Valley的SiC晶圓廠,并開始投產(chǎn)8英寸SiC襯底。又在今年1月份與采埃孚合作,斥資超20億歐元在德國(guó)薩爾州建廠。 在國(guó)際大廠布局的同時(shí),國(guó)產(chǎn)碳化硅廠商也在加速追趕,爭(zhēng)搶當(dāng)下最火熱的汽車、儲(chǔ)能等市場(chǎng)。2022年國(guó)內(nèi)已有不少SiC擴(kuò)產(chǎn)項(xiàng)目啟動(dòng)、竣工,進(jìn)入2023年,碳化硅產(chǎn)業(yè)鏈在投
2023-02-21 16:32:21
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企業(yè)在政策支持和市場(chǎng)需求驅(qū)動(dòng)下,正加速實(shí)現(xiàn)中低端產(chǎn)品的國(guó)產(chǎn)化替代,同時(shí)在高端領(lǐng)域逐步突破技術(shù)壁壘。 ? 在全球范圍內(nèi),磷化銦襯底市場(chǎng)規(guī)模快速增長(zhǎng)。受AI算力、數(shù)據(jù)中心和6G通信驅(qū)動(dòng),Yole預(yù)測(cè)全球InP襯底市場(chǎng)規(guī)模將從2022年的30億
2025-05-19 02:23:00
3261 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/梁浩斌)“碳化硅行業(yè)得襯底者得天下”,襯底作為SiC產(chǎn)業(yè)鏈中成本占比最大的部分,自然是各家必爭(zhēng)之地。在下游需求帶動(dòng)下,SiC襯底正在從6英寸開始向8英寸推進(jìn),更大的襯底尺寸
2022-11-23 09:22:56
2839 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/梁浩斌)今年以來(lái)國(guó)內(nèi)的SiC產(chǎn)業(yè)進(jìn)展神速,除了上游廠商陸續(xù)放出8英寸襯底的進(jìn)展之外,還有多家襯底廠商與海外半導(dǎo)體巨頭簽下供應(yīng)協(xié)議。上個(gè)月,國(guó)內(nèi)SiC襯底龍頭天岳先進(jìn)展示了一種
2023-07-12 09:00:19
1920 的發(fā)展,SiC在電動(dòng)汽車領(lǐng)域的普及進(jìn)度驚人,從過(guò)去30萬(wàn)以上車型,已經(jīng)滲透至12萬(wàn)左右的車型上。 ? SiC能夠在電動(dòng)汽車領(lǐng)域快速普及,關(guān)鍵因素除了器件本身性能優(yōu)異外,還有產(chǎn)業(yè)鏈共同作用下的快速降本。自今年以來(lái),SiC上游襯底價(jià)格開始下降,驅(qū)動(dòng)下游
2024-10-24 09:04:21
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電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/梁浩斌)在SiC行業(yè)逐步進(jìn)入8英寸時(shí)代后,業(yè)界并沒有停下腳步,開始投入到12英寸襯底的開發(fā)中。 ? 去年11月,天岳先進(jìn)率先出手,發(fā)布了行業(yè)首款12英寸碳化硅襯底;一個(gè)月后,爍
2025-05-21 00:51:00
7317 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/梁浩斌)今年以來(lái),各家廠商都開始展示出12英寸SiC產(chǎn)品,包括晶錠和襯底,加速推進(jìn)12英寸SiC的產(chǎn)業(yè)化。最近,天成半導(dǎo)體宣布成功研制出12英寸N型碳化硅單晶材料;晶越半導(dǎo)體也
2025-07-30 09:32:13
11754 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道 最近,湖南三安半導(dǎo)體舉行了碳化硅芯片上車儀式,標(biāo)志著國(guó)產(chǎn)車規(guī)級(jí)碳化硅主驅(qū)芯片實(shí)現(xiàn)從技術(shù)攻關(guān)到規(guī)?;b車的里程碑突破。此次三安 1200V 13mΩ SiC MOSFET 芯片
2025-12-09 09:25:46
4889 碳化硅(SiC)襯底材料領(lǐng)域的重要技術(shù)成果,不僅將碳化硅材料實(shí)測(cè)熱導(dǎo)率推至 560W/(m?K) 的業(yè)界新高度,更創(chuàng)新性推出方形碳化硅散熱晶片,實(shí)現(xiàn)從材料性能標(biāo)桿到應(yīng)用解決方案的全維度升級(jí),為人工智能、汽車電子、數(shù)據(jù)中心等尖端領(lǐng)
2025-12-25 09:39:55
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有使用過(guò)SIC MOSFET 的大佬嗎 想請(qǐng)教一下驅(qū)動(dòng)電路是如何搭建的。
2021-04-02 15:43:15
效率,并實(shí)現(xiàn)了全球節(jié)能。事實(shí)上,有人估計(jì)的IGBT幫助阻止750000億磅的CO 2排放量在過(guò)去25年?! 【拖穸兰o(jì)八十年代的IGBT革命一樣,今天寬帶隙半導(dǎo)體碳化硅(SiC)再次顯示出為電力
2023-02-27 13:48:12
,不需要進(jìn)行電導(dǎo)率調(diào)制就能夠以MOSFET實(shí)現(xiàn)高耐壓和低阻抗。而且MOSFET原理上不產(chǎn)生尾電流,所以用SiC-MOSFET替代IGBT時(shí),能夠明顯地減少開關(guān)損耗,并且實(shí)現(xiàn)散熱部件的小型化。另外
2019-04-09 04:58:00
本章將介紹部分SiC-MOSFET的應(yīng)用實(shí)例。其中也包括一些以前的信息和原型級(jí)別的內(nèi)容,總之希望通過(guò)這些介紹能幫助大家認(rèn)識(shí)采用SiC-MOSFET的好處以及可實(shí)現(xiàn)的新功能。另外,除了
2018-11-27 16:38:39
基于SiC/GaN的新一代高密度功率轉(zhuǎn)換器SiC/GaN具有的優(yōu)勢(shì)
2021-03-10 08:26:03
SiC46x是什么?SiC46x有哪些優(yōu)異的設(shè)計(jì)?SiC46x的主要應(yīng)用領(lǐng)域有哪些?
2021-07-09 07:11:50
進(jìn)行介紹。SiC功率元器件的開發(fā)背景之前談到,通過(guò)將SiC應(yīng)用到功率元器件上,實(shí)現(xiàn)以往Si功率元器件無(wú)法實(shí)現(xiàn)的低損耗功率轉(zhuǎn)換。不難發(fā)現(xiàn)這是SiC使用到功率元器件上的一大理由。其背景是為了促進(jìn)解決全球
2018-11-29 14:35:23
,不需要進(jìn)行電導(dǎo)率調(diào)制就能夠以MOSFET實(shí)現(xiàn)高耐壓和低阻抗。而且MOSFET原理上不產(chǎn)生尾電流,所以用SiC-MOSFET替代IGBT時(shí),能夠明顯地減少開關(guān)損耗,并且實(shí)現(xiàn)散熱部件的小型化。另外
2019-05-07 06:21:55
不具備足夠的堅(jiān)固性。當(dāng)前對(duì)大功率、高溫器件封裝技術(shù)的大量需求引起了對(duì)這一領(lǐng)域的研發(fā)熱潮。 SiC器件的封裝襯底必須便于處理固態(tài)銅厚膜導(dǎo)電層,且具有高熱導(dǎo)率和低熱膨脹系數(shù),從而可以把大尺寸SiC芯片直接焊接到襯底上
2018-09-11 16:12:04
Sic mesfet工藝技術(shù)研究與器件研究針對(duì)SiC 襯底缺陷密度相對(duì)較高的問(wèn)題,研究了消除或減弱其影響的工藝技術(shù)并進(jìn)行了器件研制。通過(guò)優(yōu)化刻蝕條件獲得了粗糙度為2?07 nm的刻蝕表面;犧牲氧化
2009-10-06 09:48:48
TMM、Duorid和PTFE。在加工柔性基材和敏感基材時(shí),激光直接成型技術(shù)優(yōu)勢(shì)更明顯,不用與材料接觸,就能進(jìn)行光蝕,因此更可靠,不會(huì)對(duì)基材產(chǎn)生損害。激光直接大面積剝離銅層不傷基底材料(軟基,硬基均可)汪先生 ***
2016-06-27 13:25:29
TMM、Duorid和PTFE。在加工柔性基材和敏感基材時(shí),激光直接成型技術(shù)優(yōu)勢(shì)更明顯,不用與材料接觸,就能進(jìn)行光蝕,因此更可靠,不會(huì)對(duì)基材產(chǎn)生損害。激光直接大面積剝離銅層不傷基底材料(軟基,硬基均可)汪先生 ***
2016-06-27 13:26:43
半導(dǎo)體的關(guān)鍵特性是能帶隙,能帶動(dòng)電子進(jìn)入導(dǎo)通狀態(tài)所需的能量。寬帶隙(WBG)可以實(shí)現(xiàn)更高功率,更高開關(guān)速度的晶體管,WBG器件包括氮化鎵(GaN)和碳化硅(SiC),以及其他半導(dǎo)體。 GaN和SiC
2022-08-12 09:42:07
項(xiàng)目名稱:風(fēng)電伺服驅(qū)動(dòng)控制器SiC器件試用試用計(jì)劃:申請(qǐng)理由本人在工業(yè)控制領(lǐng)域有十余年的產(chǎn)品開發(fā)經(jīng)驗(yàn),目前正在從事風(fēng)電機(jī)組變槳控制系統(tǒng)伺服驅(qū)動(dòng)器的開發(fā),是一個(gè)國(guó)產(chǎn)化項(xiàng)目,也是SiC器件應(yīng)用的領(lǐng)域
2020-04-24 18:03:59
TG傳輸門電路中。當(dāng)C端接+5,C非端接0時(shí)。源極和襯底沒有連在一起,為什么當(dāng)輸入信號(hào)改變時(shí),其導(dǎo)通程度怎么還會(huì)改變?導(dǎo)電程度不是由柵極和襯底間的電場(chǎng)決定的嗎?而柵極和襯底間的電壓不變。所以其導(dǎo)通程度應(yīng)該與輸入信號(hào)變化無(wú)關(guān)?。《鴷险f(shuō)起導(dǎo)通程度歲輸入信號(hào)的改變而改變?為什么?求詳細(xì)解釋!謝謝!
2012-03-29 22:51:18
-SBD和Si-SBD均具有高速性的特征,SiC-SBD不僅擁有優(yōu)異的高速性且實(shí)現(xiàn)了高耐壓。Si-SBD的耐壓極限為200V,而SiC具有硅10倍的擊穿場(chǎng)強(qiáng),故ROHM已經(jīng)開始量產(chǎn)1200V的產(chǎn)品,同時(shí)在推進(jìn)
2018-11-29 14:33:47
功率模塊具體是什么樣的產(chǎn)品,都有哪些機(jī)型。之后計(jì)劃依次介紹其特點(diǎn)、性能、應(yīng)用案例和使用方法。何謂全SiC功率模塊ROHM在全球率先實(shí)現(xiàn)了搭載ROHM生產(chǎn)的SiC-MOSFET和SiC-SBD的“全
2018-11-27 16:38:04
,耦合器,合成實(shí)驗(yàn),突破,成功率【DOI】:CNKI:SUN:QJGY.0.2010-02-006【正文快照】:2010年1月16日,中國(guó)兵器裝備研究院大功率激光實(shí)驗(yàn)室成功完成了7路光纖激光組束合成實(shí)驗(yàn),在
2010-04-22 11:37:22
激光測(cè)距原理是什么?如何實(shí)現(xiàn)激光脈沖測(cè)距雷達(dá)系統(tǒng)?
2021-04-29 06:14:35
SOI(Silicon-On-Insulator,絕緣襯底上的硅)技術(shù)是在頂層硅和背襯底之間引入了一層埋氧化層。通過(guò)在絕緣體上形成半導(dǎo)體薄膜,SOI材料具有了體硅所無(wú)法比擬的優(yōu)點(diǎn):可以實(shí)現(xiàn)集成電路
2012-01-12 10:47:00
雖然電動(dòng)和混合動(dòng)力電動(dòng)汽車(EV]從作為功率控制器件的標(biāo)準(zhǔn)金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管(MOSFET)到基于碳化硅(SiC)襯底和工藝技術(shù)的FET的轉(zhuǎn)變代表了提高EV的效率和整體系統(tǒng)級(jí)特性的重要步驟
2019-08-11 15:46:45
的發(fā)展中,Si功率器件已趨其發(fā)展的材料極限,難以滿足當(dāng)今社會(huì)對(duì)于高 頻、高溫、高功率、高能效、耐惡劣環(huán)境以及輕便小型化的新需求。以SiC為代表的 第三代半導(dǎo)體材料憑借其優(yōu)異屬性,將成為突破口,正在迅速
2017-07-22 14:12:43
1. 器件結(jié)構(gòu)和特征SiC能夠以高頻器件結(jié)構(gòu)的SBD(肖特基勢(shì)壘二極管)結(jié)構(gòu)得到600V以上的高耐壓二極管(Si的SBD最高耐壓為200V左右)。因此,如果用SiC-SBD替換現(xiàn)在主流產(chǎn)品快速PN結(jié)
2019-05-07 06:21:51
空間、降低研發(fā)生產(chǎn)成本,在小型家電中實(shí)現(xiàn)能效、空間與成本的優(yōu)化平衡。
突破能效瓶頸,駕馭小型化浪潮!面對(duì)家電與工業(yè)驅(qū)動(dòng)領(lǐng)域?qū)Ω咝?、極致緊湊、超強(qiáng)可靠性與成本控制的嚴(yán)苛需求,深愛半導(dǎo)體重磅推出
2025-07-23 14:36:03
隨著國(guó)家對(duì)節(jié)能減排的日益重視,成都LED燈市場(chǎng)的逐步啟動(dòng),飛利浦、富士康等大公司涉足LED燈行業(yè),LED概念股普漲,使得LED技術(shù)成為大眾熱點(diǎn),下面簡(jiǎn)要概述LED襯底技術(shù)。上圖為L(zhǎng)ED封裝結(jié)構(gòu)示意圖
2012-03-15 10:20:43
低,可靠性高,在各種應(yīng)用中非常有助于設(shè)備實(shí)現(xiàn)更低功耗和小型化。本產(chǎn)品于世界首次※成功實(shí)現(xiàn)SiC-SBD與SiC-MOSFET的一體化封裝。內(nèi)部二極管的正向電壓(VF)降低70%以上,實(shí)現(xiàn)更低損耗的同時(shí)
2019-03-18 23:16:12
激光跟蹤儀是建立在激光和自動(dòng)控制技術(shù)基礎(chǔ)上的一種高精度三維測(cè)量系統(tǒng),主要用于大尺寸空間坐標(biāo)測(cè)量領(lǐng)域。它集中了激光干涉測(cè)距、角度測(cè)量等先進(jìn)技術(shù),基于球坐標(biāo)法測(cè)量原理,通過(guò)測(cè)角、測(cè)距實(shí)現(xiàn)三維坐標(biāo)的精密
2023-06-15 10:29:00
。廣泛應(yīng)用于數(shù)控機(jī)床、激光打標(biāo)/切割、三坐標(biāo)、影像儀、精密測(cè)量、自動(dòng)化、機(jī)器人、3D打印等領(lǐng)域。中圖國(guó)產(chǎn)激光干涉儀sj6000結(jié)合不同的光學(xué)鏡組,可實(shí)現(xiàn)線性測(cè)長(zhǎng)、角度、直
2023-09-28 09:12:11
國(guó)產(chǎn)機(jī)床激光干涉儀sj6000除了環(huán)境適應(yīng)能力好,還可以進(jìn)行動(dòng)態(tài)高速測(cè)量,選配相應(yīng)的功能模塊元件后還可以測(cè)量振動(dòng)幅度、平面度、線速度、角速度等。產(chǎn)品簡(jiǎn)介國(guó)產(chǎn)機(jī)床激光干涉儀sj6000具有測(cè)量精度高
2024-01-11 09:12:25
目前日本日亞公司壟斷了藍(lán)寶石襯底上GaN基LED專利技術(shù),美國(guó)CREE公司壟斷了SiC襯底上GaN基LED專利技術(shù)。因此,研發(fā)其他襯底上的GaN基LED生產(chǎn)技術(shù)成為國(guó)際上的一個(gè)熱點(diǎn)。南昌大學(xué)
2010-06-07 11:27:28
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隨著國(guó)產(chǎn)襯底的生產(chǎn)工藝和控制能力的不斷提升,國(guó)產(chǎn)襯底的應(yīng)用也越來(lái)越廣。作者就國(guó)產(chǎn)襯底在雙極型集成電路制造中普遍關(guān)心的問(wèn)題做了全面的評(píng)估,包括物理參數(shù)、電參數(shù)、圓片合格率,以及大規(guī)模生產(chǎn)的工程能力指數(shù)。評(píng)估結(jié)果說(shuō)明國(guó)產(chǎn)襯底在品質(zhì)上已經(jīng)完全能夠媲美進(jìn)口襯底,滿足大規(guī)模生產(chǎn)的需求。
2018-04-22 09:53:49
11290 、機(jī)械應(yīng)力和熱預(yù)算等方面都有獨(dú)特的要求,因此確定合適的剝離技術(shù)比較困難。這里只是枚舉了幾個(gè)例子,實(shí)際情況更為復(fù)雜。我們將在本文中重點(diǎn)討論激光剝離(laser debonding):如抗高溫更兼容的材料可應(yīng)用于哪些情況,激光剝離的特性適于哪些應(yīng)用等。
2018-07-10 09:27:00
9864 大族顯視與半導(dǎo)體從2013年便開始對(duì)激光剝離(Laser Lift Off,簡(jiǎn)稱LLO)技術(shù)進(jìn)行研發(fā)及技術(shù)儲(chǔ)備,針對(duì)GaN基Micro LED和垂直結(jié)構(gòu)LED晶圓藍(lán)寶石襯底的剝離,成功研發(fā)并推出全自動(dòng)LLO激光剝離設(shè)備。
2019-05-07 10:21:28
15466 LED襯底材料是半導(dǎo)體照明產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)材料,其決定了半導(dǎo)體照明技術(shù)的發(fā)展路線。目前,能作為L(zhǎng)ED襯底的材料包括Al2O3、SiC、Si、GaN、GaAs、Zno等,但商用最廣泛的是Al2O3、SiC
2019-07-30 15:14:03
4226 高功率激光器國(guó)產(chǎn)化加快 發(fā)展瓶頸亟待突破 高功率激光器具有體積小、重量輕、電光轉(zhuǎn)換效率高、性能穩(wěn)定、可靠性高和壽命長(zhǎng)等特點(diǎn)。目前低功率激光器和中功率激光器正在逐步實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)化,高功率激光器國(guó)產(chǎn)
2019-12-02 23:09:00
691 全球SiC的產(chǎn)業(yè)格局呈現(xiàn)美國(guó)、歐洲、日本三足鼎立的態(tài)勢(shì)。美國(guó)的科銳、德國(guó)的英飛凌、日本的羅姆這三家公司占據(jù)了全球SiC市場(chǎng)約70%的份額,其中科銳、羅姆實(shí)現(xiàn)了從SiC襯底、外延、設(shè)計(jì)、器件及模塊制造的全產(chǎn)業(yè)鏈布局。
2020-09-26 10:14:56
2775 全球新一輪動(dòng)力電池產(chǎn)能擴(kuò)充釋放巨大的鋰電材料、設(shè)備市場(chǎng)需求空間,國(guó)產(chǎn)鋰電設(shè)備迎來(lái)新的發(fā)展機(jī)遇和挑戰(zhàn)。 在銳科激光冠名的智能制造升級(jí)專場(chǎng),銳科激光副董事長(zhǎng)閆大鵬作了“國(guó)產(chǎn)光纖激光器的現(xiàn)狀及未來(lái)”的主題
2020-12-23 17:54:42
4071 同時(shí),伴隨著我國(guó)產(chǎn)業(yè)制造升級(jí),芯片和半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)把握住需求和供給的矛與盾,在外部環(huán)境和內(nèi)部大循環(huán)的推動(dòng)下,正在實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)化突破。
2021-01-19 15:30:14
4097 日本關(guān)西學(xué)院大學(xué)和豐田通商于3月1日宣布,他們已開發(fā)出“動(dòng)態(tài)AGE-ing”技術(shù),這是一種表面納米控制工藝技術(shù),可以消除使SiC襯底上的半導(dǎo)體性能變差的缺陷。
2021-03-06 10:20:08
3930 來(lái)探討一下碳化硅襯底的國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程。 ◆ 碳化硅襯底類型 碳化硅分為立方相(閃鋅礦結(jié)構(gòu))、六方相(纖鋅礦結(jié)構(gòu))和菱方相3大類共 260多種結(jié)構(gòu),目前只有六方相中的 4H-SiC、6H-SiC才有商業(yè)價(jià)值。另碳化硅根據(jù)電學(xué)性能的不同主要可分
2021-07-29 11:01:18
5164 而此次他們通過(guò)實(shí)驗(yàn)證明,該技術(shù)同樣適用于GaN-on-GaN HEMT器件制造,即在器件制造之后采用激光工藝進(jìn)行減薄,該技術(shù)可顯著降低 GaN 襯底的消耗。
2022-05-12 10:45:55
5781 雖然通過(guò)蝕刻的結(jié)構(gòu)化是通過(guò)(例如抗蝕劑)掩模對(duì)襯底的全表面涂層進(jìn)行部分腐蝕來(lái)完成的,但是在剝離過(guò)程中,材料僅沉積在不受抗蝕劑掩模保護(hù)的位置。本文章描述了獲得合適的抗蝕劑掩模的要求、涂層方面的問(wèn)題,以及最終去除其沉積材料的抗蝕劑掩模。
2022-05-12 15:42:44
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具有高k柵極電介質(zhì)的鍺和絕緣體上鍺(GeOI)MOSFET由于鍺比硅具有更好的載流子傳輸特性,最近受到了先進(jìn)技術(shù)節(jié)點(diǎn)的關(guān)注。對(duì)于Ge或GeOI CMOS,必須確定Ge專用的抗蝕劑剝離工藝,因?yàn)殒N
2022-05-25 16:43:16
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作為國(guó)內(nèi)首批自主研發(fā)并量產(chǎn)應(yīng)用SiC器件的公司,在SiC功率器件領(lǐng)域,比亞迪半導(dǎo)體于2020年取得重大技術(shù)突破,重磅推出首款1200V 840A/700A三相全橋SiC功率模塊,并已實(shí)現(xiàn)在新能源汽車高端車型電機(jī)驅(qū)動(dòng)控制器中的規(guī)模化應(yīng)用。
2022-06-21 14:40:57
2382 在圖案化的抗蝕劑上濺射或蒸發(fā)金屬,然后剝離金屬,傳統(tǒng)上用于在砷化鎵晶片處理中定義互連,在剝離工藝中,首先在襯底上沉積并圖案化諸如光致抗蝕劑的犧牲材料,然后將金屬沉積在頂部,隨后通過(guò)暴露于溶劑浸泡
2022-06-27 17:21:55
1602 構(gòu)認(rèn)為,化合物半導(dǎo)體近期在多個(gè)領(lǐng)域應(yīng)用獲得突破,如功率領(lǐng)域的 SiC 和 GaN、射頻領(lǐng)域的 GaN 和 GaAs、光子領(lǐng)域的 GaAs 和 InP,以及顯示領(lǐng)域的 LED 和 μLED 都形成了發(fā)展
2022-11-21 10:31:39
2027 
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/梁浩斌)“碳化硅行業(yè)得襯底者得天下”,襯底作為SiC產(chǎn)業(yè)鏈中成本占比最大的部分,自然是各家必爭(zhēng)之地。在下游需求帶動(dòng)下,SiC襯底正在從6英寸開始向8英寸推進(jìn),更大的襯底尺寸
2022-11-23 07:20:03
2710 使用物理氣相傳輸法(PVT)制備出直徑 209 mm 的 4H-SiC 單晶,并通過(guò)多線切割、研磨和拋光等一系列加工工藝制備出標(biāo)準(zhǔn) 8 英寸 SiC 單晶襯底。使用拉曼光譜儀、高分辨 X-射線衍射儀
2022-12-20 11:35:50
4028 使用 SiC 實(shí)現(xiàn)更快的 EV 充電
2022-12-29 10:02:50
1245 SiC器件的封裝襯底必須便于處理固態(tài)銅厚膜導(dǎo)電層,且具有高熱導(dǎo)率和低熱膨脹系數(shù),從而可以把大尺寸SiC芯片直接焊接到襯底上。SiN是一種極具吸引力的襯底,因?yàn)樗哂泻侠淼臒釋?dǎo)率(60W/m-K)和低熱膨脹系數(shù)(2.7ppm/℃),與SiC的熱膨脹系數(shù) (3.9ppm/℃)十分接近。
2023-02-16 14:05:57
4999 根據(jù)《2022碳化硅(SiC)產(chǎn)業(yè)調(diào)研白皮書》,目前全球已有超14家企業(yè)在8吋碳化硅襯底方面實(shí)現(xiàn)突破,而Wolfspeed已于去年實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)。謝明凱指出,在8吋方面,盛新材料與Wolfspeed的距離只有一年之遙。
2023-03-17 10:55:07
1951 解決方案的領(lǐng)先供應(yīng)商,今宣布首次獲得Ultra C SiC 碳化硅襯底清洗設(shè)備的采購(gòu)訂單。該平臺(tái)還可配置盛美上海自主研發(fā)的空間交變相位移(SAPS)清洗技術(shù),在不損傷器件的前提下實(shí)現(xiàn)更全面的清洗。該訂單來(lái)自中國(guó)領(lǐng)先的碳化硅襯底制造商,
2023-03-28 17:17:11
805 重磅突破:鳳凰動(dòng)力高速AGV舵輪,較傳統(tǒng)AGV舵輪5倍速度提升,意味著客戶提升5倍運(yùn)轉(zhuǎn)效率,明智之選鳳凰動(dòng)力真給力
2023-04-12 15:15:38
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以砂漿線切割為例,多達(dá)40%的碳化硅晶錠以粉塵的形式浪費(fèi)掉,而且切割線的高速行走過(guò)程還會(huì)造成20~50μm的粗糙起伏與表面/亞表面結(jié)構(gòu)損傷,據(jù)分析,碳化硅多線切割技術(shù)的總材料損耗量高達(dá)30%~50%。
2023-05-24 17:03:18
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研究機(jī)構(gòu)TECHCET日前預(yù)測(cè),盡管全球經(jīng)濟(jì)普遍放緩,但2023年SiC襯底市場(chǎng)將持續(xù)強(qiáng)勁增長(zhǎng)。
2023-06-08 10:12:34
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SiC薄膜生長(zhǎng)方法有多種,其中化學(xué)氣相沉積(chemical vapor deposition, CVD)法具有可以精確控制外延膜厚度和摻雜濃度、缺陷較少、生長(zhǎng)速度適中、過(guò)程可自動(dòng)控制等優(yōu)點(diǎn),是生長(zhǎng)用于制造器件的SiC 外延膜的最常用的方法。
2023-06-19 09:35:52
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度亙激光重磅發(fā)布通信級(jí)單模980nm半導(dǎo)體激光芯片與模塊產(chǎn)品
2022-11-23 10:29:16
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導(dǎo)電型襯底Wolfspeed一家獨(dú)大,絕緣型襯底天岳先進(jìn)入圍前三。2020年全球?qū)щ娦?b class="flag-6" style="color: red">SiC襯底依舊被Wolfspeed、II-VI、羅姆壟斷,CR3高達(dá)90%,其中Wolfspeed市占率高達(dá)62
2023-09-07 16:26:32
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SiC襯底,產(chǎn)業(yè)瓶頸亟待突破
2023-01-13 09:06:23
3 市場(chǎng)空間巨大,SiC國(guó)產(chǎn)化趨勢(shì)加速
2023-01-13 09:07:05
2 2023年國(guó)產(chǎn)SiC上車
2023-10-31 23:02:00
0 高功率超快激光器應(yīng)用于先進(jìn)制造、信息、微電子、醫(yī)療、能源、軍事等領(lǐng)域,相關(guān)科技應(yīng)用研究對(duì)推進(jìn)國(guó)家戰(zhàn)略發(fā)展至關(guān)重要。激光增益器件是高功率超快激光器的核心基礎(chǔ)材料,受到世界各國(guó)的高度關(guān)注。
2023-11-21 10:52:44
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通過(guò)有效控制AlN薄膜與Si襯底之間的界面反應(yīng),利用脈沖激光沉積(PLD)在Si襯底上生長(zhǎng)高質(zhì)量的AlN外延薄膜。英思特對(duì)PLD生長(zhǎng)的AlN/Si異質(zhì)界面的表面形貌、晶體質(zhì)量和界面性能進(jìn)行了系統(tǒng)研究。
2023-11-23 15:14:40
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在新能源產(chǎn)業(yè)強(qiáng)勁需求下,全球SiC產(chǎn)業(yè)步入高速成長(zhǎng)期,推升了對(duì)SiC襯底產(chǎn)能的需求。
2023-12-19 10:09:18
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海目星激光重磅推出高智能雙層寬幅高速涂布機(jī),具備更精密的工藝制程、更智能的生產(chǎn)過(guò)程、更高的生產(chǎn)效率,突破鋰電高端產(chǎn)能。
2024-01-18 10:36:29
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對(duì)于一線SiC廠商掀起“價(jià)格戰(zhàn)”、SiC襯底降價(jià)近三成等說(shuō)法,業(yè)內(nèi)持有不同觀點(diǎn)。
2024-02-23 11:14:58
1026 近年來(lái),隨著碳化硅(SiC)襯底需求的持續(xù)激增,降低SiC成本的呼聲日益強(qiáng)烈,最終產(chǎn)品價(jià)格仍然是消費(fèi)者的關(guān)鍵決定因素。SiC襯底的成本在整個(gè)成本結(jié)構(gòu)中占比最高,達(dá)到50%左右。
2024-03-08 14:24:32
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傳統(tǒng)的GaN異質(zhì)外延主要在藍(lán)寶石襯底、Si襯底或者SiC襯底,在剝離的過(guò)程中,如藍(lán)寶石就特別困難,會(huì)產(chǎn)生較大的材料損耗和額外成本,且剝離技術(shù)也有待進(jìn)一步提高。
2024-03-28 12:19:54
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4月11日,青禾晶元官方宣布,公司近日通過(guò)技術(shù)創(chuàng)新,在SiC鍵合襯底的研發(fā)上取得重要進(jìn)展,在國(guó)內(nèi)率先成功制備了8英寸SiC鍵合襯底。
2024-04-14 09:12:39
1976 據(jù)了解,世紀(jì)金芯近期在8英寸SiC襯底片領(lǐng)域取得重要突破,成功開發(fā)出可重復(fù)生長(zhǎng)出4H晶型、直徑大于200mm、厚度超過(guò)10mm的晶體的8寸SiC單晶生長(zhǎng)技術(shù)。
2024-04-23 09:43:42
2111 SiC晶圓片。該設(shè)備可以實(shí)現(xiàn)6寸和8寸SiC晶錠的全自動(dòng)分片,包含晶錠上料,晶錠研磨,激光切割,晶片分離和晶片收集的全自動(dòng)工藝流程,晶片拋光后的形貌可以達(dá)到LTV≤2μm,TTV≤5μm,BOW≤10μm,Warp≤20μm。 ? 圖:8英寸SiC晶錠激光全自動(dòng)剝離設(shè)備 通用半
2024-07-15 15:50:04
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合盛硅業(yè)旗下寧波合盛新材料有限公司近日傳來(lái)振奮人心的消息,其8英寸導(dǎo)電型4H-SiC(碳化硅)襯底項(xiàng)目已圓滿實(shí)現(xiàn)全線貫通,標(biāo)志著公司在第三代半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的研發(fā)與生產(chǎn)邁出了歷史性的一步,成功躋身行業(yè)頂尖行列。
2024-09-12 17:20:47
1622 近日,中國(guó)臺(tái)灣和遼寧省分別傳來(lái)好消息,兩家新的SiC(碳化硅)襯底工廠正式落成或正在積極推進(jìn)中,合計(jì)年產(chǎn)能將達(dá)到7.2萬(wàn)片。
在中國(guó)臺(tái)灣,SiC新玩家格棋化合物半導(dǎo)體于10月23日舉行
2024-10-25 11:20:28
1364 近期,碳化硅(SiC)領(lǐng)域迎來(lái)了多項(xiàng)合作突破,涉及國(guó)產(chǎn)SiC半橋模塊的量產(chǎn)上車、超充技術(shù)的實(shí)際應(yīng)用,以及激光切割技術(shù)和相關(guān)設(shè)備的采購(gòu)等。以下是具體詳情:
悉智科技SiC-DCM量產(chǎn),搭載
2024-11-06 11:47:02
2045 SiC內(nèi)卷和洗牌加速,目前國(guó)產(chǎn)SiC器件性能與國(guó)際大廠相比是否還有差距?車載SiC國(guó)產(chǎn)化何時(shí)才能實(shí)現(xiàn)?SiC產(chǎn)業(yè)未來(lái)的方向又在哪里? 2024年10月22日,由EEVIA主辦的第12屆中國(guó)硬科技產(chǎn)業(yè)
2024-11-14 14:23:13
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一、激光退火在碳化硅襯底加工中的作用與挑戰(zhàn)
激光退火是一種先進(jìn)的熱處理技術(shù),通過(guò)局部高溫作用,能夠修復(fù)碳化硅襯底中的晶格缺陷,提高晶體質(zhì)量,優(yōu)化摻雜元素的分布,從而改善材料的導(dǎo)電性能和表面結(jié)構(gòu)。然而
2024-12-24 09:50:49
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碳化硅(SiC)作為一種寬禁帶半導(dǎo)體材料,因其出色的物理和化學(xué)特性,如高硬度、高熔點(diǎn)、高熱導(dǎo)率和化學(xué)穩(wěn)定性,在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中得到了廣泛的應(yīng)用。SiC襯底是制造高性能SiC器件的關(guān)鍵材料,其生產(chǎn)過(guò)程復(fù)雜
2025-02-03 14:21:00
1981 中國(guó)碳化硅襯底材料從受制于人到實(shí)現(xiàn)自主突破的歷程,以及由此對(duì)國(guó)產(chǎn)碳化硅功率半導(dǎo)體企業(yè)的啟示,可以歸納為以下幾個(gè)關(guān)鍵點(diǎn):? 一、從壟斷到突破:中國(guó)碳化硅材料的逆襲之路 CREE(Wolfspeed
2025-03-05 07:27:05
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質(zhì)量亂象:未通過(guò)可靠性關(guān)鍵實(shí)驗(yàn)的國(guó)產(chǎn)SiC功率模塊應(yīng)用隱患與后果 國(guó)產(chǎn)SiC(碳化硅)功率模塊在APF(有源電力濾波器)和PCS(儲(chǔ)能變流器)等電力電子設(shè)備中的應(yīng)用趨勢(shì)日益顯著,主要受益于技術(shù)性
2025-04-02 18:24:49
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引言:政策東風(fēng)助力,國(guó)產(chǎn)化替代勢(shì)在必行? 隨著國(guó)家“國(guó)產(chǎn)化替代”戰(zhàn)略深入推進(jìn),關(guān)鍵領(lǐng)域信息技術(shù)自主可控已成為時(shí)代使命。廣東蝶云智控積極響應(yīng)政策號(hào)召,深耕國(guó)產(chǎn)化硬件研發(fā),重磅推出搭載 國(guó)產(chǎn)飛騰騰銳
2025-05-13 15:59:38
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SiC碳化硅MOSFET國(guó)產(chǎn)化替代浪潮:國(guó)產(chǎn)SiC碳化硅功率半導(dǎo)體企業(yè)引領(lǐng)全球市場(chǎng)格局重構(gòu) 1 國(guó)產(chǎn)SiC碳化硅功率半導(dǎo)體企業(yè)的崛起與技術(shù)突破 1.1 國(guó)產(chǎn)SiC碳化硅功率半導(dǎo)體企業(yè)從Fabless
2025-06-07 06:17:30
911 干涉儀在光刻圖形測(cè)量中的應(yīng)用。 ? 減少光刻膠剝離工藝對(duì)器件性能影響的方法 ? 優(yōu)化光刻膠材料選擇 ? 選擇與半導(dǎo)體襯底兼容性良好的光刻膠材料,可增強(qiáng)光刻膠與襯底的粘附力,減少剝離時(shí)對(duì)襯底的損傷風(fēng)險(xiǎn)。例如,針對(duì)特定的硅基襯
2025-06-14 09:42:56
736 
陶瓷的熱導(dǎo)率由之前的170W/m·K提升至當(dāng)前的230W/m·K,仍成為制約芯片出光功率突破的"絆腳石"。度亙核芯全流程自主研發(fā)生產(chǎn)的單晶SiC熱沉,為行業(yè)帶來(lái)了顛覆性的散熱解決方案
2025-08-01 17:05:17
1699 
摘要
本文針對(duì)激光干涉法在碳化硅襯底 TTV 厚度測(cè)量中存在的精度問(wèn)題,深入分析影響測(cè)量精度的因素,從設(shè)備優(yōu)化、環(huán)境控制、數(shù)據(jù)處理等多個(gè)維度提出精度提升策略,旨在為提高碳化硅襯底 TTV 測(cè)量準(zhǔn)確性
2025-08-12 13:20:16
778 
18 億元),主要用于擴(kuò)張 8 英寸及更大尺寸碳化硅(SiC)襯底產(chǎn)能,以滿足市場(chǎng)對(duì)高性能半導(dǎo)體材料日益增長(zhǎng)的需求。 ? 天岳先進(jìn)是國(guó)內(nèi)碳化硅襯底龍頭企業(yè),2023年其全球市占率排名第二,在國(guó)產(chǎn)廠商中位居首位。自2010年成立以來(lái),天岳先進(jìn)始終專注于碳化硅襯底的研
2025-08-13 17:04:22
805 本文通過(guò)對(duì)比國(guó)產(chǎn)與進(jìn)口碳化硅襯底 TTV 厚度測(cè)量?jī)x在性能、價(jià)格、維護(hù)成本等方面的差異,深入分析兩者的性價(jià)比,旨在為半導(dǎo)體制造企業(yè)及科研機(jī)構(gòu)選購(gòu)測(cè)量設(shè)備提供科學(xué)依據(jù),助力優(yōu)化資源配置。
引言
在
2025-08-15 11:55:31
707 
了國(guó)內(nèi)相關(guān)技術(shù)應(yīng)用的空白,更為第三代半導(dǎo)體關(guān)鍵制造裝備的國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程注入了強(qiáng)大動(dòng)力,同時(shí)也為全球碳化硅產(chǎn)業(yè)突破成本瓶頸、提升生產(chǎn)效率開辟了創(chuàng)新路徑。 此前,該激光剝離技術(shù)已在6英寸、8英寸碳化硅晶圓加工領(lǐng)域通過(guò)了多家行
2025-09-10 09:12:48
1432 SiC晶圓廠,也意味著8英寸襯底正式拉開量產(chǎn)大幕。 ? 那么8英寸襯底有哪些優(yōu)點(diǎn)以及技術(shù)難點(diǎn),目前國(guó)內(nèi)廠商的進(jìn)度又如何?近期包括天科合達(dá)、爍科晶體等廠商以及產(chǎn)業(yè)人士都分享了一些最新觀點(diǎn)。 ? 8 英寸碳化硅襯底的必要性 ? 正如硅基芯片所用到的
2023-06-22 00:16:00
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電子發(fā)燒友原創(chuàng) 章鷹 ? 2024年,國(guó)產(chǎn)SiC模塊上車加速。據(jù)電子發(fā)燒友不完全統(tǒng)計(jì),2023年公開的國(guó)產(chǎn)SiC車型合計(jì)142款,乘用車76款,僅僅在2023年新增加的SiC車型合計(jì)45款。業(yè)內(nèi)專家
2024-11-01 00:16:00
8061 
評(píng)論