次數(shù)多，其時間縮短、高精度化決定半導(dǎo)體的生產(chǎn)性和質(zhì)量。在單張式清洗中，用超純水沖洗晶片 ,一邊高速旋轉(zhuǎn)，一邊從裝置上部使干燥的空氣流過。在該方式中，逐個處理晶片。上一行程粒子的交錯污染少。近年來，由于高壓噴氣和極低
2021-12-23 16:43:04
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本文討論并演示了痕量污染物分析儀的功能。該分析工具利用電噴霧飛行時間質(zhì)譜儀對晶圓清洗溶液進行全自動在線監(jiān)測。該分析儀通過其在正負模式下提供強(元素)和弱(分子)電離的能力，提供了關(guān)于金屬、陰離子
2022-03-08 14:06:581412 
在超大規(guī)模集成(ULSI)制造的真實生產(chǎn)線中，器件加工過程中存在各種污染物。由于超大規(guī)模集成電路器件工藝需要非常干凈的表面，因此必須通過清潔技術(shù)去除污染物，例如使用批量浸漬工具進行濕法清潔批量旋轉(zhuǎn)
2022-03-16 11:54:09948 
摘要 溶液中晶片表面的顆粒沉積。然而，粒子沉積和清除機制液體。在高離子中觀察到最大的粒子沉積:本文將討論粒子沉積的機理酸性溶液的濃度，并隨著溶液pH值的增加而降低，在使用折痕。還研究了各種溶液
2022-06-01 14:57:576891 
在整個晶圓加工過程中，仔細維護清潔的晶圓表面對于在半導(dǎo)體器件制造中獲得高產(chǎn)量至關(guān)重要。因此，濕式化學清洗以去除晶片表面的污染物是任何LSI制造序列中應(yīng)用最重復(fù)的處理步驟。
2023-03-30 10:00:091940 
在當今的器件中，最小結(jié)構(gòu)的尺寸接近于需要從晶片表面移除的粒子的尺寸。在不破壞脆弱設(shè)備的情況下，在工藝步驟之間去除納米顆粒的清洗過程的重要性正在不斷增長。兆波清洗可用于單晶片或批量晶片處理。
2023-05-02 16:32:11865 
晶片邊緣的蝕刻機臺，特別是能有效地蝕刻去除晶片邊緣劍山的一種蝕刻機，在動態(tài)隨機存取存儲單元(dynamic random access memory，DRAM)的制造過程中，為了提高產(chǎn)率，便采用
2018-03-16 11:53:10
蘇州晶淼專業(yè)生產(chǎn)半導(dǎo)體、光伏、LED等行業(yè)清洗腐蝕設(shè)備，可根據(jù)要求定制濕法腐蝕設(shè)備。晶淼半導(dǎo)體為國內(nèi)專業(yè)微電子、半導(dǎo)體行業(yè)腐蝕清洗設(shè)備供應(yīng)商，歡迎來電咨詢。電話：***，13771786452王經(jīng)理
2016-09-05 14:26:32
`華林科納濕法設(shè)備分類全自動設(shè)備：全自動RCA清洗機全自動硅片刻蝕機全自動片盒清洗機全自動石英管清洗機半自動設(shè)備：半自動RCA清洗機半自動硅片刻蝕機半自動石英管清洗機半自動有機清洗機`
2021-02-07 10:14:51
過程中，θ相Ａｌ２Ｃｕ 在Ａｌ 晶界聚集成大顆粒，并且在隨后的有機溶液濕法清洗過程中原電池反應(yīng)導(dǎo)致Ａｌ 被腐蝕而在互連導(dǎo)線側(cè)壁生成孔洞。通過對光刻膠去除工藝溫度以及濕法清洗工藝中有機溶液的水含量控制可以
2009-10-06 09:50:58
工作，正交編碼器作為位置反饋?？刂?b class="flag-6" style="color: red">轉(zhuǎn)速可以從STMCWB中正常工作。 但是當請求更多2500轉(zhuǎn)/分鐘時，速度監(jiān)控圖表中要求的速度會上升，但電機的卷軸旋轉(zhuǎn)大約保持2500轉(zhuǎn)/分鐘。這是軟件的限制嗎？我們要調(diào)整
2019-05-13 14:59:39
。它適用于大批量PCBA清洗，采用安全自動化的清洗設(shè)備置于電裝產(chǎn)線，通過不同的腔體在線完成化學清洗（或者水基清洗）、水基漂洗、烘干全部工序?！ ?b class="flag-6" style="color: red">清洗過程中，PCBA通過清洗機的傳送帶在不同的溶劑清洗腔體
2021-02-05 15:27:50
氧化物）中的高質(zhì)量電介質(zhì)。此外，在加工過程中，熱生長的氧化物可用作注入、擴散和蝕刻掩模。硅作為微電子材料的優(yōu)勢可歸因于這種高質(zhì)量原生氧化物的存在以及由此產(chǎn)生的接近理想的硅/氧化物界面。濕法蝕刻包括
2021-07-06 09:32:40
。。全自動自清洗過濾器控制系統(tǒng)中的各參數(shù)均可調(diào)節(jié)。3）設(shè)有電機過載保護，可有效保護電機。4）具有在清洗排污時不間斷供水、無需旁路的特點，且清洗時間短，排污耗水量少，不超過總流量的 1%。5）維修性強、安裝拆卸簡便易行。6）與用戶管線的連接方式為法蘭連接，法蘭采用國標法蘭，通用性強。
2021-09-13 06:57:56
、功率放大器、數(shù)碼攝像機。實驗過程：旋轉(zhuǎn)軟體機器人的實驗研究：在旋轉(zhuǎn)軟件機器人的轉(zhuǎn)速測量實驗中，功率放大器將信號發(fā)生器發(fā)出的激勵信號進行放大，然后激勵信號施加在機器人上。為了測量機器人的旋轉(zhuǎn)角度，在
2021-04-09 10:02:13
、功率放大器、數(shù)碼攝像機。實驗過程：旋轉(zhuǎn)軟體機器人的實驗研究：在旋轉(zhuǎn)軟件機器人的轉(zhuǎn)速測量實驗中，功率放大器將信號發(fā)生器發(fā)出的激勵信號進行放大，然后激勵信號施加在機器人上。為了測量機器人的旋轉(zhuǎn)角度，在
2021-04-14 09:56:50
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2016-09-05 10:40:27
清洗設(shè)備,太陽能電池制絨酸洗設(shè)備,硅晶圓片清洗甩干機濕法清洗機,硅片清洗機,硅刻蝕機、通風櫥、邊緣腐蝕機、石英管清洗機,鐘罩清洗機、晶圓清洗機、硅片顯影機、腐蝕臺、LED晶片清洗機、硅料切片后清洗設(shè)備
2011-04-13 13:23:10
中央空調(diào)清洗過程 中央空調(diào)清洗一般包括冷凍水、冷卻系統(tǒng)清洗除垢、水處理、溴化鋰機組內(nèi)腔清洗處理、更換新溶液、舊溶液再生、中央空調(diào)風機盤管清洗。結(jié)垢物和堵塞物堅硬較難清洗，列管堵塞嚴重，甚至超過管束
2010-12-21 16:22:40
什么是編碼器？如何去測量旋轉(zhuǎn)量和旋轉(zhuǎn)速度？檢測旋轉(zhuǎn)和角度的機制是什么？
2021-09-08 07:53:47
使用等離子清洗技術(shù)清洗晶圓去除晶圓表面的有機污染物等雜質(zhì)，但是同時在等離子產(chǎn)生過程中電極會出現(xiàn)金屬離子析出，如果金屬離子附著在晶圓表面也會對晶圓造成損傷，如果在使用等離子清洗技術(shù)清洗晶圓如何規(guī)避電極產(chǎn)生的金屬離子？
2021-06-08 16:45:05
`請問電機的旋轉(zhuǎn)速度為什么能夠自由地改變？`
2019-12-13 16:59:53
電機的旋轉(zhuǎn)速度為什么能夠自由地改變？ *1: r/min 電機旋轉(zhuǎn)速度單位：每分鐘旋轉(zhuǎn)次數(shù)，也可表示為rpm. 例如：2極電機 50Hz 3000 [r/min] 4極電機 50Hz 1500
2016-01-29 10:01:07
一：直通式反沖洗過濾器簡介 直通式反沖洗排污過濾器是一種集通用的過濾功能和在系統(tǒng)運行不停機的前提下對濾筒進行清洗并排污的多功能使用產(chǎn)品，它設(shè)計了全新的結(jié)構(gòu)形式，在濾筒的前段設(shè)置閥板，通過
2021-06-30 08:06:52
其中國市場的開發(fā)、推廣。公司自有產(chǎn)品包括半導(dǎo)體前段、后段、太陽能、平板顯示FPD、LED、MEMS應(yīng)用中的各種濕制程設(shè)備，例如硅片濕法清洗、蝕刻，硅芯硅棒濕法化學處理，液晶基板清洗，LED基片顯影脫膜等
2015-04-02 17:23:36
各位同仁好！我最近在芯片清洗上遇到一個問題，自己沒辦法解決，所以想請教下。一個剛從氮氣包裝袋拿出來的晶圓片經(jīng)過去離子水洗過后，在強光照射下或者顯微鏡下觀察，片子表面出現(xiàn)一些顆粒殘留，無論怎么洗都
2021-10-22 15:31:35
hi,調(diào)試電機時，閉環(huán)以9000rpm旋轉(zhuǎn)，不能按要求轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)。改變速度環(huán) pi 會引起調(diào)整動作，但速度仍會增加。我可以知道要調(diào)整哪個參數(shù)嗎？
2023-05-19 09:29:43
KMI 15/16 傳感器模塊系列為汽車電子和工業(yè)控制領(lǐng)域提供了結(jié)構(gòu)簡單、性能優(yōu)良、價格低廉的旋轉(zhuǎn)速度測量的方案。本文詳細介紹磁敏電阻元件的結(jié)構(gòu)和原理、KMI 模塊的原理和結(jié)構(gòu)、
2009-07-13 09:51:48
53 旋轉(zhuǎn)速度估計是高速旋轉(zhuǎn)目標成像的基礎(chǔ)，論文提出一種新的旋轉(zhuǎn)速度估計方法，該算法基于旋轉(zhuǎn)目標在距離時間域所具有的特性，在利用傅里葉變換粗略估計旋轉(zhuǎn)速度的基礎(chǔ)上，
2009-11-09 14:59:478 敘述了凝汽器銅管化學清洗的優(yōu)點和在清洗過程中必須注意的幾個問題，并且用實例進一步說明化學清洗還能夠有效防止凝汽器銅管的腐蝕。
2010-02-03 11:43:558 早在2018年7月，普渡大學的研究人員就創(chuàng)造了世界上旋轉(zhuǎn)速度最快的物體，該物體以每分鐘600億轉(zhuǎn)的速度旋轉(zhuǎn)。
2020-01-17 16:56:193705 電機旋轉(zhuǎn)速度單位：r/min每分鐘旋轉(zhuǎn)次數(shù)，也可表示為rpm。例如：2極電機50Hz3000[r/min] 4極電機50Hz1500[r/min] 結(jié)論：電機的旋轉(zhuǎn)速度同頻率成比例
2020-12-14 23:47:16916 本發(fā)明的工藝一般涉及到半導(dǎo)體晶片的清洗。更確切地說，本發(fā)明涉及到可能存在于被研磨的單晶硅晶片的表面上的有機殘留物、金屬雜質(zhì)和其它特定的沾污物的清洗處理步驟的順序。 集成電路制造中所用的半導(dǎo)體晶片
2020-12-29 14:45:211999 電機旋轉(zhuǎn)速度單位：r/min每分鐘旋轉(zhuǎn)次數(shù)，也可表示為rpm。例如：2極電機50Hz3000[r/min] 4極電機50Hz1500[r/min] 結(jié)論：電機的旋轉(zhuǎn)速度同頻率成比例
2021-01-21 07:50:442 】 濕法清洗 有機藥液 槽式 單片式 滾筒式在集成電路生產(chǎn)過程中，WET ?濕法工藝主要是指使用超純水及超純酸堿 , 有機等化學藥液 , 完成對晶圓的清洗刻蝕及光刻膠剝離等工藝 ??[1]。伴隨著集成電路設(shè)計線寬越來越窄，使得集成電路高
2023-04-20 11:45:00823 
旋轉(zhuǎn)磁場的轉(zhuǎn)速在電動機實際運行過程中只與磁極對數(shù)有關(guān)，我國規(guī)定標準電源頻率為f=50周/秒，所以磁極對數(shù)多，旋轉(zhuǎn)磁場的轉(zhuǎn)數(shù)成就低。一般情況下，由于轉(zhuǎn)差率的存在，電機實際轉(zhuǎn)速略低于旋轉(zhuǎn)磁場的轉(zhuǎn)速，旋轉(zhuǎn)磁場的轉(zhuǎn)速n=3000。
2021-10-09 11:25:0618987 
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