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電子發(fā)燒友網(wǎng)>電源/新能源>功率器件>科銳推出多款碳化硅基氮化鎵器件,助力大型雷達加速發(fā)展

科銳推出多款碳化硅基氮化鎵器件,助力大型雷達加速發(fā)展

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功率半導(dǎo)體是實現(xiàn)節(jié)能世界的關(guān)鍵。碳化硅氮化等新技術(shù)可實現(xiàn)更高的功率效率、更小的外形尺寸和更輕的重量。尤其是碳化硅是一種寬帶隙材料,能夠克服傳統(tǒng)硅功率器件的限制。
2022-08-04 17:30:09795

氮化晶體管和碳化硅MOSFET產(chǎn)品多方面的對比與分析

氮化晶體管和碳化硅 MOSFET是近兩三年來新興的功率半導(dǎo)體,相比于傳統(tǒng)的硅材料功率半導(dǎo)體,他們都具有許多非常優(yōu)異的特性:耐壓高,導(dǎo)通電阻小,寄生參數(shù)小等。他們也有各自與眾不同的特性:氮化晶體管
2022-11-02 16:13:065427

碳化硅(SiC)與氮化(GaN)

一旦硅開始達不到電路需求,碳化硅氮化就作為潛在的替代半導(dǎo)體材料浮出水面。與單獨的硅相比,這兩種化合物都能夠承受更高的電壓、更高的頻率和更復(fù)雜的電子產(chǎn)品。這些因素可能導(dǎo)致碳化硅氮化在整個電子市場上得到更廣泛的采用。
2022-12-13 10:01:3516399

氮化前景怎么樣

和GaN為代表物質(zhì)制作的器件具有更大的輸出功率和更好的頻率特性。 2、分類狀況 氮化根據(jù)襯底不同可分為硅氮化碳化硅氮化碳化硅氮化射頻器件具有高導(dǎo)熱性能和大功率射頻輸出優(yōu)勢,適用于5G基站、衛(wèi)星、雷達等領(lǐng)域;硅
2023-02-03 14:31:181407

碳化硅氮化器件的特點差異

  碳化硅(SiC)和氮化(GaN)被稱為“寬帶隙半導(dǎo)體”(WBG)。在帶隙寬度中,硅為1.1eV,SiC為3.3eV,GaN為3.4eV,因此寬帶隙半導(dǎo)體具有更高的擊穿電壓,在某些應(yīng)用中可以達到1200-1700V。
2023-02-05 14:13:342592

什么是硅氮化 氮化碳化硅的區(qū)別

 硅氮化技術(shù)是一種將氮化器件直接生長在傳統(tǒng)硅襯底上的制造工藝。在這個過程中,由于氮化薄膜直接生長在硅襯底上,可以利用現(xiàn)有硅半導(dǎo)體制造基礎(chǔ)設(shè)施實現(xiàn)低成本、大批量的氮化器件產(chǎn)品的生產(chǎn)。
2023-02-06 15:47:337273

氮化行業(yè)發(fā)展前景如何?

氮化根據(jù)襯底不同可分為硅氮化碳化硅氮化碳化硅氮化射頻器件具有高導(dǎo)熱性能和大功率射頻輸出優(yōu)勢,適用于5G基站、衛(wèi)星、雷達等領(lǐng)域;硅氮化功率器件主要應(yīng)用于電力電子器件領(lǐng)域。雖然
2023-02-10 10:52:524733

多極碳化硅氮化(GaN-on-SiC)單片微波集成電路(MMIC)器件

四款新型多極碳化硅氮化(GaN-on-SiC)單片微波集成電路(MMIC)器件。進一步擴展射頻(RF)解決方案范圍,適用于包括海事、氣象監(jiān)測和新興的無人機系統(tǒng)雷達等在內(nèi)的脈沖和連續(xù)波 X-波段相控陣應(yīng)用。
2023-02-10 11:14:501318

碳化硅氮化和硅氮化的區(qū)別在哪里?

氮化是第三代半導(dǎo)體化合材料,有著能量密度高、可靠性高的優(yōu)點,能夠代替很多傳統(tǒng)的硅材料,晶圓可以做得很大,晶圓的長度可以拉長至2米。 硅氮化器件具有擊穿電壓高、導(dǎo)通電阻低、開關(guān)速度快、零
2023-02-12 14:30:283190

氮化是什么意思 硅氮化碳化硅的區(qū)別

  硅氮化技術(shù)是一種新型的氮化外延片技術(shù),它可以提高外延片的熱穩(wěn)定性和抗拉強度,從而提高外延片的性能。
2023-02-14 14:19:012596

碳化硅大功率高頻電子器件上的薄氮化

碳化硅(SiC)上開發(fā)了更薄的III族氮化物結(jié)構(gòu),以期實現(xiàn)高功率和高性能高頻薄高電子遷移率晶體管和其他器件。新結(jié)構(gòu)使用 高質(zhì)量的60納米無晶界氮化鋁成核層來避免大面積的擴展缺陷,而不是1-2米厚的氮化緩沖層(圖1)。成核層允許在0.2 m內(nèi)生 長高質(zhì)量的氮化。
2023-02-15 15:34:524

用于紫外發(fā)光二極管的碳化硅上的氮化

書籍:《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章:用于紫外發(fā)光二極管的碳化硅上的氮化編號:JFKJ-21-1173作者:華林納 一直在使用碳化硅碳化硅)襯底生長氮化鋁(AlGaN)結(jié)構(gòu),針對278nm深紫
2023-02-21 09:21:581

SiC碳化硅二極管的特性和優(yōu)勢

什么是第三代半導(dǎo)體?我們把SiC碳化硅功率器件氮化功率器件統(tǒng)稱為第三代半導(dǎo)體,這個是相對以硅為核心的第二代半導(dǎo)體功率器件的。今天我們著重介紹SiC碳化硅功率器件,也就是SiC碳化硅二極管
2023-02-21 10:16:473720

什么是碳化硅器件

SiC器件是一種新型的硅 MOSFET,特別是 SiC功率器件具有更高的開關(guān)速度和更寬的輸出頻率。SiC功率芯片主要由 MOSFET和 PN結(jié)組成。 在眾多半導(dǎo)體器件中,碳化硅材料具有低熱
2023-03-03 14:18:565771

碳化硅功率器件在充電樁中的應(yīng)用有哪些?

在半導(dǎo)體材料領(lǐng)域,碳化硅氮化無疑是當前最炙手可熱的明星。其中,碳化硅擁有高壓、高頻和高效率等特性,其耐高頻耐高溫的性能,是同等硅器件耐壓的10倍。
2023-04-06 11:06:531209

6.3.5.3 界面氮化∈《碳化硅技術(shù)基本原理——生長、表征、器件和應(yīng)用》

6.3.5.3界面氮化6.3.5氧化硅/SiC界面特性及其改進方法6.3氧化及氧化硅/SiC界面特性第6章碳化硅器件工藝《碳化硅技術(shù)基本原理——生長、表征、器件和應(yīng)用》往期內(nèi)容:6.3.5.2氧化
2022-01-17 09:18:161372

氮化碳化硅誰將贏得寬帶隙之戰(zhàn)?

氮化碳化硅正在爭奪主導(dǎo)地位,它們將減少數(shù)十億噸溫室氣體排放。
2023-08-07 14:22:082323

碳化硅的性能和應(yīng)用場景

碳化硅具備耐高壓、耐高溫、高頻、抗輻射等優(yōu)良電氣特性,突破硅半導(dǎo)體材料物理限制,是第三代半導(dǎo)體核心材料。碳化硅材料主要可以制成碳化硅氮化射頻器件碳化硅功率器件。受益于5G通信、國防軍工、新能源汽車和新能源光伏等領(lǐng)域的發(fā)展,碳化硅需求增速可觀。
2023-08-19 11:45:224787

氮化未來發(fā)展趨勢分析

GaN 技術(shù)持續(xù)為國防和電信市場提供性能和效率。目前射頻市場應(yīng)用以碳化硅氮化器件為主。雖然硅氮化(GaN-on-Si)目前不會威脅到碳化硅氮化的主導(dǎo)地位,但它的出現(xiàn)將影響供應(yīng)鏈,并可能塑造未來的電信技術(shù)。
2023-09-14 10:22:362157

氮化碳化硅的結(jié)構(gòu)和性能有何不同

作為第三代功率半導(dǎo)體的絕世雙胞胎,氮化MOS管和碳化硅MOS管日益受到業(yè)界特別是電氣工程師的關(guān)注。電氣工程師之所以如此關(guān)注這兩種功率半導(dǎo)體,是因為它們的材料與傳統(tǒng)的硅材料相比具有許多優(yōu)點。 氮化
2023-10-07 16:21:182776

碳化硅器件的生產(chǎn)流程,碳化硅有哪些優(yōu)劣勢?

中游器件制造環(huán)節(jié),不少功率器件制造廠商在硅制造流程基礎(chǔ)上進行產(chǎn)線升級便可滿足碳化硅器件的制造需求。當然碳化硅材料的特殊性質(zhì)決定其器件制造中某些工藝需要依靠特定設(shè)備進行特殊開發(fā),以促使碳化硅器件耐高壓、大電流功能的實現(xiàn)。
2023-10-27 12:45:366818

碳化硅氮化哪個好

碳化硅氮化的區(qū)別? 碳化硅(SiC)和氮化(GaN)是兩種常見的寬禁帶半導(dǎo)體材料,在電子、光電和功率電子等領(lǐng)域中具有廣泛的應(yīng)用前景。雖然它們都是寬禁帶半導(dǎo)體材料,但是碳化硅氮化在物理性質(zhì)
2023-12-08 11:28:514542

碳化硅功率器件的實用性不及硅功率器件

碳化硅功率器件的實用性不及硅功率器件嗎? 碳化硅功率器件相較于傳統(tǒng)的硅功率器件具有許多優(yōu)勢,主要體現(xiàn)在以下幾個方面:材料特性、功率密度、溫度特性和開關(guān)速度等。盡管碳化硅功率器件還存在一些挑戰(zhàn),但
2023-12-21 11:27:091237

氮化半導(dǎo)體和碳化硅半導(dǎo)體的區(qū)別

氮化半導(dǎo)體和碳化硅半導(dǎo)體是兩種主要的寬禁帶半導(dǎo)體材料,在諸多方面都有明顯的區(qū)別。本文將詳盡、詳實、細致地比較這兩種材料的物理特性、制備方法、電學(xué)性能以及應(yīng)用領(lǐng)域等方面的差異。 一、物理特性: 氮化
2023-12-27 14:54:184061

氮化發(fā)展難題及技術(shù)突破盤點

同為第三代半導(dǎo)體材料,氮化時常被人用來與碳化硅作比較,雖然沒有碳化硅發(fā)展的時間久,但氮化依舊憑借著禁帶寬度大、擊穿電壓高、熱導(dǎo)率大、飽和電子漂移速度高和抗輻射能力強等特點展現(xiàn)了它的優(yōu)越性。
2024-01-10 09:53:294465

碳化硅產(chǎn)業(yè)鏈圖譜

、碳化硅MOSFET等功率器件,應(yīng)用于新能源汽車、光伏發(fā)電、軌道交通、智能電網(wǎng)、航空航天等領(lǐng)域;半絕緣型襯底可用于生長氮化外延片,制成耐高溫、耐高頻的HEMT 等微波射頻器件,主要應(yīng)用于5G 通訊、衛(wèi)星、雷達等領(lǐng)域。 碳化硅產(chǎn)
2024-01-17 17:55:171411

碳化硅氮化的未來將怎樣共存

在這個電子產(chǎn)品更新?lián)Q代速度驚人的時代,半導(dǎo)體市場的前景無疑是光明的。新型功率半導(dǎo)體材料,比如碳化硅(SiC)和氮化(GaN),因其獨特的優(yōu)勢正成為行業(yè)內(nèi)的熱門話題。
2024-04-07 11:37:111454

碳化硅功率器件的優(yōu)勢和分類

碳化硅(SiC)功率器件是利用碳化硅材料制造的半導(dǎo)體器件,主要用于高頻、高溫、高壓和高功率的電子應(yīng)用。相比傳統(tǒng)的硅(Si)功率器件碳化硅功率器件具有更高的禁帶寬度、更高的臨界擊穿電場、更高的熱導(dǎo)率和更高的飽和電子漂移速度等優(yōu)異特性,這使得它們在電力電子領(lǐng)域具有極大的發(fā)展潛力和應(yīng)用價值。
2024-08-07 16:22:301938

碳化硅氮化哪種材料更好

引言 碳化硅(SiC)和氮化(GaN)是兩種具有重要應(yīng)用前景的第三代半導(dǎo)體材料。它們具有高熱導(dǎo)率、高電子遷移率、高擊穿場強等優(yōu)異的物理化學(xué)性質(zhì),被廣泛應(yīng)用于高溫、高頻、高功率等極端環(huán)境下的電子器件
2024-09-02 11:19:473434

氮化碳化硅哪個有優(yōu)勢

氮化(GaN)和碳化硅(SiC)都是當前半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的佼佼者,它們各自具有獨特的優(yōu)勢,應(yīng)用領(lǐng)域也有所不同。以下是對兩者優(yōu)勢的比較: 氮化(GaN)的優(yōu)勢 高頻應(yīng)用性能優(yōu)越 : 氮化具有較高
2024-09-02 11:26:114884

碳化硅功率器件的優(yōu)點和應(yīng)用

碳化硅(SiliconCarbide,簡稱SiC)功率器件是近年來電力電子領(lǐng)域的一項革命性技術(shù)。與傳統(tǒng)的硅功率器件相比,碳化硅功率器件在性能和效率方面具有顯著優(yōu)勢。本文將深入探討碳化硅功率器件的基本原理、優(yōu)點、應(yīng)用領(lǐng)域及其發(fā)展前景。
2024-09-11 10:44:301739

碳化硅功率器件的工作原理和應(yīng)用

碳化硅(SiC)功率器件近年來在電力電子領(lǐng)域取得了顯著的關(guān)注和發(fā)展。相比傳統(tǒng)的硅(Si)功率器件碳化硅具有許多獨特的優(yōu)點,使其在高效能、高頻率和高溫環(huán)境下的應(yīng)用中具有明顯的優(yōu)勢。本文將探討碳化硅功率器件的原理、優(yōu)勢、應(yīng)用及其未來的發(fā)展前景。
2024-09-13 11:00:371836

碳化硅 (SiC) 與氮化 (GaN)應(yīng)用 | 氮化硼高導(dǎo)熱絕緣片

SiC和GaN被稱為“寬帶隙半導(dǎo)體”(WBG)。由于使用的生產(chǎn)工藝,WBG設(shè)備顯示出以下優(yōu)點:1.寬帶隙半導(dǎo)體氮化(GaN)和碳化硅(SiC)在帶隙和擊穿場方面相對相似。氮化的帶隙為3.2eV
2024-09-16 08:02:252049

為什么650V SiC碳化硅MOSFET全面取代超結(jié)MOSFET和高壓GaN氮化器件?

650V SiC碳化硅MOSFET全面取代超結(jié)MOSFET和高壓GaN氮化器件
2025-01-23 16:27:431780

納微半導(dǎo)體氮化碳化硅技術(shù)進入戴爾供應(yīng)鏈

近日,GaNFast氮化功率芯片和GeneSiC碳化硅功率器件的行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)者——納微半導(dǎo)體(納斯達克股票代碼:NVTS)今日宣布其氮化碳化硅技術(shù)進入戴爾供應(yīng)鏈,為戴爾AI筆記本打造功率從60W至360W的電腦適配器。
2025-02-07 13:35:081237

基于氮化碳化硅功率MOSFET高頻諧振柵極驅(qū)動器

對于碳化硅(SiC)或氮化(GaN)等寬禁帶(WBG)功率器件而言,優(yōu)化的柵極驅(qū)動尤為重要。此類轉(zhuǎn)換器的快速開關(guān)需仔細考量寄生參數(shù)、過沖/欠沖現(xiàn)象以及功率損耗最小化問題,而驅(qū)動電路在這些方面都起著
2025-05-08 11:08:401153

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