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標(biāo)簽 > 碳化硅

碳化硅

碳化硅

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金剛砂又名碳化硅(SiC)是用石英砂、石油焦(或煤焦)、木屑(生產(chǎn)綠色碳化硅時需要加食鹽)等原料通過電阻爐高溫冶煉而成。碳化硅在大自然也存在罕見的礦物,莫桑石。

文章:2771 瀏覽:51732 帖子:38

碳化硅技術(shù)

晶圓切割中淺切多道工藝與切削熱分布的耦合效應(yīng)對 TTV 的影響

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一、引言 在半導(dǎo)體晶圓制造領(lǐng)域,晶圓總厚度變化(TTV)是衡量晶圓質(zhì)量的關(guān)鍵指標(biāo),直接影響芯片制造的良品率與性能。淺切多道工藝通過分層切削降低單次切削力...

2025-07-12 標(biāo)簽:半導(dǎo)體晶圓碳化硅 378 0

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摘要 本文聚焦碳化硅襯底 TTV 厚度測量過程,深入探究表面粗糙度對測量結(jié)果的影響機制,通過理論分析與實驗驗證,揭示表面粗糙度與測量誤差的關(guān)聯(lián),為優(yōu)化碳...

2025-08-18 標(biāo)簽:測量碳化硅碳化 378 0

真正實現(xiàn)碳化硅的汽車資質(zhì)

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車載充電器 (OBC)、DC-DC 轉(zhuǎn)換器和牽引逆變器都受益于 SiC,正在進行的工藝和架構(gòu)改進肯定會增加其已經(jīng)相當(dāng)可觀的吸引力。這種增強將擴大這種寬帶...

2023-02-21 標(biāo)簽:電動汽車MOSFET碳化硅 377 0

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一、引言 在晶圓制造過程中,晶圓總厚度變化(TTV)是衡量晶圓質(zhì)量的關(guān)鍵指標(biāo),直接影響芯片制造的良品率與性能。切割過程中,受切削力、振動、刀具磨損等因素...

2025-07-17 標(biāo)簽:晶圓碳化硅新啟 368 0

基于納米流體強化的切割液性能提升與晶圓 TTV 均勻性控制

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摘要:本文圍繞基于納米流體強化的切割液性能提升及對晶圓 TTV 均勻性的控制展開研究。探討納米流體強化切割液在冷卻、潤滑、排屑等性能方面的提升機制,分析...

2025-07-25 標(biāo)簽:晶圓碳化硅新啟航 366 0

探索 onsemi NXH008P120M3F1:碳化硅功率模塊的卓越之選

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在當(dāng)今的電力電子領(lǐng)域,碳化硅(SiC)技術(shù)憑借其出色的性能優(yōu)勢,正逐漸成為眾多應(yīng)用的首選。onsemi 的 NXH008P120M3F1 功率模塊,作為...

2025-11-26 標(biāo)簽:MOSFET功率模塊碳化硅 348 0

切割液性能智能調(diào)控系統(tǒng)與晶圓 TTV 預(yù)測模型的協(xié)同構(gòu)建

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摘要 本論文圍繞超薄晶圓切割工藝,探討切割液性能智能調(diào)控系統(tǒng)與晶圓 TTV 預(yù)測模型的協(xié)同構(gòu)建,闡述兩者協(xié)同在保障晶圓切割質(zhì)量、提升 TTV 均勻性方面...

2025-07-31 標(biāo)簽:晶圓調(diào)控系統(tǒng)碳化硅 344 0

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一、引言 12 英寸及以上的大尺寸玻璃晶圓在半導(dǎo)體制造、顯示面板、微機電系統(tǒng)等領(lǐng)域扮演著關(guān)鍵角色 。總厚度偏差(TTV)的均勻性直接影響晶圓后續(xù)光刻、...

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摘要:本文針對晶圓切割過程,研究切割液性能與切削區(qū)多物理場耦合作用對晶圓 TTV 均勻性的影響機制,并探索相應(yīng)調(diào)控策略。通過分析切割液性能在熱、力、流等...

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onsemi NVH4L060N065SC1碳化硅功率MOSFET的性能剖析與應(yīng)用指南

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【新啟航】深度學(xué)習(xí)在玻璃晶圓 TTV 厚度數(shù)據(jù)智能分析中的應(yīng)用

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一、引言 玻璃晶圓總厚度偏差(TTV)是衡量晶圓質(zhì)量的關(guān)鍵指標(biāo),其精確分析對半導(dǎo)體制造、微流控芯片等領(lǐng)域至關(guān)重要 。傳統(tǒng) TTV 厚度數(shù)據(jù)分析方法依賴...

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變送器 傳感器 解析器 編碼器 陀螺儀 加速計 溫度傳感器 壓力傳感器
電機驅(qū)動器 步進驅(qū)動器 TWS BLDC 無刷直流驅(qū)動器 濕度傳感器 光學(xué)傳感器 圖像傳感器
數(shù)字隔離器 ESD 保護 收發(fā)器 橋接器 多路復(fù)用器 氮化鎵 PFC 數(shù)字電源
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