聚焦離子束(FIB)與掃描電子顯微鏡(SEM)耦合成為FIB-SEM雙束系統(tǒng)后，通過結合相應的氣體沉積裝置，納米操縱儀，各種探測器及可控的樣品臺等附件成為一個集微區(qū)成像、加工、分析、操縱于一體的分析儀器。其應用范圍也已經從半導體行業(yè)拓展至材料科學、生命科學和地質學等眾多領域。為方便客戶對材料進行深入的失效分析及研究，金鑒實驗室現推出Dual Beam FIB-SEM業(yè)務，并介紹Dual Beam FIB-SEM在材料科學領域的一些典型應用，包括透射電鏡( TEM)樣品制備，材料微觀截面截取與觀察、樣品微觀刻蝕與沉積以及材料三維成像及分析等。

FIB在PCB也有著廣泛的用途，如電鍍層可靠性測試，化鎳金/鎳鈀金等鍍層厚度測，OSP膜后鍍的測量等。金鑒實驗室具有2臺FIB，3臺場發(fā)射電鏡，可為PCB提供FIB-SEM方面測試服務。

1、 電鍍層失效分析

HDI或多層通孔板經過冷熱循環(huán)、回流焊、熱油等可靠性測試后經常會有“盲孔脫墊”、“ICD”等失效現象，通過普通切片往往難以觀察到銅層間的細微裂紋、空洞、異物等現象，對品質異常追蹤也難以找到根源。FIB-SEM可以無損觀察到盲孔鍍層底部狀況，多層板內層銅連接處，結合EDS等手段可對失效區(qū)域針對性分析，從而找出失效的根源。

2、 化鎳金/鎳鈀金等鍍層測試

化鎳金/鎳鈀金具有表面非常平整，可焊性極佳，鍍層均勻性好等優(yōu)點廣泛用于PCB表面處理。但黑盤導致的可焊性問題也時常發(fā)生。常規(guī)分析化鎳金黑盤一般采用切片法觀察鎳層截面形貌判定腐蝕等級，或者將剝金后觀察鎳層腐蝕程度，兩種分析手段往往比較片面。使用FIB-SEM可以無損觀察判定鎳腐蝕等級，同時可以準確測量各鍍層厚度是否在規(guī)定范圍，下圖為金鑒實驗室為某客戶測試鎳鈀金鍍層厚度案例，Au層只有50nm左右也能準確測量。

3、 OSP膜厚度測量

OSP是PCB應用最為廣泛的完成表面處理工藝，可焊性不良時有發(fā)生，OSP厚度不足往往會影響產品的可焊性，在分析OSP厚度最常用是采用溶解后UV分光光度計定量測試樣品平均的OSP厚度，但可焊性不良往往不是整個樣品都有問題，從膜厚測試往往得不出結論。下圖示金鑒實驗室某客戶樣品使用UV方法測試OSP膜達到0.3-0.5μm的要求，但使用FIB-SEM測試發(fā)現其膜厚非常不均勻，最薄處甚至不到0.1μm，具有非常大的品質風險。

審核編輯：湯梓紅