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電子發(fā)燒友網(wǎng)>EDA/IC設(shè)計(jì)>國(guó)產(chǎn)光刻膠突圍,日企壟斷終松動(dòng)

國(guó)產(chǎn)光刻膠突圍,日企壟斷終松動(dòng)

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一文看懂:光刻膠的創(chuàng)新應(yīng)用與國(guó)產(chǎn)替代機(jī)會(huì)

,而光刻工藝又是精密電子元器件制造的關(guān)鍵流程,這使得光刻膠在整個(gè)電子元器件加工產(chǎn)業(yè),都有著至關(guān)重要的地位。 本文簡(jiǎn)要介紹幾種代表性光刻膠的成分和機(jī)理,重點(diǎn)是光刻膠的新技術(shù)應(yīng)用,以及國(guó)產(chǎn)化機(jī)會(huì)。 ? 光刻膠主要成分 ?
2022-04-25 17:35:2211352

微氣泡對(duì)光刻膠層的影響

關(guān)鍵詞:氧氣、微氣泡、光刻膠、高劑量離子注入、氣水界面 介紹? ??? 微氣泡是一種很有前途的環(huán)保光刻膠去除方法的候選方法。已經(jīng)證明,臭氧微氣泡可以去除硅片上的光刻劑,即使被高劑量的離子注入破壞
2022-01-10 11:37:131801

使用超臨界二氧化碳剝離碳化光刻膠的實(shí)驗(yàn)

關(guān)鍵詞:超臨界清洗,離子注入光刻膠,光刻膠剝離 摘要 本文提出了一種有效的、環(huán)保的干剝離方法,使用超臨界二氧化碳(SCCO2)系統(tǒng),在40℃到100℃和壓力從90巴到340巴時(shí)去除離子植入的光刻
2022-01-27 14:07:432937

A股半導(dǎo)體光刻膠企業(yè)營(yíng)收靚麗!打造光刻膠全產(chǎn)業(yè)鏈 博康欲成國(guó)產(chǎn)光刻膠的中流砥柱

光刻膠為何要謀求國(guó)產(chǎn)替代?中國(guó)國(guó)產(chǎn)光刻膠企業(yè)的市場(chǎng)發(fā)展機(jī)會(huì)和挑戰(zhàn)如何?光刻膠企業(yè)發(fā)展要具備哪些核心競(jìng)爭(zhēng)力?在南京半導(dǎo)體大會(huì)期間,徐州博康公司董事長(zhǎng)傅志偉和研發(fā)總監(jiān)潘新剛給我們帶來(lái)前沿觀點(diǎn)和獨(dú)家分析。
2022-08-29 15:02:237616

光刻膠的類(lèi)型及特性

光刻膠類(lèi)型及特性光刻膠(Photoresist),又稱(chēng)光致抗蝕劑,是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類(lèi)型和光刻膠特性。
2025-04-29 13:59:332128

國(guó)產(chǎn)高端光刻膠新進(jìn)展,KrF、ArF進(jìn)一步突破!

波長(zhǎng)不同,可分為g線(436nm)、i線(365nm)、KrF(248nm),ArF(193nm)以及EUV光刻膠,其中KrF、ArF和EUV光刻膠被認(rèn)為是高端光刻膠,目前國(guó)內(nèi)幾乎空白。 ? 日本壟斷全球光刻膠大部分市場(chǎng)份額,全球排名前四的光刻膠廠商都來(lái)自日本,包括合成橡膠
2021-07-03 07:47:0025917

華為投資光刻膠企業(yè) 光刻膠單體材料全部自供

,增幅11.11%。 ? 截圖自查查 ? 光刻膠是芯片制造中光刻環(huán)節(jié)的重要材料,目前主要被日美把控,國(guó)內(nèi)在光刻膠方面投入研制的廠商主要晶瑞股份、南大光電、上海新陽(yáng)、徐州博康、北京科華等,那么華為投資的徐州博康在光刻膠方面有何優(yōu)勢(shì),國(guó)內(nèi)廠商在光
2021-08-12 07:49:006335

半導(dǎo)體光刻膠企業(yè)營(yíng)收靚麗!打造光刻膠全產(chǎn)業(yè)鏈 博康欲成國(guó)產(chǎn)光刻膠的中流砥柱

領(lǐng)域進(jìn)行激烈競(jìng)爭(zhēng)的時(shí)候,中國(guó)國(guó)產(chǎn)光刻膠企業(yè)在國(guó)內(nèi)晶圓廠布局的成熟制程領(lǐng)域,展開(kāi)了新產(chǎn)品上市和量產(chǎn)的爭(zhēng)奪戰(zhàn)。 ? 南大光電最新消息顯示,國(guó)產(chǎn)193nm(ArF)光刻膠研發(fā)成功,這家公司成為通過(guò)國(guó)家“02專(zhuān)項(xiàng)”驗(yàn)收的ArF光刻膠項(xiàng)目實(shí)施主體;徐州博康宣布,該
2022-08-31 07:45:003566

光刻工藝步驟

一、光刻膠的選擇光刻膠包括兩種基本的類(lèi)型:正性光刻和負(fù)性光刻,區(qū)別如下
2021-01-12 10:17:47

光刻膠

SU-8光刻膠 SU-8光刻膠克服了普通光刻膠采用UV光刻深寬比不足的問(wèn)題,在近紫外光(365nm-400nm)范圍內(nèi)光吸收度很低,且整個(gè)光刻膠層所獲得的曝光量均勻一致,可得到具有垂直側(cè)壁和高深寬比
2018-07-12 11:57:08

光刻膠在集成電路制造中的應(yīng)用

(電子科技大學(xué) 微電子與固體電子學(xué)院,成都 610054)摘 要:光刻膠技術(shù)是曝光技術(shù)中重要的組成部分,高性能的曝光工具需要有與之相配套的高性能的光刻膠才能真正獲得高分辨率的加工能力。主要圍繞光刻膠
2018-08-23 11:56:31

光刻膠有什么分類(lèi)?生產(chǎn)流程是什么?

光刻膠也稱(chēng)為光致抗蝕劑,是一種光敏材料,它受到光照后特性會(huì)發(fā)生改變。光刻膠主要用來(lái)將光刻掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上。光刻膠有正和負(fù)之分。正經(jīng)過(guò)曝光后,受到光照的部分變得容易溶解,經(jīng)過(guò)顯影后被
2019-11-07 09:00:18

光刻膠殘留要怎么解決?

這是我的版圖一部分,然后生成了圖案是這樣的: 感覺(jué)間距小的地方全都有殘留,間距大的地方?jīng)]有殘留;工藝參數(shù):s9920光刻膠, evg 620‘未進(jìn)行蒸汽底漆層涂覆,前烘:100攝氏度,90s
2016-11-29 14:59:18

Futurrex高端光刻膠

Futurrex,成立于1985年,位總部設(shè)在美國(guó)新澤西州,富蘭克林市。 公司業(yè)務(wù)范圍覆蓋北美、亞太以及歐洲。Futurrex在開(kāi)發(fā)最高端產(chǎn)品方面已經(jīng)有很長(zhǎng)的歷史,尤其是其光刻膠
2010-04-21 10:57:46

Microchem SU-8光刻膠 2000系列

SU 8光刻膠系列產(chǎn)品簡(jiǎn)介:新型的化學(xué)增幅型負(fù)像 SU- 8 是一種負(fù)性、環(huán)氧樹(shù)脂型、近紫外線光刻膠,克服了普通光刻膠采用 UV光刻導(dǎo)致的深寬比不足的問(wèn)題,十分適合于制備高深寬比微結(jié)構(gòu)。SU- 8
2018-07-04 14:42:34

《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》光刻前 GaAs 表面處理以改善濕化學(xué)蝕刻過(guò)程中的光刻膠附著力和改善濕蝕刻輪廓

書(shū)籍:《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章:光刻前 GaAs 表面處理以改善濕化學(xué)蝕刻過(guò)程中的光刻膠附著力和改善濕蝕刻輪廓[/td][td]編號(hào):JFSJ-21-0作者:炬豐科技網(wǎng)址:http
2021-07-06 09:39:22

機(jī)有什么典型應(yīng)用 ?

機(jī)是現(xiàn)代光電子產(chǎn)業(yè)中光刻膠涂布的重要設(shè)備??蓪?duì)不同尺寸和形狀的基片進(jìn)行涂膠,最大涂膠尺寸達(dá)8寸,得到厚度均勻的光刻膠層,同時(shí)可對(duì)大深寬比結(jié)構(gòu)的側(cè)壁進(jìn)行均勻涂膠;通過(guò)計(jì)算機(jī)系統(tǒng)控制器進(jìn)行工藝參數(shù)的編輯和操作。
2020-03-23 09:00:57

負(fù)光刻膠顯影殘留原因

151n光刻膠曝光顯影后開(kāi)口底部都會(huì)有一撮殘留,找不到原因。各位幫分析下
2023-04-20 13:13:52

【科普轉(zhuǎn)載】光刻工作原理簡(jiǎn)介03(光刻膠)#硬聲創(chuàng)作季

光刻光刻膠
電子知識(shí)科普發(fā)布于 2022-10-27 17:14:48

光刻膠光刻工藝技術(shù)

光刻膠光刻工藝技術(shù) 微電路的制造需要把在數(shù)量上精確控制的雜質(zhì)引入到硅襯底上的微小 區(qū)域內(nèi),然后把這些區(qū)域連起來(lái)以形成器件和VLSI電路.確定這些區(qū)域圖形 的工藝是由光刻來(lái)完成的,也就是說(shuō),首先在硅片上旋轉(zhuǎn)涂覆光刻膠,再將 其曝露于某種光源下,如紫外光,
2011-03-09 16:43:210

光刻膠是芯片制造的關(guān)鍵材料,圣泉集團(tuán)實(shí)現(xiàn)了

這是一種老式的旋轉(zhuǎn)涂膠機(jī),將芯片上涂上光刻膠然后將芯片放到上邊,可以通過(guò)機(jī)器的旋轉(zhuǎn)的力度將光刻膠均勻分布到芯片表面,光刻膠只有均勻涂抹在芯片表面,才能保證光刻的成功。
2018-05-17 14:39:3719496

光刻膠國(guó)產(chǎn)化項(xiàng)目落地咸陽(yáng),未來(lái)可期!

默克與中電彩虹的創(chuàng)新合作項(xiàng)目光刻膠國(guó)產(chǎn)化項(xiàng)目于 7 月 17 在陜西咸陽(yáng)正式竣工。
2018-07-19 09:09:387641

探討PCB光刻膠專(zhuān)用化學(xué)品行業(yè)基本概況

干膜光刻膠是由預(yù)先配制好的液態(tài)光刻膠(Photoresist)在精密的涂布機(jī)上和高清潔度的條件下均勻涂布在載體聚酯薄膜(PET膜)上,經(jīng)烘干、冷卻后,再覆上聚乙烯薄膜(PE膜),收卷而成卷狀的薄膜型光刻膠
2019-01-30 16:49:1411550

半導(dǎo)體光刻膠:多家廠商實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)替代

在國(guó)家政策與市場(chǎng)的雙重驅(qū)動(dòng)下,近年來(lái),國(guó)內(nèi)企業(yè)逐步向面板、半導(dǎo)體光刻膠發(fā)力……
2019-04-23 16:15:3613599

上海新陽(yáng)再次轉(zhuǎn)換戰(zhàn)場(chǎng) 選擇研發(fā)3D NAND用的KrF 光刻膠

2018年,南大光電和上海新陽(yáng)先后宣布,投入ArF光刻膠產(chǎn)品的開(kāi)發(fā)與產(chǎn)業(yè)化,立志打破集成電路制造最為關(guān)鍵的基礎(chǔ)材料之一——高檔光刻膠材料幾乎完全依賴于進(jìn)口的局面,填補(bǔ)國(guó)內(nèi)高端光刻膠材料產(chǎn)品的空白。
2019-05-21 09:24:247590

南大光電擬投建光刻膠材料配套項(xiàng)目 將具有重大戰(zhàn)略意義

光刻膠概念股南大光電10月23公告,擬投資新建光刻膠材料以及配套原材料項(xiàng)目。
2019-10-24 16:47:213509

欣奕華科技在平板顯示用負(fù)性光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)量產(chǎn) 預(yù)計(jì)今年將有1000噸的光刻膠交付用戶

液晶顯示器之所以能顯現(xiàn)出色彩斑斕的畫(huà)面,奧秘就在于液晶面板中的一層2微米厚的彩色薄膜,彩色薄膜顏色的產(chǎn)生就由光刻膠來(lái)完成,由于配方難調(diào),“光刻膠”成為業(yè)界亟待突破的關(guān)鍵技術(shù)之一。10月22,記者從
2019-10-28 16:38:494267

南大光電將建成光刻膠生產(chǎn)線,明年或光刻機(jī)進(jìn)場(chǎng)

今年7月17,南大光電在互動(dòng)平臺(tái)透露,公司設(shè)立光刻膠事業(yè)部,并成立了全資子公司“寧波南大光電材料有限公司”,全力推進(jìn)“ArF光刻膠開(kāi)發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目”落地實(shí)施。目前該項(xiàng)目完成的研發(fā)技術(shù)正在等待驗(yàn)收中,預(yù)計(jì)2019年底建成一條光刻膠生產(chǎn)線,項(xiàng)目產(chǎn)業(yè)化基地建設(shè)順利。
2019-12-16 13:58:527800

光刻膠國(guó)產(chǎn)化刻不容緩

隨著電子信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展的突飛猛進(jìn),光刻膠市場(chǎng)總需求不斷提升。2019年全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模預(yù)計(jì)接近90億美元,自2010年至今CAGR約5.4%,預(yù)計(jì)未來(lái)3年仍以年均5%的速度增長(zhǎng),預(yù)計(jì)至2022年全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模將超過(guò)100億美元。
2020-03-01 19:02:484548

南大光電高黏附性的ArF光刻膠樹(shù)脂專(zhuān)利揭秘

在國(guó)際半導(dǎo)體領(lǐng)域,我國(guó)雖已成為半導(dǎo)體生產(chǎn)大國(guó),但整個(gè)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈仍比較落后。特別是由于國(guó)內(nèi)光刻膠廠布局較晚,半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)相較于海外先進(jìn)技術(shù)差距較大,國(guó)產(chǎn)化不足5%。在這種條件下,國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體廠商積極開(kāi)展研究,如晶瑞股份的KrF光刻膠,南大光電的ArF光刻膠均取得較好的研究效果。
2020-03-06 15:40:564726

LCD光刻膠需求快速增長(zhǎng),政策及國(guó)產(chǎn)化風(fēng)向帶動(dòng)國(guó)產(chǎn)廠商發(fā)展

光刻膠按應(yīng)用領(lǐng)域分類(lèi),大致分為L(zhǎng)CD光刻膠、PCB光刻膠(感光油墨)與半導(dǎo)體光刻膠等。按照下游應(yīng)用來(lái)看,目前LCD光刻膠占比26.6%,刻占比24.5%,半導(dǎo)體光刻膠占比24.1%,PCB光其他類(lèi)光刻膠占比24.8%。
2020-06-12 17:13:395931

一文帶你看懂光刻膠

來(lái)源:浙商證券研究院 光刻膠又稱(chēng)光致抗蝕劑,是一種對(duì)光敏感的混合液體。其組成部分包括:光引發(fā)劑(包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑)、光刻膠樹(shù)脂、單體、溶劑和其他助劑。光刻膠可以通過(guò)光化學(xué)反應(yīng),經(jīng)曝光、顯影等
2020-09-15 14:00:1419340

2020年光刻膠行業(yè)情況解析

全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模從2016 年的15 億美元增長(zhǎng)至2019年的18億美元,年復(fù)合增長(zhǎng)率達(dá)6.3%;應(yīng)用方面,光刻膠主要應(yīng)用在PCB、半導(dǎo)體及LCD顯示等領(lǐng)域,各占約25%市場(chǎng)份額。
2020-09-21 11:28:043891

雅克科技投入12億到光刻膠研發(fā)當(dāng)中

小編說(shuō):光刻膠是半導(dǎo)體、LCD、PCB等產(chǎn)業(yè)重要原料之一,且在未來(lái)技術(shù)升級(jí)過(guò)程中扮演重要角色,可以說(shuō)是驅(qū)動(dòng)產(chǎn)品更新?lián)Q代、性能提升的核心關(guān)鍵材料。 9月14晚間,雅克科技發(fā)表公告稱(chēng),公司將以非公
2020-09-24 10:32:015674

新材料在線:2020年光刻膠行業(yè)研究報(bào)告

全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模從2016 年的15 億美元增長(zhǎng)至2019年的18億美元,年復(fù)合增長(zhǎng)率達(dá)6.3%;應(yīng)用方面,光刻膠主要應(yīng)用在PCB、半導(dǎo)體及LCD顯示等領(lǐng)域,各占約25%市場(chǎng)份額。 國(guó)內(nèi)光刻膠整體
2020-10-10 17:40:253307

博聞廣見(jiàn)之半導(dǎo)體行業(yè)中的光刻膠

光刻膠是由感光樹(shù)脂、增感劑和溶劑三種主要成份組成的、對(duì)光敏感的混合液體。利用光化學(xué)反應(yīng),經(jīng)曝光、顯影、刻蝕等工藝將所需要的微細(xì)圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到待加工基片上的圖形轉(zhuǎn)移介質(zhì),其中曝光是通過(guò)紫外光
2022-12-06 14:53:541757

集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項(xiàng)目存6大難點(diǎn)

對(duì)公司光刻膠業(yè)務(wù)的具體影響等問(wèn)題。 10月12,晶瑞股份發(fā)布關(guān)于深圳證券交易所關(guān)注函的回復(fù)公告稱(chēng),本次擬購(gòu)買(mǎi)的光刻機(jī)設(shè)備將用于公司集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項(xiàng)目,將有助于公司將光刻膠產(chǎn)品序列實(shí)現(xiàn)到ArF光刻膠的跨越,并最終實(shí)
2020-10-21 10:32:104694

日本信越化學(xué)將斥資300億提高光刻膠產(chǎn)能

據(jù)日經(jīng)報(bào)道,日本信越化學(xué)將斥資300億元(約2.85億美元),把光刻膠的產(chǎn)能提高20%,以擴(kuò)充對(duì)半導(dǎo)體關(guān)鍵材料的供應(yīng)。 根據(jù)報(bào)道,信越化學(xué)將會(huì)在日本和中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)興建工廠,位于中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)云林工廠
2020-10-22 17:25:324353

為打破光刻膠壟斷,我國(guó)冰刻2.0技術(shù)獲突破

光刻膠是微納加工過(guò)程中非常關(guān)鍵的材料。有專(zhuān)家表示,中國(guó)要制造芯片,光有光刻機(jī)還不夠,還得打破國(guó)外對(duì)“光刻膠”的壟斷。
2020-12-08 10:53:564597

南大光電自主研發(fā)的 ArF(193nm)光刻膠成功通過(guò)認(rèn)證

今日南大光電發(fā)布公告稱(chēng),其控股子公司 “寧波南大光電”自主研發(fā)的 ArF(193nm)光刻膠產(chǎn)品近日成功通過(guò)客戶的使用認(rèn)證。報(bào)告顯示,“本次認(rèn)證選擇客戶 50nm 閃存產(chǎn)品中的控制柵進(jìn)行驗(yàn)證,寧波南
2020-12-18 09:29:425188

中國(guó)終于打破日本在光刻膠壟斷地位

昨夜晚間,寧波南大光電發(fā)表公告稱(chēng),公司自主研發(fā)的 ArF 光刻膠產(chǎn)品 近日成功通過(guò)客戶的使用認(rèn)證。
2020-12-18 09:52:103668

南大光電首款國(guó)產(chǎn)ArF光刻膠通過(guò)認(rèn)證 可用于45nm工藝光刻需求

,“ArF 光刻膠產(chǎn)品開(kāi)發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”是寧波南大光電承接國(guó)家“02 專(zhuān)項(xiàng)”的一個(gè)重點(diǎn)攻關(guān)項(xiàng)目。本次產(chǎn)品的認(rèn)證通過(guò),標(biāo)志著“ArF 光刻膠產(chǎn)品開(kāi)發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”項(xiàng)目取得了關(guān)鍵性的突破,成為國(guó)內(nèi)通過(guò)產(chǎn)品驗(yàn)證的第一只國(guó)產(chǎn) ArF 光刻膠。? 此舉意味著國(guó)產(chǎn)193nm ArF 光刻膠產(chǎn)
2020-12-25 18:24:097195

光刻膠的價(jià)值與介紹及市場(chǎng)格局對(duì)國(guó)產(chǎn)光刻膠的發(fā)展趨勢(shì)

近期,專(zhuān)注于電子材料市場(chǎng)研究的TECHCET發(fā)布最新統(tǒng)計(jì)和預(yù)測(cè)數(shù)據(jù):2021年,半導(dǎo)體制造所需的光刻膠市場(chǎng)規(guī)模將同比增長(zhǎng)11%,達(dá)到19億美元。
2021-03-22 10:51:125718

光刻膠國(guó)產(chǎn)化的道路上有哪6道坎?

材料是半導(dǎo)體大廈的地基,不過(guò),目前中國(guó)的這一地基對(duì)國(guó)外依存度還很高。 2019年,日韓發(fā)生沖突,日本封鎖了三種關(guān)鍵的半導(dǎo)體材料,分別是氟化氫、聚酰亞胺和光刻膠。這三種材料韓國(guó),中國(guó)都可以制造,但
2021-05-11 13:46:383441

2021年,半導(dǎo)體制造所需的光刻膠市場(chǎng)規(guī)模將同比增長(zhǎng)11%

按照應(yīng)用領(lǐng)域分類(lèi),光刻膠主要包括印制電路板(PCB)光刻膠專(zhuān)用化學(xué)品(光引發(fā)劑和樹(shù)脂)、液晶顯示器(LCD)光刻膠光引發(fā)劑、半導(dǎo)體光刻膠光引發(fā)劑和其他用途光刻膠四大類(lèi)。本文主要討論半導(dǎo)體光刻膠
2021-05-17 14:15:524523

光刻膠又遇“卡脖子”,國(guó)產(chǎn)替代刻不容緩

由于KrF光刻膠產(chǎn)能受限以及全球晶圓廠積極擴(kuò)產(chǎn)等,占據(jù)全球光刻膠市場(chǎng)份額超兩成的日本供應(yīng)商信越化學(xué)已經(jīng)向中國(guó)大陸多家一線晶圓廠限制供貨KrF光刻膠,且已通知更小規(guī)模晶圓廠停止供貨KrF光刻膠。 信越
2021-06-25 16:12:281099

光刻膠板塊的大漲吸引了產(chǎn)業(yè)注意 ,國(guó)產(chǎn)光刻膠再遇發(fā)展良機(jī)?

5月27,半導(dǎo)體光刻膠概念股開(kāi)盤(pán)即走強(qiáng),截至收盤(pán),A股光刻膠板塊漲幅達(dá)6.48%。其中晶瑞股份、廣信材料直線拉升大漲20%封漲停,容大感光大漲13.28%,揚(yáng)帆新材大漲11.37%,南大光電
2021-05-28 10:34:153470

光刻膠光刻機(jī)的關(guān)系

光刻膠光刻機(jī)研發(fā)的重要材料,換句話說(shuō)光刻機(jī)就是利用特殊光線將集成電路映射到硅片的表面,如果想要硅片的表面不留下痕跡,就需要網(wǎng)硅片上涂一層光刻膠。
2022-02-05 16:11:0014630

改善去除負(fù)光刻膠效果的方法報(bào)告

摘要 我們?nèi)A林科納提出了一種新型的雙層光阻劑方法來(lái)減少負(fù)光阻劑浮渣。選擇正光刻膠作為底層抗蝕劑,選擇負(fù)光刻膠作為頂層抗蝕。研究了底層抗蝕劑的粘度和厚度對(duì)浮渣平均數(shù)量的影響。實(shí)驗(yàn)表明,低粘度正光刻膠
2022-01-26 11:43:22999

晶片光刻膠處理系統(tǒng)的詳細(xì)介紹

摘要 在這項(xiàng)工作中,研究了新一代相流體剝離溶液在各種半導(dǎo)體光刻膠中的應(yīng)用。這些實(shí)驗(yàn)中使用的獨(dú)特的水基智能流體配方均為超大規(guī)模集成電路級(jí),與銅兼容且無(wú)毒。實(shí)驗(yàn)的第一階段是確定是否在合理的時(shí)間內(nèi)與光刻膠
2022-03-03 14:20:05703

晶片清洗、阻擋層形成和光刻膠應(yīng)用

什么是光刻?光刻是將掩模上的幾何形狀轉(zhuǎn)移到硅片表面的過(guò)程。光刻工藝中涉及的步驟是晶圓清洗;阻擋層的形成;光刻膠應(yīng)用;軟烤;掩模對(duì)準(zhǔn);曝光和顯影;和硬烤。
2022-03-15 11:38:021347

采用雙層抗蝕劑法去除負(fù)光刻膠

本文提出了一種新型的雙層光阻劑方法來(lái)減少負(fù)光阻劑浮渣。選擇正光刻膠作為底層抗蝕劑,選擇負(fù)光刻膠作為頂層抗蝕。研究了底層抗蝕劑的粘度和厚度對(duì)浮渣平均數(shù)量的影響。實(shí)驗(yàn)表明,低粘度正光刻膠AZ703
2022-03-24 16:04:231173

一種半導(dǎo)體制造用光刻膠去除方法

本發(fā)明涉及一種去除光刻膠的方法,更詳細(xì)地說(shuō),是一種半導(dǎo)體制造用光刻膠去除方法,該方法適合于在半導(dǎo)體裝置的制造過(guò)程中進(jìn)行吹掃以去除光刻膠。在半導(dǎo)體裝置的制造工藝中,將殘留在晶片上的光刻膠,在H2O
2022-04-13 13:56:421292

干法刻蝕去除光刻膠的技術(shù)

灰化,簡(jiǎn)單的理解就是用氧氣把光刻膠燃燒掉,光刻膠的基本成分是碳?xì)溆袡C(jī)物,在射頻或微波作用下,氧氣電離成氧原子并與光刻膠發(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成一氧化碳,二氧化碳和水等,再通過(guò)泵被真空抽走,完成光刻膠的去除。
2022-07-21 11:20:177818

光刻膠az1500產(chǎn)品說(shuō)明

光刻膠產(chǎn)品說(shuō)明英文版資料分享。
2022-08-12 16:17:2511

光刻膠為何要謀求國(guó)產(chǎn)替代

南大光電最新消息顯示,國(guó)產(chǎn)193nm(ArF)光刻膠研發(fā)成功,這家公司成為通過(guò)國(guó)家“02專(zhuān)項(xiàng)”驗(yàn)收的ArF光刻膠項(xiàng)目實(shí)施主體;徐州博康宣布,該公司已開(kāi)發(fā)出數(shù)十種高端光刻膠產(chǎn)品系列,包括
2022-08-31 09:47:141844

光刻膠的原理和正負(fù)光刻膠的主要組分是什么

光刻膠的組成:樹(shù)脂(resin/polymer),光刻膠中不同材料的粘合劑,給與光刻膠的機(jī)械與化學(xué)性質(zhì)(如粘附性、膠膜厚度、熱穩(wěn)定性等);感光劑,感光劑對(duì)光能發(fā)生光化學(xué)反應(yīng);溶劑(Solvent
2022-10-21 16:40:0422394

國(guó)產(chǎn)光刻膠市場(chǎng)前景 國(guó)內(nèi)廠商迎來(lái)發(fā)展良機(jī)

10%-15%,對(duì)應(yīng)的 PAG 用量為一般按樹(shù)脂重量的 6%-8%添加,最 PAG 的成本占光刻膠總成本的 10%-20%。從單價(jià)看,KrF 光刻膠用 PAG 的價(jià)格在 0.5-1.5萬(wàn)元/kg
2022-11-18 10:07:434204

半導(dǎo)體光刻膠重要性凸出,國(guó)產(chǎn)替代加速推進(jìn)

光刻膠是IC制造的核心耗材,技術(shù)壁壘極高。根據(jù)TECHCET數(shù)據(jù),預(yù)計(jì)2022年全球半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)規(guī)模達(dá)到23億美元,同比增長(zhǎng)7.5%,2025年超過(guò)25億美元。
2023-03-21 14:00:492739

高端光刻膠通過(guò)認(rèn)證 已經(jīng)用于50nm工藝

此前該公司指出,公司已建成年產(chǎn)5噸ArF干式光刻膠生產(chǎn)線、年產(chǎn)20噸ArF浸沒(méi)式光刻膠生產(chǎn)線及年產(chǎn)45噸的光刻膠配套高純?cè)噭┥a(chǎn)線,具備ArF光刻膠及配套關(guān)鍵組分材料的生產(chǎn)能力,目前公司送樣驗(yàn)證的產(chǎn)品均由該自建產(chǎn)線產(chǎn)出。
2023-04-11 09:25:321440

淺談EUV光刻中的光刻膠和掩模等材料挑戰(zhàn)

新的High NA EUV 光刻膠不能在封閉的研究環(huán)境中開(kāi)發(fā),必須通過(guò)精心設(shè)計(jì)的底層、新型硬掩模和高選擇性蝕刻工藝進(jìn)行優(yōu)化以獲得最佳性能。為了迎接這一挑戰(zhàn),imec 最近開(kāi)發(fā)了一個(gè)新的工具箱來(lái)匹配光刻膠和底層的屬性。
2023-04-13 11:52:122326

半導(dǎo)體關(guān)鍵材料光刻膠市場(chǎng)格局發(fā)展現(xiàn)狀

生產(chǎn)光刻膠的原料包括光引發(fā)劑(光增感劑、光致產(chǎn)酸劑幫助其更好發(fā)揮作用)、樹(shù)脂、溶劑和其他添加劑等,我國(guó)由于資金和技術(shù)的差距,如感光劑、樹(shù)脂等被外企壟斷,所以光刻膠自給能力不足。
2023-11-01 15:51:48671

光刻膠黏度如何測(cè)量?光刻膠需要稀釋嗎?

光刻膠在未曝光之前是一種黏性流體,不同種類(lèi)的光刻膠具有不同的黏度。黏度是光刻膠的一項(xiàng)重要指標(biāo)。那么光刻膠的黏度為什么重要?黏度用什么表征?哪些光刻膠算高黏度,哪些算低黏度呢?
2023-11-13 18:14:112250

西隴科學(xué)9天8板,回應(yīng)稱(chēng)“未生產(chǎn)、銷(xiāo)售光刻膠

 20,西隴科學(xué)(株)發(fā)布公告稱(chēng),該公司沒(méi)有生產(chǎn)銷(xiāo)售礦產(chǎn)品。公司生產(chǎn)及銷(xiāo)售用于清洗劑、顯影液、剝離液等的光刻膠,占公司營(yíng)業(yè)收入的比例,是目前用于上述用途的光刻膠配套。
2023-11-21 14:54:57961

不僅需要***,更需要光刻膠

為了生產(chǎn)高純度、高質(zhì)量的光刻膠,需要高純度的配方原料,例如光刻樹(shù)脂,溶劑PGMEA…此外,生產(chǎn)過(guò)程中的反應(yīng)釜鍍膜和金屬析出污染監(jiān)測(cè)也是至關(guān)重要的控制環(huán)節(jié)。例如,2019年,某家半導(dǎo)體制造公司由于光刻膠受到光阻原料的污染,導(dǎo)致上萬(wàn)片12吋晶圓報(bào)廢
2023-11-27 17:15:481375

光刻膠國(guó)內(nèi)市場(chǎng)及國(guó)產(chǎn)化率詳解

KrF光刻膠是指利用248nm KrF光源進(jìn)行光刻光刻膠。248nmKrF光刻技術(shù)已廣 泛應(yīng)用于0.13μm工藝的生產(chǎn)中,主要應(yīng)用于150 , 200和300mm的硅晶圓生產(chǎn)中。
2023-11-29 10:28:501040

光刻膠價(jià)格上漲,韓國(guó)半導(dǎo)體公司壓力增大

光刻膠類(lèi)別的多樣化,此次漲價(jià)案所涉KrF光刻膠屬于高階防護(hù)用品,也是未來(lái)各地廠家的競(jìng)爭(zhēng)焦點(diǎn)。當(dāng)前市場(chǎng)中,光刻膠主要由東京大賀工業(yè)、杜邦、JSR、信越化學(xué)、住友化學(xué)及東進(jìn)半導(dǎo)體等大型制造商掌控。
2023-12-14 15:20:361776

速度影響光刻膠的哪些性質(zhì)?

光刻中比較重要的一步,而旋涂速度是勻中至關(guān)重要的參數(shù),那么我們?cè)趧?b class="flag-6" style="color: red">膠時(shí),是如何確定勻速度呢?它影響光刻膠的哪些性質(zhì)?
2023-12-15 09:35:562937

全球光刻膠市場(chǎng)預(yù)計(jì)收入下滑,2024年有望反彈

所謂的“光刻膠”,即是在紫外線、電子束等輻射下,其溶解度會(huì)產(chǎn)生變化的耐腐蝕薄膜材料。作為光刻工藝中的關(guān)鍵要素,廣泛應(yīng)用于晶圓和分立器件的精細(xì)圖案制作中。其品種繁多,此次漲價(jià)涉及的KrF 光刻膠則屬高級(jí)別光刻膠,將成為各廠商關(guān)注的焦點(diǎn)。
2023-12-28 11:14:341322

光刻膠分類(lèi)與市場(chǎng)結(jié)構(gòu)

光刻膠主要下游應(yīng)用包括:顯示屏制造、印刷電路板生產(chǎn)、半導(dǎo)體制造等,其中顯示屏是光刻膠最大的下游應(yīng)用,占比30%。光刻膠在半導(dǎo)體制造應(yīng)用占比24%,是第三達(dá)應(yīng)用場(chǎng)景。
2024-01-03 18:12:212062

瑞紅集成電路高端光刻膠總部落戶吳中

據(jù)吳中發(fā)布的最新消息,簽約項(xiàng)目涵蓋了瑞紅集成電路高端光刻膠總部項(xiàng)目,該項(xiàng)投資高達(dá)15億元,旨在新建半導(dǎo)體光刻膠及其配套試劑的生產(chǎn)基地。
2024-01-26 09:18:43838

如何在芯片中減少光刻膠的使用量

光刻膠不能太厚或太薄,需要按制程需求來(lái)定。比如對(duì)于需要長(zhǎng)時(shí)間蝕刻以形成深孔的應(yīng)用場(chǎng)景,較厚的光刻膠層能提供更長(zhǎng)的耐蝕刻時(shí)間。
2024-03-04 10:49:161263

光刻膠光刻機(jī)的區(qū)別

光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料,可以通過(guò)光刻機(jī)上的模板或掩模來(lái)進(jìn)行曝光。
2024-03-04 17:19:186384

關(guān)于光刻膠的關(guān)鍵參數(shù)介紹

與正光刻膠相比,電子束負(fù)光刻膠會(huì)形成相反的圖案?;诰酆衔锏呢?fù)型光刻膠會(huì)在聚合物鏈之間產(chǎn)生鍵或交聯(lián)。未曝光的光刻膠在顯影過(guò)程中溶解,而曝光的光刻膠則保留下來(lái),從而形成負(fù)像。
2024-03-20 11:36:503727

SU-8光刻膠起源、曝光、特性

在紫外光照射下,三芳基碘鹽光敏劑被激活,釋放活性碘離子。這些活性碘離子與SU-8光刻膠中的丙烯酸酯單體反應(yīng),引發(fā)單體之間的交聯(lián)反應(yīng),導(dǎo)致SU-8光刻膠在曝光區(qū)域形成凝膠化的圖案。
2024-03-31 16:25:206234

一文讀懂半導(dǎo)體工藝制程的光刻膠

光刻膠按照種類(lèi)可以分為正性的、負(fù)性的。正受到紫外光照射的部分在顯影時(shí)被去除,負(fù)受到紫外光曝光的地方在顯影后被留下。
2024-04-24 11:37:054194

一份PPT帶你看懂光刻膠分類(lèi)、工藝、成分以及光刻膠市場(chǎng)和痛點(diǎn)

共讀好書(shū) 前烘對(duì)正顯影的影響 前烘對(duì)負(fù)顯影的影響 需要這個(gè)原報(bào)告的朋友可轉(zhuǎn)發(fā)這篇文章獲取百份資料,內(nèi)含光刻膠多份精品報(bào)告【贈(zèng)2024電子資料百份】6 月 28-30 北京“電子化學(xué)品行業(yè)分析檢測(cè)與安全管理培訓(xùn)班”。 審核編輯 黃宇
2024-06-23 08:38:021199

光刻膠的保存和老化失效

我們?cè)谑褂?b class="flag-6" style="color: red">光刻膠的時(shí)候往往關(guān)注的重點(diǎn)是光刻膠的性能,但是有時(shí)候我們會(huì)忽略光刻膠的保存和壽命問(wèn)題,其實(shí)這個(gè)問(wèn)題應(yīng)該在我們購(gòu)買(mǎi)光刻膠前就應(yīng)該提出并規(guī)劃好。并且,在光刻過(guò)程中如果發(fā)現(xiàn)有異常情況發(fā)生,我們
2024-07-08 14:57:082199

光刻膠的圖形反轉(zhuǎn)工藝

圖形反轉(zhuǎn)是比較常見(jiàn)的一種紫外光刻膠,它既可以當(dāng)正使用又可以作為負(fù)使用。相比而言,負(fù)工藝更被人們所熟知。本文重點(diǎn)介紹其負(fù)工藝。 應(yīng)用領(lǐng)域 在反轉(zhuǎn)工藝下,通過(guò)適當(dāng)?shù)墓に噮?shù),可以獲得底切的側(cè)壁
2024-07-09 16:06:001310

光刻膠后烘技術(shù)

后烘是指(post exposure bake-PEB)是指在曝光之后的光刻膠膜的烘烤過(guò)程。由于光刻膠膜還未顯影,也就是說(shuō)還未閉合,PEB也可以在高于光刻膠軟化溫度的情況下進(jìn)行。前面的文章中我們?cè)?/div>
2024-07-09 16:08:432484

光刻膠的一般特性介紹

評(píng)價(jià)一款光刻膠是否適合某種應(yīng)用需要綜合看這款光刻膠的特定性能,這里給出光刻膠一般特性的介紹。 1. 靈敏度 靈敏度(sensitivity)是衡量曝光速度的指標(biāo)。光刻膠的靈敏度越高,所需的曝光劑量
2024-07-10 13:43:491472

光刻膠的硬烘烤技術(shù)

根據(jù)光刻膠的應(yīng)用工藝,我們可以采用適當(dāng)?shù)姆椒▽?duì)已顯影的光刻膠結(jié)構(gòu)進(jìn)行處理以提高其化學(xué)或物理穩(wěn)定性。通常我們可以采用烘烤步驟來(lái)實(shí)現(xiàn)整個(gè)光刻膠結(jié)構(gòu)的熱交聯(lián),稱(chēng)為硬烘烤或者堅(jiān)膜?;蛲ㄟ^(guò)低劑量紫外線輻照
2024-07-10 13:46:591832

光刻膠涂覆工藝—旋涂

為了確保光刻工藝的可重復(fù)性、可靠性和可接受性,必須在基板表面上均勻涂覆光刻膠。光刻膠通常分散在溶劑或水溶液中,是一種高粘度材料。根據(jù)工藝要求,有許多工藝可用于涂覆光刻膠。 旋涂是用光刻膠涂覆基材
2024-07-11 15:46:361740

導(dǎo)致光刻膠變色的原因有哪些?

存儲(chǔ)時(shí)間 正和圖形反轉(zhuǎn)在存儲(chǔ)數(shù)月后會(huì)變暗,而且隨著儲(chǔ)存溫度升高而加速。因?yàn)樵擃?lèi)型光刻膠含有的光活性化合物形成偶氮染料,在 可見(jiàn)光譜的部分具有很強(qiáng)的吸收能力,對(duì)紫外靈敏度沒(méi)有任何影響。這種變色過(guò)程
2024-07-11 16:07:491211

如何成功的旋涂微流控SU-8光刻膠?

在微流控PDMS芯片或SU-8模具制作的過(guò)程中,需要把PDMS或SU-8光刻膠根據(jù)所需要的厚度來(lái)選擇合適的旋涂轉(zhuǎn)速并且使PDMS或SU-8涂布均勻化。 如何成功的旋涂微流控SU-8光刻膠
2024-08-26 14:16:01797

如何成功的烘烤微流控SU-8光刻膠

在微流控PDMS芯片加工的過(guò)程中,需要使用烘臺(tái)或者烤設(shè)備對(duì)SU-8光刻膠或PDMS聚合物進(jìn)行烘烤。SU-8光刻膠的烘烤通常需要進(jìn)行2-3次。本文簡(jiǎn)要介紹SU-8光刻膠烘烤的注意事項(xiàng)。 微流
2024-08-27 15:54:01748

一文看懂光刻膠的堅(jiān)膜工藝及物理特性和常見(jiàn)光刻膠

共讀好書(shū)關(guān)于常用光刻膠型號(hào)也可以查看這篇文章:收藏!常用光刻膠型號(hào)資料大全,幾乎包含所有芯片用光刻膠歡迎掃碼添加小編微信掃碼加入知識(shí)星球,領(lǐng)取公眾號(hào)資料
2024-11-01 11:08:072423

國(guó)產(chǎn)光刻膠通過(guò)半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗(yàn)證

來(lái)源:太紫微公司 近日,光谷企業(yè)在半導(dǎo)體專(zhuān)用光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)重大突破:武漢太紫微光電科技有限公司(以下簡(jiǎn)稱(chēng)“太紫微公司”)推出的T150 A光刻膠產(chǎn)品,已通過(guò)半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗(yàn)證,實(shí)現(xiàn)配方全自主
2024-10-17 13:22:44608

光刻膠的使用過(guò)程與原理

本文介紹了光刻膠的使用過(guò)程與原理。
2024-10-31 15:59:451491

一文解讀光刻膠的原理、應(yīng)用及市場(chǎng)前景展望

光刻技術(shù)是現(xiàn)代微電子和納米技術(shù)的研發(fā)中的關(guān)鍵一環(huán),而光刻膠,又是光刻技術(shù)中的關(guān)鍵組成部分。隨著技術(shù)的發(fā)展,對(duì)微小、精密的結(jié)構(gòu)的需求日益增強(qiáng),光刻膠的需求也水漲船高,在微電子制造和納米技術(shù)等高精尖領(lǐng)域占據(jù)著至關(guān)重要的位置。
2024-11-11 10:08:211816

光刻膠清洗去除方法

光刻膠作為掩模進(jìn)行干法刻蝕或是濕法腐蝕后,一般都是需要及時(shí)的去除清洗,而一些高溫或者其他操作往往會(huì)導(dǎo)致光刻膠碳化難以去除。
2024-11-11 17:06:221623

光刻膠的主要技術(shù)參數(shù)

分辨率(resolution)。區(qū)別硅片表面相鄰圖形特征的能力。一般用關(guān)鍵尺寸(CD,Critical Dimension)來(lái)衡量分辨率。形成的關(guān)鍵尺寸越小,光刻膠的分辨率越好。
2024-11-15 10:10:412889

光刻膠成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料

光刻膠是半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域的一種重要材料,在整個(gè)電子元器件加工產(chǎn)業(yè)有著舉足輕重的地位。 它主要由感光樹(shù)脂、增感劑和溶劑等成分組成。其中,感光樹(shù)脂決定了光刻膠的感光度和分辨率等關(guān)鍵性能,增感劑有助于提高
2024-12-19 13:57:36934

光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料,其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質(zhì)量。同時(shí),精準(zhǔn)測(cè)量光刻圖形對(duì)把控工藝質(zhì)量意義重大,白光干涉儀為此提供了有力的技術(shù)保障
2025-05-29 09:38:53172

減少光刻膠剝離工藝對(duì)器件性能影響的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

? ? 引言 ? 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,光刻膠剝離工藝是關(guān)鍵環(huán)節(jié),但其可能對(duì)器件性能產(chǎn)生負(fù)面影響。同時(shí),光刻圖形的精確測(cè)量對(duì)于保證芯片制造質(zhì)量至關(guān)重要。本文將探討減少光刻膠剝離工藝影響的方法,并介紹白光
2025-06-14 09:42:56249

低含量 NMF 光刻膠剝離液和制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

引言 在半導(dǎo)體制造過(guò)程中,光刻膠剝離液是不可或缺的材料。N - 甲基 - 2 - 吡咯烷酮(NMF)雖在光刻膠剝離方面表現(xiàn)出色,但因其高含量使用帶來(lái)的成本、環(huán)保等問(wèn)題備受關(guān)注。同時(shí),光刻圖形的精準(zhǔn)
2025-06-17 10:01:01187

用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕光刻膠剝離液及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

引言 在顯示面板制造的 ARRAY 制程工藝中,光刻膠剝離是關(guān)鍵環(huán)節(jié)。銅布線在制程中廣泛應(yīng)用,但傳統(tǒng)光刻膠剝離液易對(duì)銅產(chǎn)生腐蝕,影響器件性能。同時(shí),光刻圖形的精準(zhǔn)測(cè)量對(duì)確保 ARRAY 制程工藝精度
2025-06-18 09:56:08162

針對(duì)晶圓上芯片工藝的光刻膠剝離方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

引言 在晶圓上芯片制造工藝中,光刻膠剝離是承上啟下的關(guān)鍵環(huán)節(jié),其效果直接影響芯片性能與良率。同時(shí),光刻圖形的精確測(cè)量是保障工藝精度的重要手段。本文將介紹適用于晶圓芯片工藝的光刻膠剝離方法,并探討白光
2025-06-25 10:19:48142

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