電子發(fā)燒友網報道（文/莫婷婷）2025年12月，中國半導體產業(yè)迎來重大戰(zhàn)略調整。中芯國際宣布兩大重磅資本動作：一是以約406億元人民幣完成對控股子公司中芯北方剩余49%股權的收購，實現(xiàn)全資控股；二是
2025-12-31 08:01:00
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電子發(fā)燒友網報道（文/李彎彎）2025年11月14日，中芯國際正式發(fā)布了其2025年第三季度財務報告。報告顯示，中芯國際第三季度實現(xiàn)營業(yè)收入171.62億元人民幣，同比增長9.9%，環(huán)比增長6.9
2025-11-15 08:27:0012804 
電子發(fā)燒友網報道（文/黃山明）芯片，一直被譽為 人類智慧、工程協(xié)作與精密制造的集大成者 ，而制造芯片的重要設備光刻機就是 雕刻這個結晶的 “ 神之手 ”。但僅有光刻機還不夠，還需要光刻膠、掩膜版以及
2025-10-28 08:53:356234 ? 電子發(fā)燒友網報道（文/吳子鵬）?在全球半導體產業(yè)格局中，光刻機被譽為 “半導體工業(yè)皇冠上的明珠”，而極紫外（EUV）光刻技術更是先進制程芯片制造的核心。長期以來，荷蘭 ASML 公司幾乎壟斷
2025-10-04 03:18:009690 
*1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板級封裝（FOPLP）技術為何會獲得臺積電、三星等代工大廠的青睞？比較傳統(tǒng)的光刻機設備，尼康DSP-100的技術原理有何不同？能解決AI芯片生產當中的哪些痛點問題？ 針對2nm、3nm芯片制造難題，光刻機龍頭企業(yè)ASML新款光刻機又能帶來哪些優(yōu)勢？本文進行詳細分析。
2025-07-24 09:29:397824 
根據(jù)中國政府采購網公示，上海微電子裝備（集團）股份有限公司中標 zycgr22011903 采購步進掃描式光刻機項目，設備數(shù)量為一臺，貨物型號為 SSC800/10，成交金額 1.1 億
2025-12-26 08:35:004287 
電子發(fā)燒友網綜合報道 12月19日，銀河通用機器人宣布已于近期完成新一輪超 3 億美元融資，再次刷新具身智能單輪融資紀錄。本輪融資由中國移動鏈長基金領投，中金資本、中科院基金、蘇創(chuàng)投、央視融媒體基金
2025-12-23 09:11:205709 在7納米、3納米等先進芯片制造中，光刻機0.1納米級的曝光精度離不開高精度石英壓力傳感器的支撐，其作為“隱形功臣”，是保障工藝穩(wěn)定、設備安全與產品良率的核心部件。本文聚焦石英壓力傳感器在光刻機中
2025-12-12 13:02:26424 產業(yè)鏈頂尖廠商參展。作為中國大陸集成電路制造業(yè)的領軍者，中芯國際深度參與了此次盛會，攜手產業(yè)鏈伙伴共同推動“開放創(chuàng)芯，成就未來”產業(yè)發(fā)展新圖景。
2025-11-28 16:55:48742 安森美(onsemi，美國納斯達克股票代號：ON)宣布其董事會已授權在未來三年內實施達60億美元的新股票回購計劃，自2026年1月1日起生效，原30億美元的授權將于2025年12月31日到期。根據(jù)
2025-11-27 13:47:45256 子公司。 ? 受該消息刺激，19日，賽微電子股價爆炸10.16%，結束多日的低迷，總市值達215.86億元。 根據(jù)公告，交易初步方案為公司擬購買芯東來原股東海南依邁、智能傳感產業(yè)基金、潯元投資、海創(chuàng)智能裝備分別持有的芯東來4.11%、3.00%、2.80%、1.09%股權。其中，海南依
2025-11-19 18:15:282497 
11月13日，國內最大的晶圓代工企業(yè)中芯國際發(fā)布Q3業(yè)績報，三季度，中芯國際公司整體實現(xiàn)營業(yè)收入人民幣 171.62 億元（23.81億美元），同比增長9.9%；Q3歸屬上市公司凈利潤達到15.17
2025-11-14 10:00:2012607 
電子發(fā)燒友網綜合報道 在第八屆中國國際進口博覽會（以下簡稱“進博會”）上，全球光刻機巨頭ASML以“積納米之微，成大千世界”為主題亮相，向全球展示其面向主流芯片市場的全景光刻解決方案。這是ASML
2025-11-13 09:12:551922 意法半導體第三季度實現(xiàn)凈營收31.9億美元，毛利率33.2%，營業(yè)利潤1.80億美元，凈利潤2.37億美元，每股攤薄收益-0.26美元（非美國通用會計準則營業(yè)利潤為2.17億美元，非美國通用會計準則凈利潤為2.67億美元，每股攤薄收益0.29美元）。
2025-10-29 10:54:20429 一、先搞懂：7nm 良率提升到底意味著什么？?
很多人覺得 “7nm 芯片” 是手機、電腦的專屬，其實不然！良率簡單說就是 “合格芯片的產出比例”，中芯國際 7nm 良率提高，核心意義是：高端芯片能
2025-10-28 20:46:33
根據(jù)恩智浦發(fā)布的三季度運營業(yè)績報告數(shù)據(jù)顯示，?恩智浦三季度營收31.7億美元， 略高于分析師預期的31.6億美元；恩智浦三季度調整后自由現(xiàn)金流（FCF）為5.09億美元，低于分析師預期的7.62億
2025-10-28 14:40:13393 能力及每秒 110 千兆像素的數(shù)據(jù)傳輸速率 ，在滿足日益復雜的封裝工藝對可擴展性、成本效益和精度要求的同時，消除對昂貴掩模技術的依賴。 ? TI DLP 技術造就高級封裝領域的無掩模數(shù)字光刻系統(tǒng) 關鍵所在 無掩模數(shù)字光刻機正廣泛應用于高級封裝制造領域，這類光刻機無需光
2025-10-20 09:55:15887 近日，深圳穩(wěn)頂聚芯技術有限公司（簡稱“穩(wěn)頂聚芯”）宣布，其自主研發(fā)的首臺國產高精度步進式光刻機已成功出廠，標志著我國在半導體核心裝備領域取得新進展。 此次穩(wěn)頂聚芯出廠的步進式光刻機屬于WS180i
2025-10-10 17:36:33929 滾珠導軌憑借其低摩擦、高剛性、納米級定位精度等特性，成為光刻機、刻蝕機、貼片機等核心設備的關鍵傳動元件，直接決定著芯片良率與生產效率。
2025-09-22 18:02:20602 
確定 12 英寸集成電路新建項目中光刻機、刻蝕機等核心設備的防震基座類型與數(shù)量，需遵循 “設備需求為核心、環(huán)境評估為基礎、合規(guī)性為前提” 的原則，分步驟結合設備特性、廠房條件、工藝要求綜合判斷，具體流程與關鍵考量如下：
2025-09-18 11:24:23915 
%。至少將GAA納米片提升幾個工藝節(jié)點。
2、晶背供電技術
3、EUV光刻機與其他競爭技術
光刻技術是制造3nm、5nm等工藝節(jié)點的高端半導體芯片的關鍵技術。是將設計好的芯片版圖圖形轉移到硅晶圓上的一種精細
2025-09-15 14:50:58
9月10日至12日，由中國國際光電博覽會 (簡稱“CIOE中國光博會”) 與集成電路創(chuàng)新聯(lián)盟主辦的SEMI-e深圳國際半導體展暨2025集成電路產業(yè)創(chuàng)新展在深圳國際會展中心 (寶安新館) 舉辦。芯原出席了此次展會，展示了公司面向AI輕量化可穿戴設備的創(chuàng)新IP及技術方案。
2025-09-15 10:07:11697 
2025年9月10日 - 12日，國芯科技攜車載 RISC-V 芯片核心成果在SEMI-e 深圳國際半導體展暨 2025 集成電路產業(yè)創(chuàng)新展亮相。
2025-09-15 10:05:091386 2025年9月12日，第26屆中國國際光電博覽會（CIOE）在深圳國際會展中心圓滿收官。度亙核芯以創(chuàng)新“芯”動力、硬核“芯”產品和前沿“芯”視野，吸引了眾多行業(yè)專家、客戶伙伴前來深入交流。展臺現(xiàn)場
2025-09-12 22:16:161279 
芯碁微裝直寫光刻設備批量導入國內多家封測龍頭 ? 8月19日，芯碁微裝宣布，其面向中道領域的晶圓級及板級直寫光刻設備系列已獲得重大市場突破。公司已與多家國內頭部封測企業(yè)簽訂采購訂單，產品主要應用于
2025-08-21 10:33:001560 澤攸科技ZEL304G電子束光刻機（EBL）是一款高性能、高精度的光刻設備，專為半導體晶圓的高速、高分辨率光刻需求設計。該系統(tǒng)采用先進的場發(fā)射電子槍，結合一體化的高速圖形發(fā)生系統(tǒng)，確保光刻質量優(yōu)異且
2025-08-15 15:14:01
澤攸科技ZML10A是一款創(chuàng)新的桌面級無掩膜光刻設備，專為高效、精準的微納加工需求設計。該設備采用高功率、高均勻度的LED光源，并結合先進的DLP技術，實現(xiàn)了黃光或綠光引導曝光功能，真正做到
2025-08-15 15:11:55
全國首臺國產商業(yè)電子束光刻機問世，精度比肩國際主流 ? 近日，全國首臺國產商業(yè)電子束光刻機"羲之"在浙大余杭量子研究院完成研發(fā)并進入應用測試階段。該設備精度達到0.6nm，線寬
2025-08-15 10:15:172937 
? 電子發(fā)燒友網綜合報道，近日，上海芯上微裝科技股份有限公司（簡稱：芯上微裝，英文簡稱：AMIES）第500臺步進光刻機成功交付，并舉辦了第500臺 步進光刻機 交付儀式。 ? ? 光刻是半導體器件
2025-08-13 09:41:341988 
8月7日晚，中國芯片代工大廠中芯國際披露未經審計的第二季度財報，8月8日中芯國際召開2025年第二季度業(yè)績說明會，中芯國際聯(lián)席CEO趙海軍表示，二季度收入增長主要是因為在國內外政策變化的影響下，渠道加緊備貨、補庫存，公司也積極配合客戶保證出貨，這種情況一直持續(xù)到了三季度。
2025-08-12 08:54:067043 
? ? 時隔21年，佳能再開新光刻機工廠 ? 日前，據(jù)《日本經濟新聞》報道，佳能在當?shù)匾患椅挥跂心究h宇都宮市的半導體光刻設備工廠舉行開業(yè)儀式，這也是佳能時隔21年開設的首家新光刻機廠。佳能宇都宮工廠
2025-08-05 10:23:382173 7 月 31 日消息，據(jù)《日經新聞》報道，日本相機、打印機、光刻機大廠佳能 (Canon) 位于日本宇都宮市的新光刻機制造工廠將于 9 月正式投入量產，主攻成熟制程及后段封裝應用設備，為全球芯片封裝
2025-08-04 17:39:28712 ? 一、中芯國際：從工藝追趕者到生態(tài)構建者 2025 年 8 月 2 日，中芯國際 A 股以 88.29 元 / 股收于歷史中樞，7050 億元市值背后，是上海臨港 12 英寸工廠里晝夜不停的硅片
2025-08-04 15:22:2110988 在近期舉辦的AIOT大會上，燦芯半導體（上海）股份有限公司市場總監(jiān)楊凱分享智能終端市場的最新數(shù)據(jù)，2024年全球智能終端市場規(guī)模突破950億美元，到2030年將達到42000億美元，呈現(xiàn)爆發(fā)式增長。增長來自三大驅動力：一是AI技術普及；二是新興產品擴張，三是新興市場換代需求。
2025-08-04 08:36:178184 
同期的214.48億美元增長9%。本季度稀釋后每股收益為 1.57 美元，同比增長 12%。 940.36億美元的營收是蘋果公司自2021年12月以來的最大漲幅。 在2025財年第三季度蘋果中國區(qū)收入
2025-08-01 15:24:111010 極紫外光刻（EUVL）技術作為實現(xiàn)先進工藝制程的關鍵路徑，在半導體制造領域占據(jù)著舉足輕重的地位。當前，LPP-EUV 光源是極紫外光刻機所采用的主流光源，其工作原理是利用波長為 10.6um 的紅外
2025-07-22 17:20:36956 
光刻機的成功搬入，意味著產線正式進入設備安裝調試階段，距離8月底通線試產、第四季度產能爬坡并交付客戶的既定目標指日可待。這一目標的實現(xiàn)，將實現(xiàn)各類MEMS半導體傳感器產品從研發(fā)到量產的無縫銜接，對重慶乃至整個集成電路行業(yè)都具
2025-07-17 16:33:121559 
ASML第二季度實現(xiàn)銷售額77億歐元，毛利率為53.7%，凈利潤達23億歐元。第二季度的新增訂單金額為55億歐元，其中23億歐元為EUV光刻機訂單。第二季度營收與第一季度的營收持平，凈利潤略微下降1億歐元。
2025-07-17 12:06:395648 
訂單金額為55億歐元2，其中23億歐元為EUV光刻機訂單。ASML預計2025年第三季度凈銷售額在74億至79億歐元之間，毛利率介于50%至52%；預計2025年全年凈銷售額將同比增長約15%，毛利率約為
2025-07-17 10:49:351516 厚膠量產到ArF浸沒式膠驗證，從樹脂國產化到EUV原料突破，一場靜默卻浩蕩的技術突圍戰(zhàn)已進入深水區(qū)。 ? 例如在248nm波長的KrF光刻膠武漢太紫微的T150A膠以120nm分辨率和93.7%的良率通過中芯國際28nm產線驗證，開創(chuàng)了國內半導體光刻制造的新
2025-07-13 07:22:006083 有關部門投訴”。 ? ? 中芯國際是世界領先的集成電路晶圓代工企業(yè)之一，也是中國大陸集成電路制造業(yè)的領導者，擁有領先的工藝制造能力和產能優(yōu)勢，向全球客戶提供8英寸和12英寸晶圓代工與技術服務，總部位于上海，并在多地建有多座晶圓廠。 ? Imagin
2025-07-08 10:04:281432 
電源磁芯研磨機, 磁芯氣隙研磨機; 在目前通訊,汽車電子等需要高功率的PCBA中, 磁芯組裝后需要研磨,以讓磁芯點膠均勻,去除氣隙,提升磁通量,達到磁通量的控制要求. 上下磁芯在受控的壓力
2025-07-07 08:23:29
的應用。 改善光刻圖形線寬變化的方法 優(yōu)化曝光工藝參數(shù) 曝光是決定光刻圖形線寬的關鍵步驟。精確控制曝光劑量，可避免因曝光過度導致光刻膠過度反應，使線寬變寬；或曝光不足造成線寬變窄。采用先進的曝光設備，如極紫外（EUV）光刻機
2025-06-30 15:24:55739 
深入探討白光干涉儀在光刻圖形測量中的應用。 改善光刻圖形垂直度的方法 優(yōu)化光刻膠性能 光刻膠的特性直接影響圖形垂直度。選用高對比度、低膨脹系數(shù)的光刻膠，可減少曝光和顯影過程中的圖形變形。例如，化學增幅型光刻膠具有良
2025-06-30 09:59:13489 電子發(fā)燒友網綜合報道，日前，ASML 技術高級副總裁 Jos Benschop 表示，ASML 已攜手光學組件獨家合作伙伴蔡司，啟動了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機開發(fā)。這一舉措標志著
2025-06-29 06:39:001916 ASML光刻「芯」勢力知識挑戰(zhàn)賽由全球半導體行業(yè)領先供應商ASML發(fā)起，是一項面向中國半導體人才與科技愛好者的科普賽事。依托ASML在光刻領域的技術積累與行業(yè)洞察，賽事致力于為參賽者打造一個深度探索光刻技術的知識競技窗口，同時培養(yǎng)優(yōu)秀科技「芯」勢力，共同推動摩爾定律演進。
2025-06-23 17:04:561158 
。 2024年 12 月，在德州儀器宣布計劃根據(jù) 527 億美元的《芯片和科學法案》投資至少 180 億美元后，拜登政府最終批準向該公司提供 16.1 億美元的政府補貼，以支持其建設三處新設施。 據(jù)悉，德州儀器宣布其600億美元資金用于在德州和猶他州興建或
2025-06-20 01:03:006096 
在 MEMS（微機電系統(tǒng)）制造領域，光刻工藝是決定版圖中的圖案能否精確 “印刷” 到硅片上的核心環(huán)節(jié)。光刻 Overlay（套刻精度），則是衡量光刻機將不同層設計圖案對準精度的關鍵指標。光刻 Overlay 指的是芯片制造過程中，前后兩次光刻工藝形成的電路圖案之間的對準精度。
2025-06-18 11:30:491557 
受限，使我國高端芯片自給率不足5%。然而壓力催生變革：2024年中國半導體市場規(guī)模達6280億美元，占全球25%以上，在AI、5G與智能汽車的內需驅動下，本土企業(yè)正以成熟工藝+封裝創(chuàng)新開辟新賽道。中芯國際憑借DUV多重曝光實現(xiàn)7nm量產，長江存儲
2025-06-17 13:41:38400 
進入過無塵間光刻區(qū)的朋友，應該都知道光刻區(qū)里用的都是黃燈，這個看似很簡單的問題的背后卻蘊含了很多鮮為人知的道理，那為什么實驗室光刻要用黃光呢？ 光刻是微流控芯片制造中的重要工藝之一。簡單來說，它是
2025-06-16 14:36:251070 的基礎，直接決定了這些技術的發(fā)展水平。 二、顯影在光刻工藝中的位置與作用 位置：顯影是光刻工藝中的一個重要步驟，在曝光之后進行。 作用：其作用是將曝光產生的潛在圖形，通過顯影液作用顯現(xiàn)出來。具體而言，是洗去光刻
2025-06-09 15:51:162127 。在全球半導體競爭加劇的浪潮中，芯矽科技使命在肩。一方面持續(xù)加大研發(fā)投入，探索新技術、新工藝，提升設備性能，向國際先進水平看齊；另一方面，積極攜手上下游企業(yè)，構建產業(yè)鏈協(xié)同創(chuàng)新生態(tài)，共破技術瓶頸，推動
2025-06-05 15:31:42
但當芯片做到22納米時，工程師遇到了大麻煩——用光刻機畫接觸孔時，稍有一點偏差就會導致芯片報廢。 自對準接觸技術（SAC） ，完美解決了這個難題。
2025-05-19 11:11:301316 
制程營收占比達到73%。臺積電總裁魏家哲表示，盡管美國關稅政策變化，客戶需求仍然強勁，特別是AI及機器人需求持續(xù)增長，預期今年營收將增長中位數(shù)，其中AI營收將會倍增。 5月8日，中芯國際發(fā)布2025年第一季度財報，第一季度公司實現(xiàn)銷售收入22.47億美元（163億元人
2025-05-13 00:58:005959 
電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極
隨著科技進步，對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點直徑有關，電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長，而電子束聚焦后
2025-05-07 06:03:45
光刻圖形轉化軟件可以將gds格式或者gerber格式等半導體通用格式的圖紙轉換成如bmp或者tiff格式進行掩模版加工制造，在掩膜加工領域或者無掩膜光刻領域不可或缺，在業(yè)內也被稱為矢量圖形光柵化軟件
2025-05-02 12:42:10
光刻膠類型及特性光刻膠（Photoresist），又稱光致抗蝕劑，是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類型和光刻膠特性。
2025-04-29 13:59:337824 
根據(jù)谷歌母公司Alphabet發(fā)布的財報數(shù)據(jù)顯示，在2025年第一季度Alphabet營收達到902.3億美元，同比增長12%，高于此前市場普遍預估的891億美元。經營利潤達到306.1億美元，同比
2025-04-25 14:01:26572 據(jù)外媒報道，馬斯克旗下的腦機接口公司Neuralink正計劃融資約5億美元，目前來看Neuralink得投前估值為85億美元（換算下來約合 620.13 億元人民幣）。Neuralink的估值在過去幾年中顯著增長；在2023 年，基于公開報道的信息來看，Neuralink得估值只有 50 億美元。
2025-04-24 11:34:35630 2025年美國特朗普政府的“對等關稅”影響究竟有多大？未來還不確定，只有等待時間的檢驗。這里我們看到已經有很多的科技巨頭受損嚴重，比如蘋果公司、光刻機巨頭阿斯麥ASML、英偉達等。但是業(yè)界多認為目前
2025-04-17 10:31:121073 ，其中有12億歐元為EUV光刻機的訂單。 對于2025年第二季度的業(yè)績展望，阿斯麥CEO表示，人工智能仍是主要的增長動力；但是關稅新政增加了很大的不確定性。ASML公司預計在2025年第二季度總凈銷售額介于72億至77億歐元之間，毛利率預計介于50%至53%。 阿斯麥總裁兼首席執(zhí)行官傅恪
2025-04-16 16:15:431572 【2025年光刻機市場的規(guī)模預計為252億美元】 光刻機作為半導體制造過程中價值量和技術壁壘最高的設備之一，其在半導體制造中的重要性不言而喻。 目前，全球市場對光刻機的需求持續(xù)增長，尤其是在先
2025-04-07 09:24:271236 中芯國際集成電路制造有限公司宣布本公司及其子公司截至二零二四年十二月三十一日止年度經審核業(yè)績。
2025-03-28 11:34:15923 TSMC，中芯國際SMIC 組成:核心:生產線，服務:技術部門，生產管理部門，動力站（雙路保障），廢水處理站(環(huán)保，循環(huán)利用)等。生產線主要設備: 外延爐，薄膜設備，光刻機，蝕刻機，離子注入機，擴散爐
2025-03-27 16:38:20
在科技日新月異的今天，芯片作為數(shù)字時代的“心臟”，其制造過程復雜而精密，涉及眾多關鍵環(huán)節(jié)。提到芯片制造，人們往往首先想到的是光刻機這一高端設備，但實際上，芯片的成功制造遠不止依賴光刻機這一單一工具。本文將深入探討芯片制造的五大關鍵工藝，揭示這些工藝如何協(xié)同工作，共同鑄就了現(xiàn)代芯片的輝煌。
2025-03-24 11:27:423167 
SiliconLabs（芯科科技）家庭與生活業(yè)務部門高級市場總監(jiān)Tom Nordman先生通過本篇博文分享公司近期達成的重要里程碑－10年來無線模塊業(yè)務的營收突破10億美元！
2025-02-25 14:12:141103 總投資不低于500億元，項目固定資產投資也不低于400億元，預計達產年產值將不低于60億元。這一巨額投資不僅體現(xiàn)了中芯國際對擴產計劃的堅定決心，也預示著該項目將對未來半導體產業(yè)的發(fā)展產生深遠影響。 中芯京城二期項目是中
2025-02-19 11:32:531997 【DT半導體】獲悉，根據(jù)《科創(chuàng)板日報》消息，2月18日，中芯國際位于北京的晶圓廠項目——中芯京城二期，建設進展迎來重要節(jié)點。亦莊新城YZ00-0606街區(qū)0001-2地塊工業(yè)用地項目今日（2月18日
2025-02-19 11:18:331688 
? EUV光刻有多強？目前來看，沒有EUV光刻，業(yè)界就無法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻機也是歷史上最復雜、最昂貴的機器之一。 EUV光刻有哪些瓶頸？ EUV光刻技術，存在很多難點。 1.1
2025-02-18 09:31:242257 
在芯片制造的復雜流程中，光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環(huán)節(jié)。而光刻Overlay(套刻精度)，則是衡量光刻機將不同層電路圖案對準精度的關鍵指標。簡單來說，它就像建造摩天大樓
2025-02-17 14:09:254467 
2025年2月11日晚，中國大陸晶圓代工領域的領軍企業(yè)中芯國際發(fā)布了其2024年第四季度及全年財報，數(shù)據(jù)亮眼，彰顯出公司在全球半導體市場中的強勁競爭力。
2025-02-13 16:44:531665 美國芯片設備制造商Lam Research(泛林集團)近日宣布，計劃在未來幾年內向印度南部卡納塔克邦投資超過1000億盧比（約12億美元）。此舉標志著印度加強半導體生態(tài)系統(tǒng)計劃的又一重要進展。
2025-02-13 15:57:07737 近日，美國芯片工具制造商Lam Research宣布了一項重大投資決策，計劃在未來幾年內向印度南部卡納塔克邦投資超過1000億盧比(折合美元約為12億)。這一舉措標志著Lam Research在印度
2025-02-13 09:57:15666 電子發(fā)燒友原創(chuàng) 章鷹 2月12日，中芯國際發(fā)布2024年第四季度。第四季度，中芯國際營收達到 22.07億美 元（159.16億人民幣），同比增加31%，歸屬上市公司凈利潤9.92億元，同比
2025-02-13 01:15:003385 
1. 歐盟制定2000 億歐元人工智能發(fā)展計劃，將建設AI 超級工廠 ? 歐盟委員會主席烏爾蘇拉·馮德萊恩在巴黎人工智能行動峰會上表示，歐盟計劃調動2000億歐元（合2061.5億美元）用于人工智能
2025-02-12 10:37:41864 的是，中芯國際在2024年的全年收入首次突破了80億美元大關，這一里程碑式的成就標志著公司在過去一年中的持續(xù)努力和卓越表現(xiàn)。盡管凈利潤同比有所下降，但公司解釋這主要是由于資金收益下滑所致，而非主營業(yè)務出現(xiàn)問題。 展望未來，中芯
2025-02-12 09:49:091037 億歐元。這一季度的新增訂單金額為71億歐元，其中EUV光刻機訂單占據(jù)了30億歐元，顯示出市場對ASML高端光刻技術的強烈需求。 回顧全年，ASML在2024年實現(xiàn)了283億歐元的凈銷售額，毛利率為51.3%，凈利潤更是高達76億歐元。這些數(shù)字不僅彰顯了ASML在半導體制造設備領域的領先
2025-02-10 11:14:531118 2024年第四季度[1] (截至2024年12月31日)，KLA實現(xiàn)了30.8億美元的總收入，位于其指導范圍的上限。歸屬于KLA的GAAP（美國通用會計法則）攤薄每股收益為6.16美元。非GAAP攤
2025-02-07 11:14:171411 光刻機制造巨頭阿斯麥（ASML）的首席執(zhí)行官克里斯托夫·富凱表示，盡管近年來中國在半導體領域取得了顯著進步，但與英特爾、臺積電和三星等行業(yè)巨頭相比， 中國的一些公司仍落后10到15年 。眾所周知
2025-02-06 17:39:05935 光刻機用納米位移系統(tǒng)設計
2025-02-06 09:38:031028 
半導體設備光刻機防震基座的安裝涉及多個關鍵步驟和考慮因素，以確保光刻機的穩(wěn)定運行和產品質量。首先，選擇合適的防震基座需要考慮適應工作環(huán)境。由于半導體設備通常在潔凈的環(huán)境下運行，因此選擇的搬運工具如
2025-02-05 16:48:451240 
一、定制化的必要性1，適應不同設備需求（1)半導體設備的種類繁多，包括光刻機、刻蝕機、薄膜沉積設備等，每種設備的尺寸、重量、重心位置以及振動敏感程度都有所不同。例如，光刻機通常對精度要求極高，其工作
2025-02-05 16:48:20786 光刻是芯片制造過程中至關重要的一步，它定義了芯片上的各種微細圖案，并且要求極高的精度。以下是光刻過程的詳細介紹，包括原理和具體步驟。?? 光刻原理?????? 光刻的核心工具包括光掩膜、光刻機
2025-01-28 16:36:003591 
近日，亞馬遜云科技宣布了一項重大投資決策。作為到2030年在印度投資127億美元計劃的關鍵一環(huán)，該公司將向印度馬哈拉施特拉邦的云基礎設施項目投入83億美元，旨在進一步擴大印度的云計算能力。
2025-01-24 13:56:11890 對于傳聞中的字節(jié)跳動計劃2025年在人工智能基礎設施上投入超120億美元的消息，字節(jié)跳動回應稱消息并不準確。 ? ?
2025-01-23 15:45:54834 ”的全流程制造能力。 ? ? 格芯馬耳他先進封測中心的初期投資規(guī)模為 5.75?億美元（IT之家備注：當前約 41.98?億元人民幣），未來 10?年還將為該中心的研發(fā)工作追加投資 1.86?億美元（當前約 13.58?億元人民幣）。 ? 美國聯(lián)邦政府將為此對格芯追加提供 7500?萬美元（當
2025-01-22 14:54:55560 本文介紹了如何提高光刻機的NA值。 為什么光刻機希望有更好的NA值？怎樣提高？ ? 什么是NA值？ ? 如上圖是某型號的光刻機配置，每代光刻機的NA值會比上一代更大一些。NA，又名
2025-01-20 09:44:182475 
防震基座的要求也最為嚴格。例如，在工作過程中，光刻機的投影物鏡系統(tǒng)需要極高的穩(wěn)定性。因此，防震基座必須能夠有效隔離微小振動，要求隔振效率在高頻振動（如頻率大于100
2025-01-17 15:16:541221 
近日，飛利浦已將其位于荷蘭埃因霍溫的 MEMS 晶圓廠和代工廠出售給一個荷蘭投資者財團，交易金額不詳。該代工廠為 ASML 光刻機等公司提供產品，并已更名為 Xiver。 該 MEMS 代工廠已被
2025-01-16 18:29:172615 本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導體制造工序分類，光刻設備有前道和后道之分。前道光刻機包括芯片光刻機和面板光刻機。面板光刻機的工作原理和芯片光刻機相似
2025-01-16 09:29:456357 
芯片制造、價值1.5億美元的極紫外（EUV，https://spectrum.ieee.org/tag/euv）光刻掃描
2025-01-09 11:31:181280 用先進材料項目等。 恒坤新材成立于2004年12月，是中國境內少數(shù)具備12英寸集成電路晶圓制造關鍵材料研發(fā)和量產能力的創(chuàng)新企業(yè)之一。據(jù)其股東廈門市產業(yè)投資基金披露，恒坤新材是國內12英寸晶圓制造先進制程上出貨量最大的光刻膠企業(yè)。 根據(jù)弗若斯特沙利文市
2025-01-07 17:38:55843 ? 本文介紹了組成光刻機的各個分系統(tǒng)。 光刻技術作為制造集成電路芯片的重要步驟，其重要性不言而喻。光刻機是實現(xiàn)這一工藝的核心設備，它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影中的曝光過程，但精度要求極高，能夠達到
2025-01-07 10:02:304530 
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工商網監(jiān)
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