng)力。在過去數(shù)十載的發(fā)展中，光刻技術(shù)也衍生了多個(gè)分支，除了光刻機(jī)外，還包括光源、光學(xué)元件、光刻膠等材料設(shè)備，也形成了極高的技術(shù)壁壘和錯(cuò)綜復(fù)雜的產(chǎn)業(yè)版圖。
2020-11-27 16:03:3621975 化咨詢預(yù)計(jì)，2020年全球半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)規(guī)模預(yù)計(jì)超過21億美元，光刻過程中用到的材料（光刻膠、光刻膠輔材、光罩）約為晶圓制造材料市場(chǎng)的26%。
目前，國內(nèi)90-14nm半導(dǎo)體制程的高端半導(dǎo)體芯片
2020-12-29 15:41:443108 在光刻機(jī)領(lǐng)域一家獨(dú)大的荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML，占據(jù)著芯片行業(yè)的頂端，畢竟沒有了他們的設(shè)備，想要造出先進(jìn)工藝制程的芯片是沒戲的。 財(cái)報(bào)披露，ASML2020年全年凈銷售額140億歐元，毛利率為48.6
2021-01-22 10:38:165843 
據(jù)馬鞍山發(fā)布，安徽馬鞍山慈湖高新區(qū)舉辦通信通訊產(chǎn)業(yè)重點(diǎn)項(xiàng)目集中簽約儀式。其中，簽約的部分項(xiàng)目包括：蘇州世名光刻膠納米材料產(chǎn)業(yè)園項(xiàng)目，由世名科技投資，從事先進(jìn)光敏材料及光刻膠納米顏料分散液研發(fā)
2021-02-24 16:25:063276 中芯國際的芯片工藝目前已發(fā)展至14nm，若想將芯片工藝進(jìn)一步提升至7nm乃至3nm等先進(jìn)制程，EUV光刻機(jī)設(shè)備就必不可少。那么，中芯國際此次12億美元的采購協(xié)議都有哪些類型的光刻機(jī)，包含EUV光刻機(jī)嗎？
2021-03-10 14:36:5511344 上海新陽表示，公司采購的ASML干法光刻機(jī)設(shè)備順利交付，對(duì)加快193nmArF干法光刻膠產(chǎn)品開發(fā)進(jìn)度有積極影響，有利于進(jìn)一步提升公司光刻膠產(chǎn)品的核心競(jìng)爭(zhēng)力，加快落實(shí)公司發(fā)展戰(zhàn)略，提高公司抗風(fēng)險(xiǎn)能力和可持續(xù)發(fā)展能力。
2021-03-10 17:13:003205 4月21日，新宙邦公告稱，控股孫公司江蘇瀚康擬與瀚邦聚能設(shè)立合資公司瀚康電子材料，在江蘇淮安投資12億元建設(shè)年產(chǎn)5.9萬噸鋰電添加劑項(xiàng)目。 其中一期投資約6.6億元，2年后達(dá)產(chǎn)，將建成年產(chǎn)2.93
2021-04-25 10:10:036360 5月27日，半導(dǎo)體光刻膠概念股開盤即走強(qiáng)，截至收盤，A股光刻膠板塊漲幅達(dá)6.48%。其中晶瑞股份、廣信材料直線拉升大漲20%封漲停，容大感光大漲13.28%，揚(yáng)帆新材大漲11.37%，南大光電
2021-05-28 10:34:154020 不會(huì)有我們現(xiàn)在的手機(jī)、電腦了。 光刻機(jī)是用于芯片制造的核心設(shè)備，按照用途可以分為用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)、用于封裝的光刻機(jī)和用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)。 光刻機(jī)的核心原理就是一個(gè)透鏡組，在精度上首先咱們有個(gè)概念：我們現(xiàn)在芯片的
2021-07-07 14:31:18130297 最近光博會(huì)上看到一本關(guān)于光刻的小冊(cè)子，里面有一點(diǎn)內(nèi)容，分享給大家。 關(guān)于光刻的原理、光刻設(shè)備、光刻膠的種類和選擇等。 開篇 光刻的原理 表面處理：一般的晶圓光刻前都需要清潔干凈，特別是有有機(jī)物
2021-10-13 10:59:425701 
光刻膠是光刻機(jī)研發(fā)的重要材料，換句話說光刻機(jī)就是利用特殊光線將集成電路映射到硅片的表面，如果想要硅片的表面不留下痕跡，就需要網(wǎng)硅片上涂一層光刻膠。
2022-02-05 16:11:0015756 光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前有用于生產(chǎn)的光刻機(jī)，有用于LED制造領(lǐng)域的光刻機(jī)，還有用于封裝的光刻機(jī)。光刻機(jī)是采用類似照片沖印的技術(shù)，然后把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
2022-02-05 16:03:0090746 光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī)。
2022-07-06 11:03:078348 ASML的極紫外光刻機(jī)（EUV），這個(gè)是當(dāng)前世界頂級(jí)的光刻機(jī)設(shè)備。 在芯片加工的時(shí)候，光刻機(jī)是用一系列光源能量和形狀控制手段，通過帶有電路圖的掩模傳輸光束。 光刻設(shè)備涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)、精密運(yùn)動(dòng)、精密材料傳輸、高精度微環(huán)境控制等多項(xiàng)先
2022-07-10 11:17:4253101 目前，光刻機(jī)主要分為EUV光刻機(jī)和DUV光刻機(jī)。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù)，EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。EUV為先進(jìn)工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1087067 euv光刻機(jī)原理是什么 芯片生產(chǎn)的工具就是紫外光刻機(jī)，是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備，對(duì)芯片技術(shù)有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。那么euv光刻機(jī)原理是什么呢？ EUV
2022-07-10 15:28:1018347 與此同時(shí)，在ASML看來，下一代高NA EUV光刻機(jī)為光刻膠再度帶來了挑戰(zhàn)，更少的隨機(jī)效應(yīng)、更高的分辨率和更薄的厚度。首先傳統(tǒng)的正膠和負(fù)膠肯定是沒法用了，DUV光刻機(jī)上常用的化學(xué)放大光刻膠（CAR）也開始在5nm之后的分辨率和敏感度上出現(xiàn)瓶頸
2022-07-22 10:40:083923 首先光刻膠成分復(fù)雜，一瓶光刻膠需要光引發(fā)劑、光增感劑、光致產(chǎn)酸劑、樹脂、稀釋劑、溶劑、助劑這些材料組成，而且配方都是保密的。
2022-07-25 16:27:575200 南大光電最新消息顯示，國產(chǎn)193nm（ArF）光刻膠研發(fā)成功，這家公司成為通過國家“02專項(xiàng)”驗(yàn)收的ArF光刻膠項(xiàng)目實(shí)施主體；徐州博康宣布，該公司已開發(fā)出數(shù)十種高端光刻膠產(chǎn)品系列，包括
2022-08-31 09:47:142371 光刻膠的組成：樹脂（resin/polymer），光刻膠中不同材料的粘合劑，給與光刻膠的機(jī)械與化學(xué)性質(zhì)（如粘附性、膠膜厚度、熱穩(wěn)定性等）；感光劑，感光劑對(duì)光能發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)；溶劑（Solvent
2022-10-21 16:40:0423796 湖州國資消息，寧波微芯新材料科技有限公司的半導(dǎo)體材料生產(chǎn)基地項(xiàng)目總投資3.5億元人民幣，用地35畝，年產(chǎn)1000噸的電子級(jí)光刻膠原材料（光刻膠樹脂、高等級(jí)單體等核心材料）基地建設(shè)?！比窟_(dá)到，預(yù)計(jì)年產(chǎn)值可達(dá)到約5億元。
2023-08-21 11:18:262538 光學(xué)光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規(guī)模集成電路器件的結(jié)構(gòu)圖形畫在涂有光刻膠的硅片上，通過光的照射，光刻膠的成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統(tǒng)能獲得的分辨率直接相關(guān)，而減小照射光源的波長(zhǎng)是提高分辨率的最有效途徑。
2023-10-24 11:43:151810 
第六屆進(jìn)博會(huì)于近日在上海國家會(huì)展中心正式收官，ASML2023進(jìn)博之旅也圓滿落幕! 今年，ASML繼續(xù)以“光刻未來，攜手同行”為主題，攜全景光刻解決方案驚艷亮相，還創(chuàng)新性地帶來了“芯”意滿滿的沉浸式
2023-11-11 15:23:531746 
光刻膠在未曝光之前是一種黏性流體，不同種類的光刻膠具有不同的黏度。黏度是光刻膠的一項(xiàng)重要指標(biāo)。那么光刻膠的黏度為什么重要？黏度用什么表征？哪些光刻膠算高黏度，哪些算低黏度呢？
2023-11-13 18:14:112940 
據(jù)吳中發(fā)布的最新消息，簽約項(xiàng)目涵蓋了瑞紅集成電路高端光刻膠總部項(xiàng)目，該項(xiàng)投資高達(dá)15億元，旨在新建半導(dǎo)體光刻膠及其配套試劑的生產(chǎn)基地。
2024-01-26 09:18:431197 光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料，可以通過光刻機(jī)上的模板或掩模來進(jìn)行曝光。
2024-03-04 17:19:189618 康達(dá)新材表示，為了貫徹其“新材料+電子科技”戰(zhàn)略，優(yōu)化旗下彩晶光電產(chǎn)品構(gòu)成，填補(bǔ)內(nèi)地資源空缺，推進(jìn)國產(chǎn)化進(jìn)程，解決半導(dǎo)體光刻膠核心材料受限問題，打破國際技術(shù)和市場(chǎng)壟斷
2024-04-16 09:44:361668 市場(chǎng)對(duì)需要EUV光刻系統(tǒng)的先進(jìn)芯片的需求不斷增長(zhǎng)，東京應(yīng)化、信越化學(xué)、三菱化學(xué)等日本公司正在增加投資并關(guān)注EUV關(guān)鍵技術(shù)所用材料的供應(yīng)。 東京應(yīng)化（TOK）正在福島縣建造一座全新的先進(jìn)光刻膠工廠，該工廠預(yù)計(jì)將于2024年底開工，2026年完工。
2024-07-16 18:27:02816 光刻掩膜（也稱為光罩）和模具在微納加工技術(shù)中都起著重要的作用，但它們的功能和應(yīng)用有所不同。 光刻掩膜版 光刻掩膜版是微納加工技術(shù)中常用的光刻工藝所使用的圖形母版。它由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成
2024-10-14 14:42:031183 光刻膠是半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域的一種重要材料，在整個(gè)電子元器件加工產(chǎn)業(yè)有著舉足輕重的地位。 它主要由感光樹脂、增感劑和溶劑等成分組成。其中，感光樹脂決定了光刻膠的感光度和分辨率等關(guān)鍵性能，增感劑有助于提高
2024-12-19 13:57:362091 機(jī)和光刻膠： ? 光掩膜：如同芯片的藍(lán)圖，上面印有每一層結(jié)構(gòu)的圖案。 ? ? ?光刻機(jī)：像一把精確的畫筆，能夠引導(dǎo)光線在光刻膠上刻畫出圖案。 ? 光刻膠：一種特殊的感光材料，通過光刻過程在光刻膠上形成圖案，進(jìn)而構(gòu)建出三維結(jié)構(gòu)。
2025-01-28 16:36:003594 
本文主要介紹光刻機(jī)的分類與原理。 ? 光刻機(jī)分類 光刻機(jī)的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類，光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機(jī)包括芯片光刻機(jī)和面板光刻機(jī)。面板光刻機(jī)的工作原理和芯片光刻機(jī)相似
2025-01-16 09:29:456363 
【2025年光刻機(jī)市場(chǎng)的規(guī)模預(yù)計(jì)為252億美元】 光刻機(jī)作為半導(dǎo)體制造過程中價(jià)值量和技術(shù)壁壘最高的設(shè)備之一，其在半導(dǎo)體制造中的重要性不言而喻。 目前，全球市場(chǎng)對(duì)光刻機(jī)的需求持續(xù)增長(zhǎng)，尤其是在先
2025-04-07 09:24:271241 干涉儀在光刻圖形測(cè)量中的應(yīng)用。 ? 減少光刻膠剝離工藝對(duì)器件性能影響的方法 ? 優(yōu)化光刻膠材料選擇 ? 選擇與半導(dǎo)體襯底兼容性良好的光刻膠材料，可增強(qiáng)光刻膠與襯底的粘附力，減少剝離時(shí)對(duì)襯底的損傷風(fēng)險(xiǎn)。例如，針對(duì)特定的硅基襯
2025-06-14 09:42:56736 
圖1 肘形圖形為目標(biāo)圖形，不同方法得到的全息掩模分布、空間像與光刻膠輪廓 近日，中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所高端光電裝備部李思坤研究員團(tuán)隊(duì)在全息光刻研究方面取得進(jìn)展。相關(guān)成果以
2025-09-19 09:19:56443 
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