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電子發(fā)燒友網(wǎng)>今日頭條>光刻膠又遇“卡脖子”,國(guó)產(chǎn)替代刻不容緩

光刻膠又遇“卡脖子”,國(guó)產(chǎn)替代刻不容緩

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晶圓去膠工藝之后要清洗干燥嗎

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SPM在工業(yè)清洗中的應(yīng)用有哪些

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2025-12-15 13:20:31201

晶圓清洗的工藝要點(diǎn)有哪些

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2025-12-09 10:12:30236

半導(dǎo)體芯片制造核心材料“光刻膠(Photoresist)”的詳解

在芯片制造這場(chǎng)微觀(guān)世界的雕刻盛宴中,光刻膠(PR)如同一位技藝精湛的工匠手中的隱形畫(huà)筆,在硅片這片“晶圓畫(huà)布”上勾勒出億萬(wàn)個(gè)晶體管組成的復(fù)雜電路。然而,這支“畫(huà)筆”卻成了中國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)最難突破的瓶頸之一:
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信創(chuàng)國(guó)產(chǎn)海光OPS電腦內(nèi)置OPS插拔式電腦模塊適用華為鴻合一體機(jī)

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數(shù)據(jù)驅(qū)動(dòng)國(guó)產(chǎn)替代!智芯谷如何引爆半導(dǎo)體供應(yīng)鏈新增長(zhǎng)極?

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晶圓蝕刻用得到硝酸鈉溶液

,分解有機(jī)污染物(如光刻膠殘留物)或金屬腐蝕產(chǎn)物(如銅氧化物)。例如,在類(lèi)似SC2清洗液體系中,它可能替代部分鹽酸,通過(guò)氧化反應(yīng)去除金屬雜質(zhì);緩沖與pH調(diào)節(jié):作為
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國(guó)產(chǎn)高精度步進(jìn)式光刻機(jī)順利出廠(chǎng)

近日,深圳穩(wěn)頂聚芯技術(shù)有限公司(簡(jiǎn)稱(chēng)“穩(wěn)頂聚芯”)宣布,其自主研發(fā)的首臺(tái)國(guó)產(chǎn)高精度步進(jìn)式光刻機(jī)已成功出廠(chǎng),標(biāo)志著我國(guó)在半導(dǎo)體核心裝備領(lǐng)域取得新進(jìn)展。 此次穩(wěn)頂聚芯出廠(chǎng)的步進(jìn)式光刻機(jī)屬于WS180i
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國(guó)產(chǎn)替代再傳捷報(bào)!鉅合新材SECrosslink H80E芯片燒結(jié)銀膏獲半導(dǎo)體頭部企業(yè)認(rèn)可!

國(guó)內(nèi)某半導(dǎo)體頭部企業(yè)的嚴(yán)苛測(cè)試與多輪驗(yàn)證,并已獲得首批訂單,標(biāo)志著該國(guó)產(chǎn)高性能燒結(jié)銀膏正式進(jìn)入主流半導(dǎo)體供應(yīng)鏈,為功率半導(dǎo)體封裝材料的國(guó)產(chǎn)替代注入了強(qiáng)勁動(dòng)力。 攻克“卡脖子”難題,核心技術(shù)實(shí)現(xiàn)突破 燒結(jié)銀膏作為第三代半導(dǎo)體(如碳
2025-10-09 18:15:24750

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在芯片封裝生產(chǎn)的精細(xì)流程中,有一個(gè)看似簡(jiǎn)單卻至關(guān)重要的環(huán)節(jié)——銀烘焙。這道工序雖不像光刻或蝕刻那樣備受關(guān)注,卻直接決定著芯片的穩(wěn)定性和壽命。銀烘焙定義銀烘焙,專(zhuān)業(yè)術(shù)語(yǔ)稱(chēng)為EpoxyCuring
2025-09-25 22:11:42492

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2025-09-19 09:19:56443

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2025-09-17 11:01:271282

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在半導(dǎo)體制造過(guò)程中,若濕法去膠第一次未能完全去除干凈,可能引發(fā)一系列連鎖反應(yīng),對(duì)后續(xù)工藝和產(chǎn)品質(zhì)量造成顯著影響。以下是具體后果及分析:殘留物導(dǎo)致后續(xù)工藝缺陷薄膜沉積異常:未清除的光刻膠殘留會(huì)作為異物
2025-09-16 13:42:02447

焦點(diǎn)訪(fǎng)談專(zhuān)訪(fǎng)“卡脖子”技術(shù):清研電子領(lǐng)跑干法超容全產(chǎn)業(yè)鏈

業(yè)"卡脖子"困境,深圳清研電子科技有限公司依托深圳清華大學(xué)研究院先進(jìn)儲(chǔ)能材料及器件實(shí)驗(yàn)室20年的技術(shù)積淀,以粉體成膜技術(shù)(PIFs)為核心,致力于打造自主可控的干法超級(jí)電容
2025-09-11 13:56:121816

如何提高光刻膠殘留清洗的效率

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2025-09-03 09:25:20648

高效設(shè)計(jì),國(guó)產(chǎn)精品:BT5026——LM5026的優(yōu)質(zhì)Pin-to-Pin替代方案

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NAS存儲(chǔ)系統(tǒng)斷電風(fēng)險(xiǎn)大?UPS電源守護(hù)數(shù)據(jù)安全刻不容緩

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光刻膠旋涂的重要性及厚度監(jiān)測(cè)方法

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2025-08-22 17:52:461542

從“卡脖子”到“新引擎”,瑞之辰壓力傳感器的創(chuàng)新發(fā)展

替代窗口期。瑞之辰科技身處窗口期,這家專(zhuān)精特新“小巨人”企業(yè)用技術(shù)實(shí)力撕開(kāi)進(jìn)口壟斷的缺口,讓國(guó)產(chǎn)壓力傳感技術(shù)從“卡脖子”變“新引擎”。萬(wàn)億市場(chǎng)背后的“卡脖子”困
2025-08-21 14:58:381625

EUV光刻膠材料取得重要進(jìn)展

這一突破的核心力量。 ? 然而,EUV光刻的廣泛應(yīng)用并非坦途,其光源本身存在反射損耗大、亮度低等固有缺陷,這對(duì)配套的光刻膠材料提出了前所未有的嚴(yán)苛要求——不僅需要具備高效的EUV吸收能力,還要在反應(yīng)機(jī)制的穩(wěn)定性、缺陷控制的精準(zhǔn)度等方面實(shí)
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澤攸科技 | 電子束光刻(EBL)技術(shù)介紹

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2025-08-14 10:07:212552

全球市占率35%,國(guó)內(nèi)90%!芯上微裝第500臺(tái)步進(jìn)光刻機(jī)交付

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2025-08-13 09:41:341988

從光固化到半導(dǎo)體材料:久日新材的光刻膠國(guó)產(chǎn)替代之路

當(dāng)您尋找可靠的國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體材料供應(yīng)商時(shí),一家在光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)全產(chǎn)業(yè)鏈突破的企業(yè)正脫穎而出——久日新材(688199.SH)。這家光引發(fā)劑巨頭,正以令人矚目的速度在半導(dǎo)體核心材料國(guó)產(chǎn)化浪潮中嶄露頭角
2025-08-12 16:45:381160

半導(dǎo)體濕法去膠原理

半導(dǎo)體濕法去膠是一種通過(guò)化學(xué)溶解與物理輔助相結(jié)合的技術(shù),用于高效、可控地去除晶圓表面的光刻膠及其他工藝殘留物。以下是其核心原理及關(guān)鍵機(jī)制的詳細(xì)說(shuō)明:化學(xué)溶解作用溶劑選擇與反應(yīng)機(jī)制有機(jī)溶劑體系:針對(duì)正性光刻膠
2025-08-12 11:02:511505

國(guó)產(chǎn)百?lài)嵓?jí)KrF光刻膠樹(shù)脂產(chǎn)線(xiàn)正式投產(chǎn)

? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道 近日,八億時(shí)空宣布其KrF光刻膠萬(wàn)噸級(jí)半導(dǎo)體制程高自動(dòng)化研發(fā)/量產(chǎn)雙產(chǎn)線(xiàn)順利建成,標(biāo)志著我國(guó)在中高端光刻膠領(lǐng)域的自主化進(jìn)程邁出關(guān)鍵一步。 ? 此次建成的KrF光刻膠產(chǎn)線(xiàn)采用
2025-08-10 03:26:009090

3D 共聚焦顯微鏡 | 芯片制造光刻工藝的表征應(yīng)用

光刻工藝是芯片制造的關(guān)鍵步驟,其精度直接決定集成電路的性能與良率。隨著制程邁向3nm及以下,光刻膠圖案三維結(jié)構(gòu)和層間對(duì)準(zhǔn)精度的控制要求達(dá)納米級(jí),傳統(tǒng)檢測(cè)手段難滿(mǎn)足需求。光子灣3D共聚焦顯微鏡憑借非
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光阻去除工藝有哪些

光阻去除工藝(即去膠工藝)是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵步驟,旨在清除曝光后的光刻膠而不損傷底層材料。以下是主流的技術(shù)方案及其特點(diǎn):一、濕法去膠技術(shù)1.有機(jī)溶劑溶解法原理:利用丙酮、NMP(N-甲基吡咯烷酮
2025-07-30 13:25:43916

晶圓蝕刻后的清洗方法有哪些

、有機(jī)殘留物和部分蝕刻產(chǎn)物。常用溶劑:丙酮(Acetone):溶解正性光刻膠。醋酸乙酯(EthylAcetate):替代丙酮的環(huán)保溶劑。N-甲基吡咯烷酮(NMP)
2025-07-15 14:59:011621

國(guó)產(chǎn)光刻膠突圍,日企壟斷終松動(dòng)

? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道 光刻膠作為芯片制造光刻環(huán)節(jié)的核心耗材,尤其高端材料長(zhǎng)期被日美巨頭壟斷,國(guó)外企業(yè)對(duì)原料和配方高度保密,我國(guó)九成以上光刻膠依賴(lài)進(jìn)口。不過(guò)近期,國(guó)產(chǎn)光刻膠領(lǐng)域捷報(bào)頻傳——從KrF
2025-07-13 07:22:006083

行業(yè)案例|膜厚儀應(yīng)用測(cè)量之光刻膠厚度測(cè)量

光刻膠,又稱(chēng)光致抗蝕劑,是一種關(guān)鍵的耐蝕劑刻薄膜材料。它在紫外光、電子束、離子束、X 射線(xiàn)等的照射或輻射下,溶解度會(huì)發(fā)生變化,主要應(yīng)用于顯示面板、集成電路和半導(dǎo)體分立器件等細(xì)微圖形加工作業(yè)。由于
2025-07-11 15:53:24430

瑞之辰傳感器:從“卡脖子”到“殺手锏”的技術(shù)突圍

壓力傳感器的國(guó)產(chǎn)替代,將這一“卡脖子”難題逐步轉(zhuǎn)變?yōu)樽陨淼募夹g(shù)“殺手锏”。破解“卡脖子”的技術(shù)密碼當(dāng)動(dòng)力電池安全監(jiān)測(cè)需要精度達(dá)1%FS的微型壓力傳感器時(shí),當(dāng)工業(yè)自動(dòng)化
2025-07-01 17:06:551798

改善光刻圖形線(xiàn)寬變化的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

的應(yīng)用。 改善光刻圖形線(xiàn)寬變化的方法 優(yōu)化曝光工藝參數(shù) 曝光是決定光刻圖形線(xiàn)寬的關(guān)鍵步驟。精確控制曝光劑量,可避免因曝光過(guò)度導(dǎo)致光刻膠過(guò)度反應(yīng),使線(xiàn)寬變寬;或曝光不足造成線(xiàn)寬變窄。采用先進(jìn)的曝光設(shè)備,如極紫外(EUV)光刻機(jī)
2025-06-30 15:24:55739

改善光刻圖形垂直度的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

深入探討白光干涉儀在光刻圖形測(cè)量中的應(yīng)用。 改善光刻圖形垂直度的方法 優(yōu)化光刻膠性能 光刻膠的特性直接影響圖形垂直度。選用高對(duì)比度、低膨脹系數(shù)的光刻膠,可減少曝光和顯影過(guò)程中的圖形變形。例如,化學(xué)增幅型光刻膠具有良
2025-06-30 09:59:13489

針對(duì)晶圓上芯片工藝的光刻膠剝離方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

引言 在晶圓上芯片制造工藝中,光刻膠剝離是承上啟下的關(guān)鍵環(huán)節(jié),其效果直接影響芯片性能與良率。同時(shí),光刻圖形的精確測(cè)量是保障工藝精度的重要手段。本文將介紹適用于晶圓芯片工藝的光刻膠剝離方法,并探討白光
2025-06-25 10:19:48815

金屬低蝕刻率光刻膠剝離液組合物應(yīng)用及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

物的應(yīng)用,并探討白光干涉儀在光刻圖形測(cè)量中的作用。 金屬低蝕刻率光刻膠剝離液組合物 配方組成 金屬低蝕刻率光刻膠剝離液組合物主要由有機(jī)溶劑、堿性助劑、蝕體系和添加劑構(gòu)成。有機(jī)溶劑如 N - 甲基 - 2 - 吡咯烷酮(NMP),
2025-06-24 10:58:22565

用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕光刻膠剝離液及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

引言 在顯示面板制造的 ARRAY 制程工藝中,光刻膠剝離是關(guān)鍵環(huán)節(jié)。銅布線(xiàn)在制程中廣泛應(yīng)用,但傳統(tǒng)光刻膠剝離液易對(duì)銅產(chǎn)生腐蝕,影響器件性能。同時(shí),光刻圖形的精準(zhǔn)測(cè)量對(duì)確保 ARRAY 制程工藝精度
2025-06-18 09:56:08693

低含量 NMF 光刻膠剝離液和制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

引言 在半導(dǎo)體制造過(guò)程中,光刻膠剝離液是不可或缺的材料。N - 甲基 - 2 - 吡咯烷酮(NMF)雖在光刻膠剝離方面表現(xiàn)出色,但因其高含量使用帶來(lái)的成本、環(huán)保等問(wèn)題備受關(guān)注。同時(shí),光刻圖形的精準(zhǔn)
2025-06-17 10:01:01678

突破"卡脖子"困境:國(guó)產(chǎn)工業(yè)電源加速半導(dǎo)體設(shè)備國(guó)產(chǎn)替代

在全球科技競(jìng)爭(zhēng)加劇的背景下,美國(guó)對(duì)國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體行業(yè)制裁加速,涉及超過(guò)100家實(shí)體企業(yè),覆蓋了半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈多個(gè)制造環(huán)節(jié),半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈國(guó)產(chǎn)化迫在眉睫。 從光刻機(jī)到刻蝕機(jī),從清洗設(shè)備到檢測(cè)設(shè)備,半導(dǎo)體
2025-06-16 15:04:102060

為什么光刻要用黃光?

通過(guò)使用光掩膜和光刻膠在基板上復(fù)制流體圖案的過(guò)程?;鍖⑼扛补瓒趸瘜咏^緣層和光刻膠。光刻膠在被紫外光照射后可以容易地用顯影劑溶解,然后在腐蝕后,流體圖案將留在基板上。無(wú)塵室(Cleanroom)排除掉空間范圍內(nèi)空氣中的微
2025-06-16 14:36:251070

金屬低刻蝕的光刻膠剝離液及其應(yīng)用及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻膠剝離是重要工序。傳統(tǒng)剝離液常對(duì)金屬層產(chǎn)生過(guò)度刻蝕,影響器件性能。同時(shí),光刻圖形的精確測(cè)量也是確保制造質(zhì)量的關(guān)鍵。本文聚焦金屬低刻蝕的光刻膠剝離液及其應(yīng)用,并
2025-06-16 09:31:51586

減少光刻膠剝離工藝對(duì)器件性能影響的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

? ? 引言 ? 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,光刻膠剝離工藝是關(guān)鍵環(huán)節(jié),但其可能對(duì)器件性能產(chǎn)生負(fù)面影響。同時(shí),光刻圖形的精確測(cè)量對(duì)于保證芯片制造質(zhì)量至關(guān)重要。本文將探討減少光刻膠剝離工藝影響的方法,并介紹白光
2025-06-14 09:42:56736

不良瓷嘴導(dǎo)致LED斷線(xiàn)死燈問(wèn)題多,瓷嘴優(yōu)化刻不容緩

在LED封裝領(lǐng)域,焊線(xiàn)工藝是確保器件性能與可靠性的核心環(huán)節(jié)。而瓷嘴,作為焊線(xiàn)工藝中一個(gè)看似微小卻極為關(guān)鍵的部件,其對(duì)引線(xiàn)鍵合品質(zhì)的影響不容忽視。大量失效分析案例證明,LED封裝器件的死燈失效絕大多數(shù)
2025-06-12 14:03:06670

顯示面板 “良率保衛(wèi)戰(zhàn)”:新啟航激光修屏如何破解國(guó)產(chǎn)面板廠(chǎng) “卡脖子” 困局?

解決這一困境帶來(lái)了新的希望。 二、國(guó)產(chǎn)面板廠(chǎng)面臨的 “卡脖子” 困境 (一)技術(shù)瓶頸限制良率提升 在顯示面板生產(chǎn)過(guò)程中,涉及到多個(gè)復(fù)雜的工藝環(huán)節(jié),如蒸鍍、光刻等。以 OLED 面板生產(chǎn)為例,其核心模具 FMM(Fine Metal Mask,精密
2025-06-12 10:03:26851

華為Pura80發(fā)布,一項(xiàng)卡脖子傳感器技術(shù)獲突破,一項(xiàng)傳感器技術(shù)仍被卡脖子

與Mate系列并列的旗艦機(jī)型,華為選擇了在蘋(píng)果WWDC 25的次日舉行發(fā)布會(huì),可見(jiàn)華為對(duì)Pura 80系列手機(jī)的重視,以及“硬鋼”蘋(píng)果的信心。 ? 而在此前,從網(wǎng)絡(luò)信息看,大家對(duì)華為Pura 80系列手機(jī)的期待和看點(diǎn)中,有兩大熱點(diǎn)與此前華為被卡脖子的兩個(gè)傳感器技術(shù)相關(guān)。 其中,一項(xiàng)卡脖子
2025-06-11 19:15:172581

光刻工藝中的顯影技術(shù)

一、光刻工藝概述 光刻工藝是半導(dǎo)體制造的核心技術(shù),通過(guò)光刻膠在特殊波長(zhǎng)光線(xiàn)或者電子束下發(fā)生化學(xué)變化,再經(jīng)過(guò)曝光、顯影、刻蝕等工藝過(guò)程,將設(shè)計(jì)在掩膜上的圖形轉(zhuǎn)移到襯底上,是現(xiàn)代半導(dǎo)體、微電子、信息產(chǎn)業(yè)
2025-06-09 15:51:162127

我國(guó)為什么要發(fā)展半導(dǎo)體全產(chǎn)業(yè)鏈

,限制先進(jìn)制程研發(fā),倒逼中國(guó)通過(guò)國(guó)產(chǎn)替代構(gòu)建自主供應(yīng)鏈。例如華為海思在5G通信芯片、瑞之辰在碳化硅功率模塊領(lǐng)域和MEMS傳感器方面的技術(shù)突破,均是對(duì)“卡脖子”困境的
2025-06-09 13:27:371250

瑞之辰科技:以技術(shù)創(chuàng)新推進(jìn)壓力傳感器國(guó)產(chǎn)替代

在當(dāng)前全球科技競(jìng)爭(zhēng)日益激烈的背景下,傳感器作為現(xiàn)代工業(yè)和智能科技的核心部件,其重要性不言而喻。然而,高端傳感器市場(chǎng)長(zhǎng)期以來(lái)被國(guó)外企業(yè)壟斷,成為我國(guó)科技發(fā)展的一大“卡脖子”問(wèn)題。深圳市瑞之辰
2025-06-06 13:10:391052

九霄智能國(guó)產(chǎn)EDA工具的突圍之路

技術(shù)視角,剖開(kāi)國(guó)產(chǎn)EDA工具的真實(shí)發(fā)展脈絡(luò)——那些被汗水浸潤(rùn)的代碼、被反復(fù)推翻重構(gòu)的算法模型,以及一家本土科技企業(yè)在解決「卡脖子」困境中選擇的「艱難而正確」的道路。
2025-06-06 10:09:232316

國(guó)產(chǎn)傳感器突圍:瑞之辰如何用技術(shù)創(chuàng)新打破海外壟斷

海外企業(yè)壟斷,成為“卡脖子”技術(shù)之一。在這片被巨頭割據(jù)的戰(zhàn)場(chǎng),深圳市瑞之辰科技有限公司正以多項(xiàng)壓力傳感器的創(chuàng)新技術(shù),推動(dòng)國(guó)產(chǎn)替代的進(jìn)程。硬核技術(shù)背后的國(guó)產(chǎn)化密碼瑞之辰的競(jìng)爭(zhēng)力源于對(duì)
2025-06-05 11:10:281003

光刻膠產(chǎn)業(yè)國(guó)內(nèi)發(fā)展現(xiàn)狀

如果說(shuō)最終制造出來(lái)的芯片是一道美食,那么光刻膠就是最初的重要原材料之一,而且是那種看起來(lái)可能不起眼,但卻能決定一道菜味道的關(guān)鍵輔料。 光刻膠(photoresist),在業(yè)內(nèi)又被稱(chēng)為光阻或光阻劑
2025-06-04 13:22:51992

PCIe EtherCAT實(shí)時(shí)運(yùn)動(dòng)控制卡PCIE464點(diǎn)工藝中的同步/提前/延時(shí)開(kāi)關(guān)

運(yùn)動(dòng)中實(shí)現(xiàn)同步/提前/延時(shí)開(kāi)關(guān)
2025-05-29 13:49:24601

MICRO OLED 金屬陽(yáng)極像素制作工藝對(duì)晶圓 TTV 厚度的影響機(jī)制及測(cè)量?jī)?yōu)化

與良品率,因此深入探究二者關(guān)系并優(yōu)化測(cè)量方法意義重大。 影響機(jī)制 工藝應(yīng)力引發(fā)變形 在金屬陽(yáng)極像素制作時(shí),諸如光刻、蝕刻、金屬沉積等步驟會(huì)引入工藝應(yīng)力。光刻中,光刻膠的涂覆與曝光過(guò)程會(huì)因光刻膠固化收縮產(chǎn)生應(yīng)力。蝕刻階段,蝕刻氣體或液體對(duì)晶圓表面的作用若不均
2025-05-29 09:43:43588

光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料,其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質(zhì)量。同時(shí),精準(zhǔn)測(cè)量光刻圖形對(duì)把控工藝質(zhì)量意義重大,白光干涉儀為此提供了有力的技術(shù)保障
2025-05-29 09:38:531108

破局而立 向新而行 盤(pán)古信息:國(guó)產(chǎn)工業(yè)軟件的突圍之路

依賴(lài)進(jìn)口,本土企業(yè)則因研發(fā)投入不足、人才斷層、生態(tài)割裂等問(wèn)題,在核心技術(shù)與市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力上難以匹敵,行業(yè)一度面臨 “卡脖子” 危機(jī)。 然而,隨著國(guó)產(chǎn)替代浪潮的興起,伴隨著國(guó)家信創(chuàng)戰(zhàn)略推進(jìn)與制造業(yè)數(shù)字化轉(zhuǎn)型加速,國(guó)產(chǎn)工業(yè)軟件正
2025-05-28 09:16:06626

Micro OLED 陽(yáng)極像素定義層制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

優(yōu)勢(shì),為光刻圖形測(cè)量提供了可靠手段。 ? Micro OLED 陽(yáng)極像素定義層制備方法 ? 傳統(tǒng)光刻工藝 ? 傳統(tǒng) Micro OLED 陽(yáng)極像素定義層制備常采用光刻剝離工藝。首先在基板上沉積金屬層作為陽(yáng)極材料,接著旋涂光刻膠,通過(guò)掩模版曝光使光刻膠發(fā)生光化學(xué)反應(yīng),隨后
2025-05-23 09:39:17628

國(guó)產(chǎn)工控如何破局“卡脖子”?核心技術(shù)鑄就自主可控新篇章

在國(guó)際供應(yīng)鏈不確定性加劇的當(dāng)下,工業(yè)設(shè)備的自主可控已成為保障生產(chǎn)安全與效率的關(guān)鍵。如何實(shí)現(xiàn)從芯片、系統(tǒng)到應(yīng)用的100%國(guó)產(chǎn)化?如何讓工業(yè)設(shè)備兼具澎湃算力與硬核安全? 英康仕工控兩款標(biāo)桿產(chǎn)品
2025-05-21 16:07:411009

一文讀懂啟明智顯 Model系列 HMI芯片:從性能參數(shù)到場(chǎng)景適配的選型指南

“芯片”卡脖子的問(wèn)題持續(xù)受到關(guān)注,國(guó)產(chǎn)化道路一直被提及。中國(guó)企業(yè)一直在探索突破的可能性,在“國(guó)產(chǎn)化”這條長(zhǎng)征路上不斷進(jìn)發(fā)。作為深耕于HMI領(lǐng)域的中國(guó)企業(yè),啟明智顯也在HMI芯片方案上堅(jiān)持要突破
2025-05-21 15:45:501066

光刻圖形轉(zhuǎn)化軟件免費(fèi)試用

光刻圖形轉(zhuǎn)化軟件可以將gds格式或者gerber格式等半導(dǎo)體通用格式的圖紙轉(zhuǎn)換成如bmp或者tiff格式進(jìn)行掩模版加工制造,在掩膜加工領(lǐng)域或者無(wú)掩膜光刻領(lǐng)域不可或缺,在業(yè)內(nèi)也被稱(chēng)為矢量圖形光柵化軟件
2025-05-02 12:42:10

光刻膠的類(lèi)型及特性

光刻膠類(lèi)型及特性光刻膠(Photoresist),又稱(chēng)光致抗蝕劑,是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類(lèi)型和光刻膠特性。
2025-04-29 13:59:337829

最全最詳盡的半導(dǎo)體制造技術(shù)資料,涵蓋晶圓工藝到后端封測(cè)

第9章 集成電路制造工藝概況 第10章 氧化 第11章 淀積 第12章 金屬化 第13章 光刻:氣相成底膜到軟烘 第14章 光刻:對(duì)準(zhǔn)和曝光 第15章 光刻光刻膠顯影和先進(jìn)的光刻技術(shù) 第16章
2025-04-15 13:52:11

福田汽車(chē)2025年一季度銷(xiāo)量超17萬(wàn)輛

當(dāng)前,傳統(tǒng)燃油商用車(chē)市場(chǎng)正面臨結(jié)構(gòu)性調(diào)整,技術(shù)路線(xiàn)向純電、混動(dòng)、燃料電池多線(xiàn)并進(jìn),新能源技術(shù)加速滲透,新能源商用車(chē)市場(chǎng)增速顯著,商用車(chē)行業(yè)向綠色化、智能化轉(zhuǎn)型刻不容緩。
2025-04-10 11:44:59628

從芯片制造流程,探尋國(guó)產(chǎn)芯片突圍之路

近年來(lái),芯片行業(yè)深陷大國(guó)博弈的風(fēng)口浪尖。國(guó)內(nèi)芯片產(chǎn)業(yè)的 “卡脖子” 難題,更多集中于芯片制造環(huán)節(jié),尤其是光刻機(jī)、光刻膠等關(guān)鍵設(shè)備和材料領(lǐng)域。作為現(xiàn)代科技的核心,芯片的原材料竟是生活中隨處可見(jiàn)的沙子
2025-04-07 16:41:591257

國(guó)產(chǎn)替代進(jìn)口圖像采集卡:機(jī)遇、挑戰(zhàn)與策略

展現(xiàn)出獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)。本文將深入探討國(guó)產(chǎn)替代進(jìn)口圖像采集卡的背景、機(jī)遇、挑戰(zhàn)以及相應(yīng)的應(yīng)對(duì)策略,旨在為推動(dòng)該領(lǐng)域的發(fā)展提供參考。一、國(guó)產(chǎn)替代的背景與必要性多年來(lái),進(jìn)口
2025-04-07 15:58:04833

南方智能SmartDBase數(shù)字孿生底座平臺(tái)推動(dòng)行業(yè)數(shù)字化升級(jí)

全球科技競(jìng)爭(zhēng)加劇,信息安全問(wèn)題凸顯,中國(guó)正加速推進(jìn)信息技術(shù)自主創(chuàng)新與國(guó)產(chǎn)替代進(jìn)程。在此背景下,突圍“卡脖子”困境,擁抱信創(chuàng)生態(tài),確保產(chǎn)品技術(shù)自主可控和信息安全,成為了科技型企業(yè)破局前行的關(guān)鍵。
2025-04-07 13:55:16790

國(guó)內(nèi)首臺(tái)!沈陽(yáng)儀表院突破一卡脖子傳感器設(shè)備制造

1/3的管道無(wú)法實(shí)施內(nèi)檢測(cè),安全隱患很大。此前復(fù)雜油氣管道內(nèi)檢測(cè)技術(shù)、設(shè)備被國(guó)外壟斷,是典型的“卡脖子”問(wèn)題。 瞄準(zhǔn)國(guó)內(nèi)復(fù)雜油氣管道內(nèi)檢測(cè)不敢檢、不能檢問(wèn)題,國(guó)機(jī)集團(tuán)沈陽(yáng)儀表科學(xué)研究院有限公司(簡(jiǎn)稱(chēng)沈陽(yáng)儀表院)
2025-04-03 17:37:05779

【「芯片通識(shí)課:一本書(shū)讀懂芯片技術(shù)」閱讀體驗(yàn)】芯片怎樣制造

數(shù)據(jù)中介的示意圖。 光刻膠 正性光刻膠中感光部分的光刻膠可以被腐蝕溶解掉,未感光部分的光刻膠不能被腐蝕溶解;復(fù)姓光刻膠的感光部分的光刻膠不能被腐蝕溶解,未感光部分的光刻膠可以被腐蝕溶解掉。如下圖所示
2025-04-02 15:59:44

【「芯片通識(shí)課:一本書(shū)讀懂芯片技術(shù)」閱讀體驗(yàn)】了解芯片怎樣制造

,三合一工藝平臺(tái),CMOS圖像傳感器工藝平臺(tái),微電機(jī)系統(tǒng)工藝平臺(tái)。 光掩模版:基板,不透光材料 光刻膠:感光樹(shù)脂,增感劑,溶劑。 正性和負(fù)性。 光刻工藝: 涂光刻膠。掩模版向下曝光。定影和后烘固化蝕刻
2025-03-27 16:38:20

機(jī)轉(zhuǎn)速對(duì)微流控芯片精度的影響

微流控芯片制造過(guò)程中,勻是關(guān)鍵步驟之一,而勻機(jī)轉(zhuǎn)速會(huì)在多個(gè)方面對(duì)微流控芯片的精度產(chǎn)生影響: 對(duì)光刻膠厚度的影響 勻機(jī)轉(zhuǎn)速與光刻膠厚度成反比關(guān)系。旋轉(zhuǎn)速度影響勻時(shí)的離心力,轉(zhuǎn)速越大,角速度越大
2025-03-24 14:57:16750

世強(qiáng)硬創(chuàng)與米德方格合作,能否助力國(guó)產(chǎn)芯片突破“卡脖子”難題?

在智能家居、汽車(chē)電子、工業(yè)控制等領(lǐng)域的規(guī)模化應(yīng)用,助力中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)突破“卡脖子”難題。 世強(qiáng)硬創(chuàng)平臺(tái)依托覆蓋超1200家原廠(chǎng)的產(chǎn)業(yè)互聯(lián)網(wǎng)生態(tài),為米德方格提供了全鏈路研發(fā)支持。米德方格的核心技術(shù)資源已全面上線(xiàn)該平臺(tái),工程
2025-03-20 17:02:17780

半導(dǎo)體材料介紹 | 光刻膠及生產(chǎn)工藝重點(diǎn)企業(yè)

光刻膠(Photoresist)又稱(chēng)光致抗蝕劑,是指通過(guò)紫外光、電子束、離子束、X射線(xiàn)等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹(shù)脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對(duì)光敏感的混合液
2025-03-18 13:59:533005

國(guó)產(chǎn)芯片替代方案:解析沁恒以太網(wǎng)PHY芯片

沁恒國(guó)產(chǎn)以太網(wǎng)PHY芯片:高性能替代方案助力國(guó)產(chǎn)化升級(jí)
2025-03-12 10:40:163547

支持國(guó)貨?。?!免積分分享國(guó)產(chǎn)芯片電機(jī)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)設(shè)計(jì)

美國(guó)對(duì)中國(guó)的芯片出口進(jìn)行嚴(yán)格管制,導(dǎo)致中國(guó)很多科技企業(yè)陷入困難境地,發(fā)展和使用國(guó)產(chǎn)化的芯片刻不容緩,在此背景下,本文設(shè)計(jì)了一款全國(guó)產(chǎn)化的電機(jī)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)。
2025-03-07 13:36:19

微流控勻過(guò)程簡(jiǎn)述

所需的厚度。在微流控領(lǐng)域,勻機(jī)主要用于光刻膠的涂覆,以確保光刻過(guò)程的均勻性和質(zhì)量。 勻機(jī)的主要組成部分 旋轉(zhuǎn)平臺(tái):承載基片的平臺(tái),通過(guò)高速旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生離心力。 滴裝置:控制液的滴落量和位置。 控制系統(tǒng):調(diào)節(jié)旋轉(zhuǎn)速
2025-03-06 13:34:21677

國(guó)產(chǎn)替代新標(biāo)桿:紫光THA6車(chē)規(guī)MCU的功耗控制與熱管理方案

當(dāng)全球汽車(chē)行業(yè)因芯片短缺陷入“卡脖子”困境時(shí),紫光同芯的THA6系列車(chē)規(guī)MCU橫空出世,不僅填補(bǔ)了國(guó)產(chǎn)高端MCU的空白,更憑借“功耗控制”與“熱管理”兩大殺手锏,直接對(duì)標(biāo)國(guó)際大廠(chǎng)英飛凌TC387
2025-02-19 17:11:292144

國(guó)產(chǎn)電容式MEMS壓力傳感器得到實(shí)現(xiàn)

壓力芯片擁有完全自主知識(shí)產(chǎn)權(quán),已獲10項(xiàng)專(zhuān)利授權(quán),從設(shè)計(jì)到生產(chǎn)的每個(gè)環(huán)節(jié)均在國(guó)內(nèi)完成,實(shí)現(xiàn)了MEMS電容式壓力芯片領(lǐng)域的國(guó)產(chǎn)替代,突破了國(guó)外對(duì)電容式壓力芯片設(shè)計(jì)制造的卡脖子技術(shù),解決了國(guó)外專(zhuān)利知識(shí)產(chǎn)權(quán)的卡脖子問(wèn)題,填補(bǔ)了國(guó)內(nèi)技術(shù)空白,芯片通
2025-02-19 12:43:411286

午芯芯科技國(guó)產(chǎn)電容式MEMS壓力傳感器芯片突破卡脖子技術(shù)

科技MEMS壓力芯片是由哈爾濱工業(yè)大學(xué)、沈陽(yáng)理工大學(xué)的多位博導(dǎo)、教授老師帶領(lǐng)的科研團(tuán)隊(duì),進(jìn)行成果轉(zhuǎn)化,突破了歐美對(duì)中國(guó)MEMS壓力芯片卡脖子技術(shù),擁有完全自主知識(shí)產(chǎn)權(quán),填補(bǔ)了國(guó)內(nèi)技術(shù)空白,已獲得授權(quán)10
2025-02-19 12:19:20

風(fēng)華電容的性?xún)r(jià)比:如何成為國(guó)產(chǎn)替代的首選?

在當(dāng)前的全球電子市場(chǎng)中,國(guó)產(chǎn)替代已成為一股不可忽視的力量。隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步和產(chǎn)業(yè)的升級(jí),越來(lái)越多的國(guó)內(nèi)企業(yè)開(kāi)始嶄露頭角,風(fēng)華高科便是其中的佼佼者。風(fēng)華電容,作為風(fēng)華高科的核心產(chǎn)品之一,憑借其出色
2025-02-14 15:37:021098

國(guó)產(chǎn)功率器件突圍戰(zhàn):仁懋電子TOLL封裝如何改寫(xiě)行業(yè)格局?

在新能源汽車(chē)、光伏儲(chǔ)能等萬(wàn)億級(jí)賽道爆發(fā)的當(dāng)下,國(guó)產(chǎn)功率器件的"卡脖子"困境正被打破。作為國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體功率器件領(lǐng)域的標(biāo)桿企業(yè),仁懋電子憑借其TOLL(TO-Leadless)封裝
2025-02-08 17:06:241272

高精密基準(zhǔn)源產(chǎn)品助力新能源和工業(yè)4.0國(guó)產(chǎn)替代

高精密基準(zhǔn)源產(chǎn)品助力新能源和工業(yè)4.0國(guó)產(chǎn)替代
2025-02-06 09:28:26780

芯片制造:光刻工藝原理與流程

機(jī)和光刻膠: ? 光掩膜:如同芯片的藍(lán)圖,上面印有每一層結(jié)構(gòu)的圖案。 ? ? ?光刻機(jī):像一把精確的畫(huà)筆,能夠引導(dǎo)光線(xiàn)在光刻膠上刻畫(huà)出圖案。 ? 光刻膠:一種特殊的感光材料,通過(guò)光刻過(guò)程在光刻膠上形成圖案,進(jìn)而構(gòu)建出三維結(jié)構(gòu)。
2025-01-28 16:36:003591

國(guó)產(chǎn)模數(shù)轉(zhuǎn)換器SC1642——ADS1258優(yōu)質(zhì)國(guó)產(chǎn)替代方案

國(guó)產(chǎn)模數(shù)轉(zhuǎn)換器SC1642——ADS1258優(yōu)質(zhì)國(guó)產(chǎn)替代方案
2025-01-22 09:58:481170

中軟國(guó)際推出基于ERP系統(tǒng)的先導(dǎo)工程服務(wù)

當(dāng)前,關(guān)基行業(yè)面臨來(lái)自外部的巨大壓力,關(guān)鍵技術(shù)受限、業(yè)務(wù)連續(xù)性受到影響。國(guó)資委、工信部、能源局先后發(fā)布政策文件,大力推動(dòng)重點(diǎn)行業(yè)、重要領(lǐng)域和國(guó)央企信息化系統(tǒng)信創(chuàng)國(guó)產(chǎn)化改造,ERP國(guó)產(chǎn)替代刻不容緩。
2025-01-17 10:02:29805

最高資助1億元!深圳發(fā)力智能傳感器“卡脖子”技術(shù)攻關(guān)(最新政策)

為落實(shí)《關(guān)于推動(dòng)智能傳感器產(chǎn)業(yè)加快發(fā)展的若干措施》,規(guī)范“市工業(yè)和信息化局關(guān)于智能傳感器產(chǎn)業(yè)專(zhuān)項(xiàng)扶持計(jì)劃”中智能傳感器“卡脖子”技術(shù)攻關(guān)項(xiàng)目的組織實(shí)施,深圳市工業(yè)和信息化局起草了《市工業(yè)和信息化局
2025-01-16 18:27:001006

24位模數(shù)轉(zhuǎn)換器SC1641——AD7793的優(yōu)質(zhì)國(guó)產(chǎn)替代方案

24位模數(shù)轉(zhuǎn)換器SC1641——AD7793的優(yōu)質(zhì)國(guó)產(chǎn)替代方案
2025-01-15 10:09:261437

募資12億!國(guó)內(nèi)光刻膠“銷(xiāo)冠王”沖刺IPO!

用先進(jìn)材料項(xiàng)目等。 恒坤新材成立于2004年12月,是中國(guó)境內(nèi)少數(shù)具備12英寸集成電路晶圓制造關(guān)鍵材料研發(fā)和量產(chǎn)能力的創(chuàng)新企業(yè)之一。據(jù)其股東廈門(mén)市產(chǎn)業(yè)投資基金披露,恒坤新材是國(guó)內(nèi)12英寸晶圓制造先進(jìn)制程上出貨量最大的光刻膠企業(yè)。 根據(jù)弗若斯特沙利文市
2025-01-07 17:38:55843

微流控中的烘技術(shù)

一、烘技術(shù)在微流控中的作用 提高光刻膠穩(wěn)定性 在 微流控芯片 制作過(guò)程中,光刻膠經(jīng)過(guò)顯影后,進(jìn)行烘(堅(jiān)膜)能使光刻膠結(jié)構(gòu)更穩(wěn)定。例如在后續(xù)進(jìn)行干法刻蝕、濕法刻蝕或者LIGA等工藝時(shí),烘可以讓
2025-01-07 15:18:06824

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