chinese直男口爆体育生外卖, 99久久er热在这里只有精品99, 又色又爽又黄18禁美女裸身无遮挡, gogogo高清免费观看日本电视,私密按摩师高清版在线,人妻视频毛茸茸,91论坛 兴趣闲谈,欧美 亚洲 精品 8区,国产精品久久久久精品免费

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

全光譜橢偏儀在二維材料中的應(yīng)用 | 解析PtSe?光學常數(shù)厚度依賴關(guān)系

Flexfilm ? 2025-07-25 18:02 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

過渡金屬硫化物(TMDs)的厚度可調(diào)能帶結(jié)構(gòu)使其在光電子領(lǐng)域備受關(guān)注。PtSe?作為新型層狀材料,具有從半導(dǎo)體半金屬的相變特性,帶隙可調(diào)控。然而,其精確光學常數(shù)數(shù)據(jù)長期缺失,制約器件優(yōu)化。橢圓偏振儀憑借亞納米級精度、無損測量及同步獲取膜厚與光學參數(shù)的優(yōu)勢,成為解決該問題的關(guān)鍵手段。Flexfilm費曼儀器作為國內(nèi)領(lǐng)先測量供應(yīng)商所提供的Flexfilm全光譜橢偏儀,可精確量化PtSe?的折射率n、消光系數(shù)k厚度d,結(jié)合多尺度表征解析厚度依賴規(guī)律與相變機制。

1

PtSe?薄膜的制備和光學表征

flexfilm

樣品制備

820ff89a-693e-11f0-a486-92fbcf53809c.png

(a)化學氣相沉積的方法制備 PtSe? 的示意圖(b)制備得到的 PtSe?薄膜的光學顯微圖

在實驗中用到的6 塊不同厚度的 PtSe?薄膜(標號分別為樣品 A-F)所有樣品的尺寸均約為 1×1×0.03 cm3。這些樣品均為采用化學氣相沉積的方法沉積在藍寶石(Al?O?)基底上得到的。

光學表征

首先對樣品 A-F 進行了光學表征,以驗證樣品的質(zhì)量。利用原子力顯微鏡(AFM)觀察了樣品的表面形貌以及測量了 6 個樣品的厚度,與橢偏儀擬合得到的厚度進行比較。

各樣品的生長時間、使用 AFM 和橢偏儀測量的厚度以及相應(yīng)的 Se/Pt 化學計量比

82208f3e-693e-11f0-a486-92fbcf53809c.png

2

橢偏儀測量PtSe?薄膜的光學常數(shù)

flexfilm

測量參數(shù)

光譜范圍:360–1700 nm

入射角:50°

波長步長:5 nm

8231d2d0-693e-11f0-a486-92fbcf53809c.png

橢偏儀內(nèi)部光路示意圖

光路流程
超連續(xù)光源 → 槽光柵(分光) → 偏振片(線偏振光) → 1/4波片(橢圓偏振光) → 樣品反射 → 物鏡 → 檢偏器 → CCD探測器

測量原理
通過分析反射光中 s/p偏振分量 的振幅比(ψ)相位差(Δ),結(jié)合菲涅爾反射理論,反演樣品的光學常數(shù)(n, κ)和厚度。

824196f2-693e-11f0-a486-92fbcf53809c.png

采用 Lorentz + Tauc-Lorentz + Drude + eps 線型擬合得到的 (a)n和k;(b) ψ和Δ

模型建立:采用"藍寶石基底/PtSe?薄膜/空氣"三層模型,以Lorentz + Tauc-Lorentz + eps色散關(guān)系擬合,均方根誤差(RMSE)< 5,優(yōu)于Drude混合模型。

3

光學常數(shù)厚度依賴性

flexfilm

8252e0f6-693e-11f0-a486-92fbcf53809c.png

測量得到的不同厚度的PtSe?的(a)折射率n;(b)消光系數(shù)k;(c)介電函數(shù)實部ε?;(d)介電函數(shù)虛部ε?

通過橢偏擬合獲得PtSe?的光學常數(shù)(n, k,ε?,ε?)及厚度d,關(guān)鍵規(guī)律如下:

折射率 n:厚度增大而增大(長波區(qū)更顯著);隨波長增加呈"先增后減"趨勢,且峰值位置隨厚度紅移。

消光系數(shù)k:樣品的厚度越大,消光系數(shù)k的值越大紅外區(qū)顯著增強);除最薄樣品(A)外,所有k譜存在雙吸收峰,峰間距隨厚度減小而縮??;波長依賴性:短波區(qū)平穩(wěn) → 600–1200 nm劇減 → 長波區(qū)趨穩(wěn)。

介電函數(shù):ε?變化同n;ε?譜呈單峰結(jié)構(gòu),峰位隨厚度增加紅移

本文使用橢偏儀在紫外到紅外光譜范圍內(nèi)(360-1700 nm)測量了不同厚度PtSe?的光學常數(shù), 化學氣相沉積制備的藍寶石基底上的 PtSe?薄膜的光學常數(shù)表現(xiàn)為強烈的厚度依賴特性,隨著薄膜厚度增加,其折射率n和消光系數(shù)k都增大,原因是隨樣品厚度增加其半金屬的成分也增加。PtSe?光學常數(shù)的厚度依賴特性為我們調(diào)控基于 PtSe?的光電器件提供了新的維度,有助于 PtSe?在光電器件領(lǐng)域的應(yīng)用。

Flexfilm全光譜橢偏儀

flexfilm

826ab55a-693e-11f0-a486-92fbcf53809c.jpg

全光譜橢偏儀擁有高靈敏度探測單元光譜橢偏儀分析軟件,專門用于測量和分析光伏領(lǐng)域中單層或多層納米薄膜的層構(gòu)參數(shù)(如厚度)和物理參數(shù)(如折射率n、消光系數(shù)k)

  • 先進的旋轉(zhuǎn)補償器測量技術(shù):無測量死角問題。
  • 粗糙絨面納米薄膜的高靈敏測量:先進的光能量增強技術(shù),高信噪比的探測技術(shù)。
  • 秒級的全光譜測量速度:全光譜測量典型5-10秒。
  • 原子層量級的檢測靈敏度:測量精度可達0.05nm。

Flexfilm全光譜橢偏儀擁有高靈敏度探測單元和光譜橢偏儀分析軟件可以精確量化PtSe?的折射率n、消光系數(shù)k厚度d。Flexfilm費曼儀器以創(chuàng)新技術(shù)解決二維材料的光學常數(shù)標定難題,助力全球薄膜材料領(lǐng)域的高質(zhì)量發(fā)展。

原文參考:《基于橢偏儀測量的PtSe2光學性質(zhì)研究》

*特別聲明:本公眾號所發(fā)布的原創(chuàng)及轉(zhuǎn)載文章,僅用于學術(shù)分享和傳遞行業(yè)相關(guān)信息。未經(jīng)授權(quán),不得抄襲、篡改、引用、轉(zhuǎn)載等侵犯本公眾號相關(guān)權(quán)益的行為。內(nèi)容僅供參考,如涉及版權(quán)問題,敬請聯(lián)系,我們將在第一時間核實并處理。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 材料
    +關(guān)注

    關(guān)注

    3

    文章

    1420

    瀏覽量

    28361
  • 光譜
    +關(guān)注

    關(guān)注

    4

    文章

    973

    瀏覽量

    36593
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點推薦

    研究二維材料中的鐵電性

    光譜材料科學和二維材料特性研究中發(fā)揮著重要作用。拉曼光譜
    的頭像 發(fā)表于 11-22 06:29 ?1099次閱讀
    研究<b class='flag-5'>二維</b><b class='flag-5'>材料中</b>的鐵電性

    基于超構(gòu)表面陣列的微型單次曝光光譜研究

    半導(dǎo)體芯片和光學元件加工等應(yīng)用中,精確測量薄膜的厚度和折射率至關(guān)重要。光譜
    的頭像 發(fā)表于 04-19 09:17 ?1535次閱讀
    基于超構(gòu)表面陣列的微型單次曝光<b class='flag-5'>光譜</b><b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>儀</b>研究

    基于超構(gòu)表面的微型

    圖1.傳統(tǒng)構(gòu)型光譜(a)和基于超構(gòu)表面陣列的光譜
    的頭像 發(fā)表于 04-28 06:35 ?888次閱讀
    基于超構(gòu)表面的微型<b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>儀</b>

    光譜測量:金屬/半導(dǎo)體TMDs薄膜光學常數(shù)與高折射率特性

    過渡金屬硫族化合物(TMDs)因其獨特的激子效應(yīng)、高折射率和顯著的光學各向異性,納米光子學領(lǐng)域展現(xiàn)出巨大潛力。本研究采用Flexfilm光譜
    的頭像 發(fā)表于 07-21 18:17 ?382次閱讀
    <b class='flag-5'>全</b><b class='flag-5'>光譜</b><b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>儀</b>測量:金屬/半導(dǎo)體TMDs薄膜<b class='flag-5'>光學</b><b class='flag-5'>常數(shù)</b>與高折射率特性

    原理和應(yīng)用 | 精準測量不同基底光學薄膜TiO?/SiO?的光學常數(shù)

    費曼儀器作為國內(nèi)領(lǐng)先的薄膜材料檢測解決方案提供商,致力于為全球工業(yè)智造提供精準測量解決方案。其中光譜
    的頭像 發(fā)表于 07-22 09:51 ?698次閱讀
    <b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>儀</b>原理和應(yīng)用 | 精準測量不同基底<b class='flag-5'>光學</b>薄膜TiO?/SiO?的<b class='flag-5'>光學</b><b class='flag-5'>常數(shù)</b>

    大面積薄膜光學映射與成像技術(shù)綜述:光譜技術(shù)

    檢測需求。本文聚焦光學表征技術(shù)的革新,重點闡述光學方法大面積薄膜映射與成像中的突破性應(yīng)
    的頭像 發(fā)表于 07-22 09:53 ?578次閱讀
    大面積薄膜<b class='flag-5'>光學</b>映射與成像技術(shù)綜述:<b class='flag-5'>全</b><b class='flag-5'>光譜</b><b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b>技術(shù)

    薄膜厚度測量技術(shù)的綜述:從光譜反射法(SR)到光譜(SE)

    被廣泛采用。Flexfilm光譜不僅能夠滿足工業(yè)生產(chǎn)中對薄膜厚度
    的頭像 發(fā)表于 07-22 09:54 ?1328次閱讀
    薄膜<b class='flag-5'>厚度</b>測量技術(shù)的綜述:從<b class='flag-5'>光譜</b>反射法(SR)到<b class='flag-5'>光譜</b><b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>儀</b>(SE)

    聚焦位置對光譜膜厚測量精度的影響

    半導(dǎo)體芯片制造中,薄膜厚度的精確測量是確保器件性能的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。隨著工藝節(jié)點進入納米級,單顆芯片上可能需要堆疊上百層薄膜,且每層厚度僅幾納米至幾十納米。光譜
    的頭像 發(fā)表于 07-22 09:54 ?401次閱讀
    聚焦位置對<b class='flag-5'>光譜</b><b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>儀</b>膜厚測量精度的影響

    測量薄膜厚度的原理與應(yīng)用

    半導(dǎo)體、光學鍍膜及新能源材料等領(lǐng)域,精確測量薄膜厚度光學常數(shù)
    的頭像 發(fā)表于 07-22 09:54 ?927次閱讀
    <b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>儀</b>測量薄膜<b class='flag-5'>厚度</b>的原理與應(yīng)用

    薄膜測量原理和方法:光學模型建立和仿真

    領(lǐng)先的薄膜材料檢測解決方案提供商,致力于為全球工業(yè)智造提供精準測量解決方案。其中Flexfilm光譜
    的頭像 發(fā)表于 08-15 18:01 ?2909次閱讀
    <b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>儀</b>薄膜測量原理和方法:<b class='flag-5'>光學</b>模型建立和仿真

    的原理和應(yīng)用 | 薄膜材料或塊體材料光學參數(shù)和厚度的測量

    是一種基于橢圓偏振分析的光學測量儀器,通過探測偏振光與樣品相互作用后偏振態(tài)的變化,獲取材料光學
    的頭像 發(fā)表于 08-27 18:04 ?770次閱讀
    <b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>儀</b>的原理和應(yīng)用 | 薄膜<b class='flag-5'>材料</b>或塊體<b class='flag-5'>材料</b><b class='flag-5'>光學</b>參數(shù)和<b class='flag-5'>厚度</b>的測量

    薄膜測厚選臺階還是?針對不同厚度范圍提供技術(shù)選型指南

    的物理高度差,為實現(xiàn)厚膜層的簡單、直接測量提供了經(jīng)典方案。而光譜則利用光與薄膜相互作用的偏振態(tài)變化,兼具非破壞性、快速測量與提取材料
    的頭像 發(fā)表于 08-29 18:01 ?2024次閱讀
    薄膜測厚選臺階<b class='flag-5'>儀</b>還是<b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>儀</b>?針對不同<b class='flag-5'>厚度</b>范圍提供技術(shù)選型指南

    半導(dǎo)體薄膜厚度測量中的應(yīng)用:基于光譜干涉法研究

    薄膜厚度的測量芯片制造和集成電路等領(lǐng)域中發(fā)揮著重要作用。法具備高測量精度的優(yōu)點,利用寬譜測量方式可得到
    的頭像 發(fā)表于 09-08 18:02 ?1028次閱讀
    <b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>儀</b><b class='flag-5'>在</b>半導(dǎo)體薄膜<b class='flag-5'>厚度</b>測量中的應(yīng)用:基于<b class='flag-5'>光譜</b>干涉<b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b>法研究

    常見技術(shù)問題解答(一)

    是一種基于橢圓偏振分析的光學測量儀器,通過探測偏振光與樣品相互作用后偏振態(tài)的變化,獲取材料光學
    的頭像 發(fā)表于 09-26 18:04 ?338次閱讀
    <b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>儀</b>常見技術(shù)問題解答(一)

    常見技術(shù)問題解答(

    是一種基于橢圓偏振分析的光學測量儀器,通過探測偏振光與樣品相互作用后偏振態(tài)的變化,獲取材料光學
    的頭像 發(fā)表于 10-10 18:05 ?87次閱讀
    <b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>儀</b>常見技術(shù)問題解答(<b class='flag-5'>二</b>)