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電子發(fā)燒友網(wǎng)>今日頭條>下一代化合物半導(dǎo)體的超精密加工和清洗的現(xiàn)狀與未來

下一代化合物半導(dǎo)體的超精密加工和清洗的現(xiàn)狀與未來

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精控之藝:解碼半導(dǎo)體清洗的平衡之道

半導(dǎo)體制造中的清洗工藝是確保芯片性能、可靠性和良率的關(guān)鍵基礎(chǔ)環(huán)節(jié),其核心在于精準(zhǔn)控制污染去除與材料保護(hù)之間的微妙平衡。以下是該領(lǐng)域的核心要素和技術(shù)邏輯: 、分子級(jí)潔凈度的極致追求 原子尺度的表面
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解鎖化合物半導(dǎo)體制造新范式:端到端良率管理的核心力量

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意法半導(dǎo)體推進(jìn)下一代芯片制造技術(shù) 在法國(guó)圖爾工廠新建條PLP封裝試點(diǎn)生產(chǎn)線

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2025-10-10 09:39:42608

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半導(dǎo)體器件清洗工藝是確保芯片制造良率和可靠性的關(guān)鍵基礎(chǔ),其核心在于通過精確控制的物理化學(xué)過程去除各類污染,同時(shí)避免對(duì)材料造成損傷。以下是該工藝的主要技術(shù)要點(diǎn)及實(shí)現(xiàn)路徑的詳細(xì)闡述:污染分類與對(duì)應(yīng)
2025-10-09 13:40:46705

【2025九峰山論壇】從材料革命到制造工藝破局,揭秘化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)重構(gòu)密碼

在新能源革命與算力爆發(fā)的雙重驅(qū)動(dòng)下,化合物半導(dǎo)體正以"材料代際躍遷"重構(gòu)全球電子產(chǎn)業(yè)格局。從第三半導(dǎo)體氮化鎵(GaN)、碳化硅(SiC)的規(guī)?;瘧?yīng)用,到第四氧化鎵(Ga2O3
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2025-09-28 14:13:45443

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半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的精密版圖中,槽式清洗機(jī)宛如顆璀璨星辰,閃耀著不可或缺的光芒。它作為晶圓表面處理的關(guān)鍵設(shè)備,承載著確保芯片基礎(chǔ)質(zhì)量與性能的重要使命,是整個(gè)生產(chǎn)流程里穩(wěn)定且高效的幕后功臣。從外觀結(jié)構(gòu)來看
2025-09-28 14:09:20

半導(dǎo)體腐蝕清洗機(jī)的作用

半導(dǎo)體腐蝕清洗機(jī)是集成電路制造過程中不可或缺的關(guān)鍵設(shè)備,其作用貫穿晶圓加工的多個(gè)核心環(huán)節(jié),具體體現(xiàn)在以下幾個(gè)方面:、精準(zhǔn)去除表面污染與殘留半導(dǎo)體工藝中,光刻、刻蝕、離子注入等步驟會(huì)留下多種
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核芯聚變·鏈動(dòng)未來 | 2026中國(guó)光谷國(guó)際化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)博覽會(huì) 再次啟航!開啟化合物半導(dǎo)體新紀(jì)元

2026年4月23–25日,第三屆中國(guó)光谷國(guó)際化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)博覽會(huì)(CSE 2026)將在武漢光谷科技會(huì)展中心盛大啟幕。 本屆展會(huì)以“核芯聚變·鏈動(dòng)未來”為主題聚焦化合物半導(dǎo)體全產(chǎn)業(yè)鏈,搭建全球性的技術(shù)交流、產(chǎn)品展示與產(chǎn)業(yè)合作高端平臺(tái)。
2025-09-22 14:31:32843

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CSE化合物半導(dǎo)體-武漢華和興科技有限公司

打造全球化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)風(fēng)向標(biāo),CSE每年定期舉辦行業(yè)最高規(guī)格展會(huì)及專業(yè)高峰論壇(JFSC)為學(xué)術(shù)界及全產(chǎn)業(yè)鏈提供高效的交流和展示服務(wù),積極推動(dòng)科學(xué)進(jìn)步及化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展。
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9月10-12日,SEMI-e深圳國(guó)際半導(dǎo)體展暨2025集成電路產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新展在深圳國(guó)際會(huì)展中心(寶安)成功舉辦。本屆展會(huì)聚焦“IC設(shè)計(jì)與應(yīng)用”“IC制造與供應(yīng)鏈”“化合物半導(dǎo)體”三大核心主題,匯聚1000家全球優(yōu)質(zhì)展商,覆蓋半導(dǎo)體全產(chǎn)業(yè)鏈生態(tài)。
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通過電化學(xué)作用使顆粒與基底脫離;同時(shí)增強(qiáng)對(duì)有機(jī)的溶解能力124。過氧化氫(H?O?):種強(qiáng)氧化劑,可將碳化硅表面的顆粒和有機(jī)氧化為水溶性化合物,便于后續(xù)沖洗
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半導(dǎo)體行業(yè)中,清洗芯片晶圓、陶瓷片和硅片是確保器件性能與良率的關(guān)鍵步驟。以下是常用的清洗方法及其技術(shù)要點(diǎn):物理清洗法超聲波清洗:利用高頻聲波在液體中產(chǎn)生的空化效應(yīng)破壞顆粒與表面的結(jié)合力,使污染
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在現(xiàn)代化工業(yè)生產(chǎn)中,尤其是半導(dǎo)體、電子元件、精密光學(xué)儀器等高精尖領(lǐng)域,零部件表面的潔凈度直接關(guān)系到產(chǎn)品的性能與可靠性。自動(dòng)槽式清洗機(jī)作為這領(lǐng)域的核心技術(shù)裝備,正以其高效、精準(zhǔn)、穩(wěn)定的清洗能力,引領(lǐng)
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晶棒需要經(jīng)過一系列加工,才能形成符合半導(dǎo)體制造要求的硅襯底,即晶圓。加工的基本流程為:滾磨、切斷、切片、硅片退火、倒角、研磨、拋光,以及清洗與包裝等。
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2025-08-06 17:27:381255

意法半導(dǎo)體攜手Flex推動(dòng)下一代移動(dòng)出行發(fā)展

Flex提供產(chǎn)品生命周期服務(wù),可助力各行各業(yè)的品牌實(shí)現(xiàn)快速、靈活和大規(guī)模的創(chuàng)新。他們將積淀50余年的先進(jìn)制造經(jīng)驗(yàn)與專業(yè)技術(shù)注入汽車業(yè)務(wù),致力于設(shè)計(jì)和打造推動(dòng)下一代移動(dòng)出行的前沿創(chuàng)新技術(shù)——從軟件定義
2025-07-30 16:09:56737

半導(dǎo)體清洗機(jī)氮?dú)庠趺磁?/a>

半導(dǎo)體超聲波清洗機(jī) 芯矽科技

、核心功能與應(yīng)用場(chǎng)景半導(dǎo)體超聲波清洗機(jī)是利用高頻超聲波(20kHz-1MHz)的空化效應(yīng),通過液體中微射流和沖擊波的作用,高效剝離晶圓表面的顆粒、有機(jī)、金屬污染及微小結(jié)構(gòu)內(nèi)的殘留。廣泛應(yīng)用
2025-07-23 15:06:54

意法半導(dǎo)體推出下一代非接觸式支付卡系統(tǒng)級(jí)芯片STPay-Topaz-2

意法半導(dǎo)體(ST)推出其下一代非接觸式支付卡系統(tǒng)級(jí)芯片(SoC)STPay-Topaz-2,為客戶帶來更高的設(shè)計(jì)靈活性,支持更多樣化的支付品牌,并簡(jiǎn)化客戶的庫存管理。全新的自動(dòng)調(diào)諧功能確保連接質(zhì)量
2025-07-18 14:46:23821

半導(dǎo)體哪些工序需要清洗

半導(dǎo)體制造過程中,清洗工序貫穿多個(gè)關(guān)鍵步驟,以確保芯片表面的潔凈度、良率和性能。以下是需要清洗的主要工序及其目的: 1. 硅片準(zhǔn)備階段 硅片切割后清洗 目的:去除切割過程中殘留的金屬碎屑、油污和機(jī)械
2025-07-14 14:10:021016

去離子水清洗的目的是什么

,是精密制造、半導(dǎo)體生產(chǎn)、醫(yī)藥研發(fā)等領(lǐng)域不可或缺的關(guān)鍵環(huán)節(jié),其重要性貫穿整個(gè)高質(zhì)量生產(chǎn)流程。去離子水清洗主要有以下目的:1.去除雜質(zhì)和污染溶解并清除可溶性物質(zhì):去
2025-07-14 13:11:301045

功率半導(dǎo)體器件——理論及應(yīng)用

結(jié)構(gòu)、器件的制造和模擬、功率半導(dǎo)體器件的應(yīng)用到各類重要功率半導(dǎo)體器件的基本原理、設(shè)計(jì)原則和應(yīng)用特性,建立起系列不同層次的、復(fù)雜程度漸增的器件模型,并闡述了各類重要功率半導(dǎo)體器件各級(jí)模型的基礎(chǔ)知識(shí),使
2025-07-11 14:49:36

恩智浦與長(zhǎng)城汽車深化合作,圍繞電氣化、下一代電子電氣架構(gòu)

恩智浦半導(dǎo)體宣布與長(zhǎng)城汽車股份有限公司(以下簡(jiǎn)稱“長(zhǎng)城汽車”)深化合作,圍繞電氣化、下一代電子電氣架構(gòu)攜手深耕,共促長(zhǎng)城汽車智能化進(jìn)階。 恩智浦和長(zhǎng)城汽車作為多年戰(zhàn)略合作伙伴,圍繞ADAS、電氣化
2025-07-04 10:50:121895

槽式清洗和單片清洗最大的區(qū)別是什么

槽式清洗與單片清洗半導(dǎo)體、光伏、精密制造等領(lǐng)域中兩種主流的清洗工藝,其核心區(qū)別在于清洗對(duì)象、工藝模式和技術(shù)特點(diǎn)。以下是兩者的最大區(qū)別總結(jié):1.清洗對(duì)象與規(guī)模槽式清洗:批量處理:次性清洗多個(gè)工件
2025-06-30 16:47:491175

濕法清洗臺(tái) 專業(yè)濕法制程

濕法清洗臺(tái)是種專門用于半導(dǎo)體、電子、光學(xué)等高科技領(lǐng)域的精密清洗設(shè)備。它主要通過物理和化學(xué)相結(jié)合的方式,對(duì)芯片、晶圓、光學(xué)元件等精密物體表面進(jìn)行高效清洗和干燥處理。從工作原理來看,物理清洗方面,它
2025-06-30 13:52:37

三安光電第屆第三次化合物半導(dǎo)體技術(shù)研討會(huì)成功舉辦

近日,由三安學(xué)院主辦,人資中心、技術(shù)中心、總經(jīng)辦協(xié)辦的三安光電第屆第三次化合物半導(dǎo)體技術(shù)研討會(huì)在廈門香格里拉酒店隆重舉辦,邀請(qǐng)18位來自各事業(yè)部的專家發(fā)表演講,股份、各事業(yè)部/板塊領(lǐng)導(dǎo)與專家列席指導(dǎo),126位專家圍繞材料、器件、制程、經(jīng)營(yíng)管理痛點(diǎn)開展深入交流。
2025-06-27 17:09:58891

半導(dǎo)體清洗機(jī)設(shè)備 滿足產(chǎn)能躍升需求

半導(dǎo)體制造的精密鏈條中,半導(dǎo)體清洗機(jī)設(shè)備是確保芯片良率與性能的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。它通過化學(xué)或物理手段去除晶圓表面的污染(如顆粒、有機(jī)、金屬離子等),為后續(xù)制程提供潔凈的基底。本文將從設(shè)備定義、核心特點(diǎn)
2025-06-25 10:31:51

晶圓濕法清洗設(shè)備 適配復(fù)雜清潔挑戰(zhàn)

半導(dǎo)體制造的精密流程中,晶圓濕法清洗設(shè)備扮演著至關(guān)重要的角色。它不僅是芯片生產(chǎn)的基礎(chǔ)工序,更是決定良率、效率和成本的核心環(huán)節(jié)。本文將從技術(shù)原理、設(shè)備分類、行業(yè)應(yīng)用到未來趨勢(shì),全面解析這
2025-06-25 10:26:37

半導(dǎo)體濕法清洗設(shè)備 滿足產(chǎn)能躍升需求

半導(dǎo)體濕法清洗是芯片制造過程中的關(guān)鍵工序,用于去除晶圓表面的污染(如顆粒、有機(jī)、金屬離子、氧化等),確保后續(xù)工藝的良率與穩(wěn)定性。隨著芯片制程向更小尺寸(如28nm以下)發(fā)展,濕法清洗設(shè)備
2025-06-25 10:21:37

下一代高速芯片晶體管解制造問題解決了!

版圖應(yīng)用于未來的 CFET 設(shè)計(jì)。研究人員認(rèn)為,其最新的叉片設(shè)計(jì)可以作為未來垂直器件架構(gòu)的過渡,為下一代工藝技術(shù)提供更平穩(wěn)的演進(jìn)路徑。
2025-06-20 10:40:07

下一代PX5 RTOS具有哪些優(yōu)勢(shì)

許多古老的RTOS設(shè)計(jì)至今仍在使用,包括Zephyr(1980年)、Nucleus(1990年)和FreeRTOS(2003年)。所有這些舊設(shè)計(jì)都有專有的API,通常更大、更慢,并且缺乏下一代RTOS的必要安全認(rèn)證和功能。
2025-06-19 15:06:21949

預(yù)清洗機(jī) 多種工藝兼容

預(yù)清洗機(jī)(Pre-Cleaning System)是半導(dǎo)體制造前道工藝中的關(guān)鍵設(shè)備,用于在光刻、蝕刻、薄膜沉積等核心制程前,對(duì)晶圓、掩膜板、玻璃基板等精密部件進(jìn)行表面污染(顆粒、有機(jī)、金屬殘留等
2025-06-17 13:27:16

半導(dǎo)體藥液?jiǎn)卧?/a>

蘇州芯矽科技:半導(dǎo)體清洗機(jī)的堅(jiān)實(shí)力量

的提升筑牢根基。 兼容性更是其大亮點(diǎn)。無論芯片尺寸、材質(zhì)如何多樣,傳統(tǒng)硅基還是新興化合物半導(dǎo)體,都能在這臺(tái)清洗機(jī)下重?zé)ü鉂?。還能按需定制改造,完美融入各類生產(chǎn)線,助力企業(yè)高效生產(chǎn)。 秉持綠色環(huán)保理念
2025-06-05 15:31:42

化合物半導(dǎo)體器件的定義和制造工藝

化合物半導(dǎo)體器件以Ⅲ-Ⅴ族、Ⅱ-Ⅵ族元素通過共價(jià)鍵形成的材料為基礎(chǔ),展現(xiàn)出獨(dú)特的電學(xué)與光學(xué)特性。以砷化鎵(GaAs)為例,其電子遷移率高達(dá)8500cm2/V·s,本征電阻率達(dá)10?Ω·cm,是制造高速、高頻、抗輻射器件的理想材料。
2025-05-28 14:37:382339

NVIDIA 采用納微半導(dǎo)體開發(fā)新一代數(shù)據(jù)中心電源架構(gòu) 800V HVDC 方案,賦能下一代AI兆瓦級(jí)算力需求

全球 AI 算力基礎(chǔ)設(shè)施革新迎來關(guān)鍵進(jìn)展。近日,納微半導(dǎo)體(Navitas Semiconductor, 納斯達(dá)克代碼:NVTS)宣布參與NVIDIA 英偉達(dá)(納斯達(dá)克股票代碼: NVDA) 下一代
2025-05-23 14:59:382814

瑞能半導(dǎo)體第三結(jié)MOSFET技術(shù)解析(1)

隨著AI技術(shù)井噴式快速發(fā)展,進(jìn)步推動(dòng)算力需求,服務(wù)器電源效率需達(dá)97.5%-98%,通過降低能量損耗,來支撐高功率的GPU。為了抓住市場(chǎng)機(jī)遇,瑞能半導(dǎo)體先發(fā)制人,推出的第三結(jié)MOSFET,能全面滿足高效能需求。
2025-05-22 13:58:35726

超短脈沖激光加工技術(shù)在半導(dǎo)體制造中的應(yīng)用

隨著集成電路高集成度、高性能的發(fā)展,對(duì)半導(dǎo)體制造技術(shù)提出更高要求。超短脈沖激光加工作為精密制造技術(shù),正逐步成為半導(dǎo)體制造的重要工藝。闡述了超短脈沖激光加工技術(shù)特點(diǎn)和激光與材料相互作用過程,重點(diǎn)介紹了快激光精密加工技術(shù)在硬脆半導(dǎo)體晶體切割、半導(dǎo)體晶圓劃片中的應(yīng)用,并提出相關(guān)技術(shù)提升方向。
2025-05-22 10:14:061329

關(guān)于藍(lán)牙模塊的smt貼片焊接完成后清洗規(guī)則

、smt貼片加工清洗方法 超聲波清洗作為smt貼片焊接后清洗的重要手段,發(fā)揮著重要的作用。 二、smt貼片加工清洗原理 清洗劑在超聲波的作用下產(chǎn)生孔穴作用和擴(kuò)散作用。產(chǎn)生孔穴時(shí)會(huì)產(chǎn)生很強(qiáng)的沖擊力
2025-05-21 17:05:39

從清華大學(xué)到鎵未來科技,張大江先生在半導(dǎo)體功率器件十八年的堅(jiān)守!

從清華大學(xué)到鎵未來科技,張大江先生在半導(dǎo)體功率器件十八年的堅(jiān)守!近年來,珠海市鎵未來科技有限公司(以下簡(jiǎn)稱“鎵未來”)在第三半導(dǎo)體行業(yè)異軍突起,憑借領(lǐng)先的氮化鎵(GaN)技術(shù)儲(chǔ)備和不斷推出的新產(chǎn)品
2025-05-19 10:16:02

一代半導(dǎo)體被淘汰了嗎

半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的百年發(fā)展歷程中,“第一代半導(dǎo)體是否被淘汰”的爭(zhēng)議從未停歇。從早期的鍺晶體管到如今的硅基芯片,以硅為代表的第一代半導(dǎo)體材料,始終以不可替代的產(chǎn)業(yè)基石角色,支撐著全球95%以上的電子設(shè)備
2025-05-14 17:38:40884

華工激光和華工正源亮相2025九峰山論壇暨化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)博覽會(huì)

近日,第三屆九峰山論壇暨化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)博覽會(huì)(以下簡(jiǎn)稱“九峰山論壇”)正式開幕。華工科技核心子公司華工激光攜全新升級(jí)的化合物半導(dǎo)體“激光+量測(cè)”先進(jìn)裝備整體解決方案亮相展會(huì),子公司華工正源總經(jīng)理胡
2025-04-29 14:15:45876

半導(dǎo)體清洗SC1工藝

半導(dǎo)體清洗SC1是種基于氨水(NH?OH)、過氧化氫(H?O?)和去離子水(H?O)的化學(xué)清洗工藝,主要用于去除硅片表面的有機(jī)、顆粒污染及部分金屬雜質(zhì)。以下是其技術(shù)原理、配方配比、工藝特點(diǎn)
2025-04-28 17:22:334239

方正微電子亮相2025九峰山論壇暨化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)博覽會(huì)

此前,2025年4月23日至25日,第三屆九峰山論壇暨化合物半導(dǎo)體博覽會(huì)(以下簡(jiǎn)稱“CSE”)在武漢光谷科技會(huì)展中心舉行,作為國(guó)內(nèi)碳化硅三半IDM的代表,方正微電子以“智啟未來”為主題,攜全系車規(guī)
2025-04-27 11:21:59763

瑞樂半導(dǎo)體——AVS 無線校準(zhǔn)測(cè)量晶圓系統(tǒng)讓每片晶圓都安全抵達(dá)終點(diǎn)

AVS 無線校準(zhǔn)測(cè)量晶圓系統(tǒng)就像給晶圓運(yùn)輸過程裝上了"全天候監(jiān)護(hù)儀",推動(dòng)先進(jìn)邏輯芯片制造、存儲(chǔ)器生產(chǎn)及化合物半導(dǎo)體加工等關(guān)鍵制程的智能化質(zhì)量管控,既保障價(jià)值百萬的晶圓安全,又能讓價(jià)值數(shù)千萬的設(shè)備發(fā)揮最大效能,實(shí)現(xiàn)降本增效。
2025-04-24 14:57:49866

半導(dǎo)體單片清洗機(jī)結(jié)構(gòu)組成介紹

半導(dǎo)體單片清洗機(jī)是芯片制造中的關(guān)鍵設(shè)備,用于去除晶圓表面的顆粒、有機(jī)、金屬污染和氧化。其結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)需滿足高精度、高均勻性、低損傷等要求,以下是其核心組成部分的詳細(xì)介紹: 、主要結(jié)構(gòu)組成 清洗
2025-04-21 10:51:311617

無線測(cè)溫+數(shù)字孿生:半導(dǎo)體工廠的下一代安全運(yùn)維體系

還會(huì)進(jìn)步提升。安全可靠的電力供應(yīng)是安全生產(chǎn)的基本保障。本文針對(duì)半導(dǎo)體生產(chǎn)的供配電系統(tǒng)工程項(xiàng)目,按照具體要求,合理選擇無線測(cè)溫裝置實(shí)現(xiàn)對(duì)變電站內(nèi)的設(shè)備進(jìn)行溫度檢測(cè),防止設(shè)備局部溫度過高而發(fā)生火災(zāi),并采用無線測(cè)溫
2025-04-03 14:42:34570

半導(dǎo)體臺(tái)階高度測(cè)量?jī)x器

中圖儀器NS系列半導(dǎo)體臺(tái)階高度測(cè)量?jī)x器是款專為高精度微觀形貌測(cè)量設(shè)計(jì)的精密接觸式儀器,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光伏、MEMS、光學(xué)加工等領(lǐng)域。通過2μm金剛石探針與LVDC傳感器的協(xié)同工作,結(jié)合亞埃級(jí)
2025-03-31 15:08:10

從虛擬化到AI基礎(chǔ)設(shè)施:Gartner定義下一代融合的“全?!甭窂?/a>

砥礪創(chuàng)新 芯耀未來——武漢芯源半導(dǎo)體榮膺21ic電子網(wǎng)2024年度“創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)獎(jiǎng)”

2024年,芯途璀璨,創(chuàng)新不止。武漢芯源半導(dǎo)體有限公司(以下簡(jiǎn)稱“武漢芯源半導(dǎo)體”)在21ic電子網(wǎng)主辦的2024年度榮耀獎(jiǎng)項(xiàng)評(píng)選中,憑借卓越的技術(shù)創(chuàng)新實(shí)力與行業(yè)貢獻(xiàn),榮膺“年度創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)獎(jiǎng)”。這
2025-03-13 14:21:54

下一代高速銅纜鐵氟龍發(fā)泡技術(shù)

為什么下一代高速銅纜需要鐵氟龍發(fā)泡技術(shù)在人工智能與萬互聯(lián)的雙重驅(qū)動(dòng)下,全球數(shù)據(jù)傳輸速率正經(jīng)歷場(chǎng)“超速進(jìn)化”。AI大模型的參數(shù)規(guī)模突破萬億級(jí),云計(jì)算與數(shù)據(jù)中心的流量呈指數(shù)級(jí)攀升,倒逼互連技術(shù)實(shí)現(xiàn)
2025-03-13 09:00:101138

半導(dǎo)體VTC清洗機(jī)是如何工作的

半導(dǎo)體VTC清洗機(jī)的工作原理基于多種物理和化學(xué)作用,以確保高效去除半導(dǎo)體部件表面的污染。以下是對(duì)其詳細(xì)工作機(jī)制的闡述: 、物理作用原理 超聲波清洗 空化效應(yīng):當(dāng)超聲波在清洗液中傳播時(shí),會(huì)產(chǎn)生
2025-03-11 14:51:00740

石墨烯成為新一代半導(dǎo)體的理想材料

)等二維材料因結(jié)構(gòu)薄、電學(xué)性能優(yōu)異成為新一代半導(dǎo)體的理想材料,但目前還缺乏高質(zhì)量合成和工業(yè)應(yīng)用的量產(chǎn)技術(shù)。 化學(xué)氣相沉積法(CVD)存在諸如電性能下降以及需要將生長(zhǎng)的TMD轉(zhuǎn)移到不同襯底等問題,增加了工藝的復(fù)雜性。此外,在
2025-03-08 10:53:061189

中國(guó)下一代半導(dǎo)體研究超越美國(guó)

美國(guó)機(jī)構(gòu)分析,認(rèn)為中國(guó)在支持下一代計(jì)算機(jī)的基礎(chǔ)研究方面處于領(lǐng)先地位。如果這些研究商業(yè)化,有人擔(dān)心美國(guó)為保持其在半導(dǎo)體設(shè)計(jì)和生產(chǎn)方面的優(yōu)勢(shì)而實(shí)施的出口管制可能會(huì)失效。 喬治城大學(xué)新興技術(shù)觀察站(ETO
2025-03-06 17:12:23728

北京市最值得去的十家半導(dǎo)體芯片公司

座艙與車控芯片,出貨量700萬片,覆蓋國(guó)內(nèi)90%車企及國(guó)際品牌,2024年估值140億元,計(jì)劃2026年科創(chuàng)板上市。其產(chǎn)品已打入歐洲OEM市場(chǎng),是國(guó)產(chǎn)車規(guī)芯片的標(biāo)桿企業(yè)。 2. 屹唐半導(dǎo)體
2025-03-05 19:37:43

半導(dǎo)體芯片加工工藝介紹

光刻是廣泛應(yīng)用的芯片加工技術(shù)之,下圖是常見的半導(dǎo)體加工工藝流程。
2025-03-04 17:07:042119

全球化合物半導(dǎo)體市場(chǎng)預(yù)計(jì)到2030年將達(dá)250億美元!

根據(jù)YoleGroup最近公布的市場(chǎng)預(yù)測(cè),全球化合物半導(dǎo)體市場(chǎng)到2030年的市場(chǎng)規(guī)模有望達(dá)到約250億美元。這預(yù)測(cè)顯示了化合物半導(dǎo)體行業(yè)在未來幾年的快速擴(kuò)張潛力,特別是在汽車和移動(dòng)出行領(lǐng)域
2025-03-04 11:42:001081

納微半導(dǎo)體2024年第四季度財(cái)務(wù)亮點(diǎn)

近日,唯全面專注的下一代功率半導(dǎo)體公司及下一代氮化鎵(GaN)和碳化硅(SiC)領(lǐng)導(dǎo)者——納微半導(dǎo)體 (納斯達(dá)克股票代碼: NVTS) 今日公布了截至2024年12月31日的未經(jīng)審計(jì)的第四季度及全年財(cái)務(wù)業(yè)績(jī)。
2025-02-26 17:05:131247

納微半導(dǎo)體APEC 2025亮點(diǎn)搶先看

近日,唯全面專注的下一代功率半導(dǎo)體公司及下一代氮化鎵(GaN)功率芯片和碳化硅(SiC)技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)者——納微半導(dǎo)體 (納斯達(dá)克股票代碼: NVTS) 宣布將參加APEC 2025,展示氮化鎵和碳化硅技術(shù)在AI數(shù)據(jù)中心、電動(dòng)汽車和移動(dòng)設(shè)備領(lǐng)域的應(yīng)用新突破。
2025-02-25 10:16:381784

半導(dǎo)體濕法清洗有機(jī)溶劑有哪些

半導(dǎo)體制造的精密世界里,濕法清洗是確保芯片質(zhì)量的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。而在這過程中,有機(jī)溶劑的選擇至關(guān)重要。那么,半導(dǎo)體濕法清洗中常用的有機(jī)溶劑究竟有哪些呢?讓我們同來了解。 半導(dǎo)體濕法清洗中常
2025-02-24 17:19:571828

半導(dǎo)體制造中的濕法清洗工藝解析

影響半導(dǎo)體器件的成品率和可靠性。 晶圓表面污染物種類繁多,大致可分為顆粒污染、金屬污染、化學(xué)污染(包括有機(jī)和無機(jī)化合物)以及天然氧化四大類。 圖1:硅晶圓表面可能存在的污染 01 顆粒污染 顆粒污染主要來源于空氣中的粉
2025-02-20 10:13:134063

第四半導(dǎo)體新進(jìn)展:4英寸氧化鎵單晶導(dǎo)電型摻雜

生長(zhǎng)4英寸導(dǎo)電型氧化鎵單晶仍沿用了細(xì)籽晶誘導(dǎo)+錐面放肩技術(shù),籽晶與晶體軸向平行于[010]晶向,可加工4英寸(010)面襯底,適合SBD等高功率器件應(yīng)用。 ? 在以碳化硅和氮化鎵為主的第三半導(dǎo)體之后,氧化鎵被視為是下一代半導(dǎo)體的最佳材
2025-02-17 09:13:241340

研磨與拋光:半導(dǎo)體精密加工的核心技術(shù)

半導(dǎo)體制造是典型的“精度至上”領(lǐng)域,尤其在前道晶圓加工和后道封裝環(huán)節(jié)中,研磨(Grinding)與拋光(Polishing)技術(shù)直接決定了器件的性能和良率。以下從技術(shù)原理、工藝難點(diǎn)及行業(yè)趨勢(shì)三方面
2025-02-14 11:06:332769

劍指千億!武漢光谷啟動(dòng)建設(shè)化合物半導(dǎo)體、存儲(chǔ)器等四大產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新街區(qū)

街區(qū),涵蓋化合物半導(dǎo)體、存儲(chǔ)器、新型顯示和智能終端、生命健康等領(lǐng)域。 其中, 打造千億產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新街區(qū) 成為光谷推動(dòng)戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展的重要舉措。 》》化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新街區(qū):搶占全球創(chuàng)新高地 光谷依托九峰山實(shí)驗(yàn)室等龍頭企
2025-02-13 15:28:131002

納米壓印技術(shù):開創(chuàng)下一代光刻的新篇章

光刻技術(shù)對(duì)芯片制造至關(guān)重要,但傳統(tǒng)紫外光刻受衍射限制,摩爾定律面臨挑戰(zhàn)。為突破瓶頸,下一代光刻(NGL)技術(shù)應(yīng)運(yùn)而生。本文將介紹納米壓印技術(shù)(NIL)的原理、發(fā)展、應(yīng)用及設(shè)備,并探討其在半導(dǎo)體制造中
2025-02-13 10:03:503709

至純科技珠海半導(dǎo)體零部件清洗項(xiàng)目啟動(dòng)

近日,珠海至微半導(dǎo)體零部件清洗項(xiàng)目正式破土動(dòng)工,標(biāo)志著上海至純科技在華南地區(qū)的戰(zhàn)略布局邁出了關(guān)鍵步。該項(xiàng)目不僅將進(jìn)步推動(dòng)半導(dǎo)體零部件清洗服務(wù)的升級(jí)與發(fā)展,更為華南地區(qū)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)集群的發(fā)展注入了新的活力與機(jī)遇。
2025-02-12 17:09:341235

百度李彥宏談?dòng)?xùn)練下一代大模型

“我們?nèi)孕鑼?duì)芯片、數(shù)據(jù)中心和云基礎(chǔ)設(shè)施持續(xù)投入,以打造更好、更智能的下一代模型?!?/div>
2025-02-12 10:38:11818

8億投資,又一半導(dǎo)體設(shè)備研制項(xiàng)目成功簽約落地

項(xiàng)目進(jìn)行簽約,進(jìn)步推動(dòng)浦東產(chǎn)業(yè)集聚,其中包括御微半導(dǎo)體設(shè)備研制項(xiàng)目總投資8億元。 御微半導(dǎo)體官方消息顯示,公司面向集成電路制造、先進(jìn)封裝、化合物半導(dǎo)體、新型顯示等領(lǐng)域,為客戶提供具有競(jìng)爭(zhēng)力的產(chǎn)品及技術(shù)解決方案。公司聚
2025-02-11 11:05:321040

LED芯片巨頭兆馳,全面進(jìn)軍化合物半導(dǎo)體

▍全球最大數(shù)字智能化LED芯片廠加碼化合物半導(dǎo)體 來源:LEDinside等網(wǎng)絡(luò)資料 近日,兆馳集團(tuán)二十周年盛典暨全球戰(zhàn)略合作伙伴生態(tài)峰會(huì)在江西隆重召開,在盛典上,兆馳集團(tuán)明確了未來10到20年
2025-01-23 11:49:081624

使用下一代GaNFast和GeneSiC Power實(shí)現(xiàn)電氣化我們的世界

電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《使用下一代GaNFast和GeneSiC Power實(shí)現(xiàn)電氣化我們的世界.pdf》資料免費(fèi)下載
2025-01-22 14:51:370

意法半導(dǎo)體推出面向下一代智能穿戴醫(yī)療設(shè)備的生物傳感器芯片

意法半導(dǎo)體(簡(jiǎn)稱ST)推出了款新的面向智能手表、運(yùn)動(dòng)手環(huán)、智能戒指、智能眼鏡等下一代智能穿戴醫(yī)療設(shè)備的生物傳感器芯片。ST1VAFE3BX芯片集成高精度生物電位輸入與意法半導(dǎo)體的經(jīng)過市場(chǎng)檢驗(yàn)的慣性傳感器和AI核心。其中,AI核心在芯片上執(zhí)行活動(dòng)檢測(cè),確保運(yùn)動(dòng)跟蹤更快,功耗更低。
2025-01-09 14:52:591409

深入剖析半導(dǎo)體濕法刻蝕過程中殘留形成的機(jī)理

的刻蝕劑(諸如酸性、堿性或氧化性溶液)與半導(dǎo)體材料之間發(fā)生的化學(xué)反應(yīng)。這些反應(yīng)促使材料轉(zhuǎn)化為可溶性化合物,進(jìn)而溶解于刻蝕液中,達(dá)到材料去除的目的。 2 刻蝕速率的精細(xì)調(diào)控:刻蝕速率不僅受到化學(xué)反應(yīng)動(dòng)力學(xué)的影響,還取決于
2025-01-08 16:57:451468

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