我們看下一個先進封裝的關鍵概念——晶圓級封裝（Wafer Level Package，WLP）。

簡單來說：晶向就是晶體內部原子沿某種方向排列的“路徑”。晶向通常用方括號 [hkl] 表示方向，用圓....

CVD 技術是一種在真空環(huán)境中通過襯底表面化學反應來進行薄膜生長的過程，較短的工藝時間以及所制備薄膜....

光纖激光器是一種放大介質為光纖的激光器。它是一個需要供電的有源模塊(就像電子產(chǎn)品中的有源電子元件)，....

微電子封裝技術每15年左右更新迭代一次。1955年起，晶體管外形（TO）封裝成為主流，主要用于封裝晶....

業(yè)界普遍認為，倒裝封裝是傳統(tǒng)封裝和先進封裝的分界點。

FPGA（Field Programmable Gate Array，現(xiàn)場可編程門陣列），是一種可在....

在半導體芯片中，數(shù)十億晶體管需要通過金屬互連線（Interconnect）連接成復雜電路。隨著制程進....

直拉硅單晶生長的過程是熔融的多晶硅逐漸結晶生長為固態(tài)的單晶硅的過程，沒有雜質的本征硅單晶的電阻率很高....

在半導體制造流程中，晶圓在前端工藝階段需保持一定厚度，以確保其在流片過程中的結構穩(wěn)定性，避免彎曲變形....

Plating(電鍍)是一種電化學過程，通過此過程在基片(wafer)表面沉積金屬層。在微電子領域，....

隨著極紫外光刻（EUV）技術面臨光源功率和掩模缺陷挑戰(zhàn)，X射線光刻技術憑借其固有優(yōu)勢，在特定領域正形....

本文介紹了通過LPCVD制備氮化硅低應力膜 氮化硅膜在MEMS中應用十分廣泛，可作為支撐層、....

CPU Socket是連接中央處理單元（CPU）與計算機主板之間的關鍵部件，它充當著傳遞電信號、電源....

半導體的典型封裝工藝流程包括芯片減薄、芯片切割、芯片貼裝、芯片互連、成型固化、去飛邊毛刺、切筋成型、....

當激光器導通時，開始產(chǎn)生自發(fā)輻射的光子直到載流子密度超過一個閾值。因而，產(chǎn)生受激輻射，也就是說，真實....

圓片級封裝（WLP），也稱為晶圓級封裝，是一種直接在晶圓上完成大部分或全部封裝測試程序，再進行切割制....

計量學是推動當前及未來幾代半導體器件開發(fā)與制造的重要基石。隨著技術節(jié)點不斷縮小至100納米，甚至更小....

晶圓制備是材料科學、熱力學與精密控制的綜合體現(xiàn)，每一環(huán)節(jié)均凝聚著工程技術的極致追求。而晶圓清洗本質是....

在半導體存儲器測試中，測試圖形（Test Pattern）是檢測故障、驗證可靠性的核心工具。根據(jù)測試....

本文介紹了在芯片銅互連工藝中需要阻擋層的原因以及關鍵工藝流程。

選擇性外延生長(SEG)是當今關鍵的前端工藝(FEOL)技術之一，已在CMOS器件制造中使用了20年....

在半導體制造流程中，晶圓揀選測試（Wafer Sort）堪稱芯片從“原材料”到“成品”的關鍵質控節(jié)點....

本文系統(tǒng)梳理了直寫式、多電子束與投影式EBL的關鍵技術路徑，涵蓋掃描策略、束流整形、鄰近效應校正與系....

本文總結了FPGA選型的核心原則和流程，旨在為設計人員提供決策依據(jù)，確保項目成功。

光刻膠類型及特性光刻膠（Photoresist），又稱光致抗蝕劑，是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其....

微管是SiC晶體中極為有害的缺陷，哪怕數(shù)量極少，也會對SiC器件的性能產(chǎn)生毀滅性打擊。在傳統(tǒng)物理氣相....

本文介紹了6G技術的關鍵技術之一：通訊非地面網(wǎng)絡。

本文簡單介紹了芯片離子注入后退火會引入的工藝問題：射程末端（EOR）缺陷、硼離子注入退火問題和磷離子....

芯片，是人類科技的精華，也被稱為現(xiàn)代工業(yè)皇冠上的明珠。芯片的基本組成是晶體管。晶體管的基本工作原理其....