晶體管的基本結(jié)構(gòu)和發(fā)展歷程
隨著集成電路科學(xué)與工程的持續(xù)發(fā)展,當(dāng)前集成電路已涵蓋二極管、晶體管、非易失性存儲(chǔ)器件、功率器件、光子....
集成電路制造中封裝失效的機(jī)理和分類
隨著封裝技術(shù)向小型化、薄型化、輕量化演進(jìn),封裝缺陷對(duì)可靠性的影響愈發(fā)凸顯,為提升封裝質(zhì)量需深入探究失....
集成電路中場(chǎng)效應(yīng)晶體管的寄生參數(shù)提取方法
柵極電阻的存在對(duì)電路性能的影響很大,會(huì)引入熱噪聲,增大電路的噪聲系數(shù),影響器件的開關(guān)速度和最大振蕩頻....
HBM技術(shù)在CowoS封裝中的應(yīng)用
HBM通過使用3D堆疊技術(shù),將多個(gè)DRAM(動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器)芯片堆疊在一起,并通過硅通孔(TSV....
電源管理芯片常見術(shù)語
PMIC (Power Management Integrated Circuit):電源管理集成電....
一文詳解TEM中的非彈性散射和電子束損傷
為什么非彈性散射值得我們關(guān)注?因?yàn)檫@類散射過程產(chǎn)生了多種信號(hào),每種信號(hào)都能提供比彈性電子更豐富的樣品....
一文詳解空間輻射誘發(fā)單粒子效應(yīng)
在空間輻射環(huán)境下,高能質(zhì)子與重離子的作用會(huì)誘發(fā)單粒子效應(yīng)。誘發(fā)這類單粒子效應(yīng)的空間輻射,主要來源于兩....
PDK在集成電路領(lǐng)域的定義、組成和作用
PDK(Process Design Kit,工藝設(shè)計(jì)套件)是集成電路設(shè)計(jì)流程中的重要工具包,它為設(shè)....
TEM中散射和衍射的基本原理
電子是低質(zhì)量、帶負(fù)電荷的粒子,經(jīng)過其他電子或原子核附近時(shí)易被庫(kù)侖相互作用偏轉(zhuǎn)。這種靜電作用引起的散射....
NAND Flash的基本原理和結(jié)構(gòu)
NAND Flash是什么?NAND Flash(閃存)是一種非易失性存儲(chǔ)器技術(shù),主要用于數(shù)據(jù)存儲(chǔ)。....
一文詳解單粒子效應(yīng)的電荷收集
在探討單粒子翻轉(zhuǎn)基本機(jī)理時(shí),深入理解并掌握各類電荷收集過程及其作用機(jī)理至關(guān)重要,這些過程與機(jī)理對(duì)明確....
一文詳解半導(dǎo)體器件中的單粒子效應(yīng)
我們知道,帶電離子穿透半導(dǎo)體材料的過程中,會(huì)與靶材原子發(fā)生交互作用,沿離子運(yùn)動(dòng)軌跡生成電子 - 空穴....
LOCOS工藝中鳥喙效應(yīng)的形成原因和解決措施
集成電路采用LOCOS(Local Oxidation of Silicon)工藝時(shí)會(huì)出現(xiàn)“鳥喙效應(yīng)....
簡(jiǎn)單認(rèn)識(shí)MEMS晶圓級(jí)電鍍技術(shù)
MEMS晶圓級(jí)電鍍是一種在微機(jī)電系統(tǒng)制造過程中,整個(gè)硅晶圓表面通過電化學(xué)方法選擇性沉積金屬微結(jié)構(gòu)的關(guān)....
芯片封裝的功能、等級(jí)以及分類
在摩爾定律趨近物理極限、功率器件制程仍停留在百納米節(jié)點(diǎn)的背景下,芯片“尺寸縮小”與“性能提升”之間的....
金屬鉻在微機(jī)電系統(tǒng)中的應(yīng)用
在微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)領(lǐng)域,金屬鉻(Cr)因其獨(dú)特的物理化學(xué)性質(zhì)和工藝兼容性而被廣泛應(yīng)用。其物理化....
芯片收縮對(duì)功率半導(dǎo)體器件封裝領(lǐng)域發(fā)展的影響
在功率半導(dǎo)體邁向180-250 nm先進(jìn)節(jié)點(diǎn)、SoC與SiP并行演進(jìn)、扇入/扇出晶圓級(jí)封裝加速分化之....